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Fターム[4G047KD03]の内容

Fターム[4G047KD03]に分類される特許

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【課題】低コストで結晶の緻密度や配向性の高い酸化物超電導体の薄膜を形成することが可能な酸化物超電導線材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る酸化物超電導線材の製造方法は、酸化物超電導体からなる粉末を準備する工程(S10)と、粉末をエアロゾル化する工程(S30)と、エアロゾル化する工程により形成されたエアロゾルを、基板の主表面上に噴射する工程(S40)とを備える。上記粉末は酸化物超電導体を形成するための前駆体からなる粉末であってもよい。噴射する工程の後に、噴射する工程により形成される薄膜を酸化物超電導体の緻密膜に変換する工程(S50)をさらに備えており、変換する工程における薄膜の内部の温度が、薄膜の基板から離れた領域から基板に近づくにつれて高くなることが好ましい。 (もっと読む)


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