【課題】数ナノから数十ナノレベルのパターンを解像でき、かつ極めて強固なドライエッチング耐性を有し、ナノサイズの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料の提供。
【解決手段】含金属錯塩染料と有機溶剤を含有し、かつ該染料は有機溶剤に溶解していることを特徴とする耐ドライエッチング性を有する光または熱硬化型ナノインプリント用樹脂組成物。 （もっと読む）