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Fターム[4G077PF00]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 制御又は調整 (738)

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Fターム[4G077PF00]に分類される特許

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【課題】 LEC法により結晶径150mm以上の大口径の化合物半導体単結晶を製造するに際し、成長する結晶の固液界面を最適な形状として、多結晶化を防止することにある。
【解決手段】 LEC法により結晶径が150mm以上の大口径の化合物半導体単結晶を製造する方法において、単結晶製造中の結晶回転数を8〜12(rpm)の範囲に定める。 (もっと読む)


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