Fターム[4G001BD07]の内容
Fターム[4G001BD07]に分類される特許
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高熱伝導性含Si材料及びその製造方法
【課題】 熱伝導率の低下を防止するとともに、高い熱伝導率を安定に発現させることができる高熱伝導性含Si材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 室温における格子定数が0.54302nmを超過し、且つ0.54311nm以下に制御されたSi相を含む高熱伝導性含Si材料である。含B化合物を含有しない窯材料を用いて焼成する。
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