Fターム[4G047KG08]の内容
Fターム[4G047KG08]に分類される特許
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超伝導ホウ素化合物MgB2薄膜の作成方法
【課題】真空ポンプを用いないプロセスでMgB2薄膜合成を行う手法を提供する。
【解決手段】超伝導ホウ素化合物MgB2薄膜の作成方法であって、塩化マグネシウム(MgCl2)、塩化ナトリウム(NaCl)、塩化カリウム(KCl)、ホウ酸マグネシウム(MgB2O4)、及び必要に応じホウ素(B)を混合した粉状出発材が収納された反応容器を加熱炉内に配置し、反応容器の周囲をアルゴンガス雰囲気としながら、加熱炉によって粉状出発材を加熱して溶融し、反応容器に設置した電極間に直流電流を印可して、溶融体に電流が流れることを確認後、静置して室温に戻す。
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超伝導MgB2膜の電気メッキによる作製法
【課題】臨界電流密度(Jc)を従来製品に比べ飛躍的に向上させることのできる超伝導MgB2膜の電気メッキによる作製法を提供すること。
【解決手段】Mg(マグネシウム)とB(ホウ素)を含む加熱溶融したメッキ浴に、Mg(OH)2(水酸化マグネシウム)が、メッキ浴に含まれるMgのモル比を1とした時、0.015〜0.020のモル比で添加され、メッキ浴に導電体基板を陰極として挿入し、陽極との間に直流電圧をかけ、導電体基板上にMgB2(二ホウ化マグネシウム)膜を形成させる。
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