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Fターム[4G077BE19]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 材料−〜化物 (3,360) | 酸窒化物、炭窒酸化物 (1)

Fターム[4G077BE19]に分類される特許

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【課題】格子定数が広範囲にわたり可変であり、且つ結晶性に優れた基板およびその製造方法を提供する。また上記基板上に形成された半導体素子を提供する。
【解決手段】6回対称軸をを有する結晶からなる第1の層11と、該結晶上に形成される金属酸窒化物結晶からなる第2の層12を有し、第2の層12が、In、Ga、Si、Ge及びAlからなる群から選択される少なくとも1つの元素と、NとOとZnとを主要元素として含み、且つ第2の層12が面内配向性を有する積層構造体を備えたウルツ鉱型結晶成長用基板。 (もっと読む)


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