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Fターム[4D006MB15]の内容

半透膜を用いた分離 (123,001) | 膜の性質 (5,336) | 熱的性質、耐熱性 (361)

Fターム[4D006MB15]に分類される特許

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本発明は、複合ガス分離モジュールの製造における欠陥を矯正する方法、および該方法を含むプロセスによって形成される複合ガス分離モジュールに関する。本発明はまた、水素ガス含有ガス流から水素ガスを選択的に分離する方法に関する。複合ガス分離モジュールの製造における欠陥を矯正する方法は、パラジウムを含有する第一の材料を多孔質基材上に堆積させ、それにより、被覆された基材を形成することを含み、ここで、被覆された基材は少なくとも1つの欠陥を含む。次いで、被覆された基材は欠陥に最も近くで選択的に表面活性化でき、それにより、被覆された基材の少なくとも1つの選択的に表面活性化された領域を形成する。次いで、第二の材料を、被覆基材の選択的に表面活性化された領域に優先的に堆積させることができ、それにより欠陥は矯正される。

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