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Fターム[4F205AM31]の内容

Fターム[4F205AM31]に分類される特許

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【課題】省スペースで製造することが可能であり、面状欠点の少ない核酸の分離精製に適した孔径に製造することができる微細多孔質膜の製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】水平方向に走行する帯状基材1に、水と水よりも低沸点な溶剤とアセチルセルロースとを少なくとも含有する製膜原液を流延して前記帯状基材1上に流延膜を形成する流延工程と、該流延膜を乾燥する乾燥工程と、を有するセルロースエステル微細多孔質膜の製造方法において、前記乾燥工程のうち、前記帯状基材1に流延膜を形成した直後から15分以内の初期乾燥においては、前記流延膜を無風状態で20〜40℃の雰囲気温度で乾燥する無風乾燥工程を行うことを特徴とするセルロースエステル微細多孔質膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】
フイルム表面欠点レベルを向上せしめ、後工程の磁性層塗布、蒸着工程において安定した加工性が得られる溶液製膜フイルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
回転する支持体にポリマーと溶媒とを含むポリマー溶液を吐出し、このポリマー溶液から自己支持性を有するまで溶媒を除去し、支持体から剥離してフイルムを得る溶液製膜フイルムの製造方法であって、ポリマー溶液の支持体への着地線から、支持体の回転方向の上流側に向かって、ポリマー溶液の支持体からの剥離線までの支持体上の領域(支持体露出領域)上の一部、好ましくは全部を覆うチャンバーを有し、このチャンバー内をクラス100以下のエアの雰囲気下に置くとともに、このチャンバーで覆われた空間をその他の空間よりも陽圧状態とする。 (もっと読む)


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