説明

Fターム[4G069FB60]の内容

触媒 (14,770) | プロセス (1,240) | ウィスカ形成 (1)

Fターム[4G069FB60]に分類される特許

1 - 1 / 1


【課題】捕捉効率を向上するとともに、圧力損失の低下を抑制した浄化フィルター、その製造方法及び排気ガス浄化装置を提供すること。
【解決手段】原料基体上にウィスカーを形成して成る浄化フィルターであって、
上記原料基体が、Mn、Al、Cr、In、Ag、Ga、Sn、Cu、Sc、Ge、Ti及びSiなどを含む合金やセラミックスより成る原料基体上にウィスカーを形成して成る浄化フィルターである。原料基体は、平均細孔径がウィスカーの平均径より大きい多孔質体とする。原料基体は、担体内に粉粒体を充填して成る。
原料基体に含まれる元素の含有率を調整し、不活性雰囲気中且つ微量酸素の存在下で加熱処理して、形成するウィスカーの太さ及び長さを制御して浄化フィルターを製造する。
浄化フィルターを2層以上用い、上流側に原料基体上に形成されたウィスカーの平均長さ及び太さが大きい浄化フィルター、下流側にそれらが小さい浄化フィルターを配設して成る排気ガス浄化装置である。 (もっと読む)


1 - 1 / 1