本発明は、高エネルギの電子ビーム（１０）を用いて成形品（２）を処理する装置であって、電子ビーム（１０）が、互いに向かい合っている定置の又は可動の２つの電子出射窓を通して、成形品（２）に導かれ、該両電子出射窓が、成形品（２）のための処理室（６）を画成している形式のものに関する。このような形式の装置において本発明の構成では、成形品（２）のための搬送装置が設けられていて、該搬送装置を用いて成形品（２）は、搬送方向に対して垂直にかつほぼ鉛直に配置された電子出射窓（７，８）のそばを、処理室（６）を貫いて案内可能であり、成形品（２）の供給搬送のために、処理室（６）におけるＸ線に対して遮蔽された通路（３，３ａ，３ｂ，３ｃ）が配置されている。
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【課題】 真空容器の真空状態を解除して行う堆積物除去作業の頻度をより少なくできるハース機構及び成膜装置、並びに該ハース機構に好適に用いられるハンドリング機構を提供する。
【解決手段】 ハース機構２は、成膜材料Ｍａを保持する主ハース２１と、主ハース２１を取り囲む側壁２２ｂ〜２４ｂを有しており主ハース２１の周囲に多重に配置された複数のカバー２２〜２４を有する。カバー２２〜２４は、成膜材料Ｍａの堆積物Ｄによる主ハース２１と補助陽極６との短絡を防止する。また、堆積物Ｄが溜まったカバー２２、２３を順次移動することにより、カバー２２〜２４の全てに堆積物Ｄが溜まるまで真空容器１０の真空状態を維持したまま成膜作業を行えるので、真空容器１０の真空状態を解除して行う堆積物除去作業の頻度をより少なくできる。 （もっと読む）

【課題】 絶縁破壊を起こすための電界強度を抑えるとともにガス流通空間の容積を広く維持する。
【解決手段】 ガス流通空間１０に非平衡プラズマを発生させて処理対象物質を含有する被処理ガスａを処理するガス処理方法であって、対向して互いに平行に配設されてガス流通空間１０をなす２枚の平板状接地電極１１ａ．１１ｂの対向間に、平板状接地電極１１ａ，１１ｂの対向面に対して垂直方向に間隔をあけて配設された２本のワイヤー状高電圧印加電極１２ａ，１２ｂによって非平衡プラズマを発生する。 （もっと読む）