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Fターム[4F208MH28]の内容

Fターム[4F208MH28]に分類される特許

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【課題】基材の湾曲部に被覆した表皮において、表皮の厚みのバラツキが抑制されたインストルメントパネルの真空成形方法を提供する。
【解決手段】インストルメントパネル1の真空成形方法では、基材側真空吸引型51と表皮側真空吸引型52との型締め時に、表皮20の基材側真空吸引型51と表皮側真空吸引型52との干渉量が少なく、かつその干渉量がインストルメントパネル1の幅方向PWでバランスする角度に表皮20を傾斜保持させている。 (もっと読む)


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