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Fターム[4G077SA04]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | PVD (1,258) | 成長結晶の形状(例;塊状) (773) | 基板上に成長 (401)

Fターム[4G077SA04]に分類される特許

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【課題】マイクロパイプ欠陥、螺旋転位、刃状転位、及び積層欠陥をほとんど含まず、高品質のSiC単結晶並びにSiC種結晶を提供すること。
【解決手段】第1成長工程においては、{1−100}面からオフセット角度±20°以下の面、または{11−20}面からオフセット角度±20°以下の面を第1成長面として第1成長結晶を作製し、中間成長工程においては、第(n−1)成長面より45〜90°傾き、且つ{0001}面より60〜90°傾いた面を第n成長面として第n成長結晶を作製し、最終成長工程においては、第(N−1)成長結晶の{0001}面よりオフセット角度±20°以下の面を最終成長面35として、上記最終成長面35上に螺旋転位及び刃状転位が低減されたバルク状のSiC単結晶30を成長させる。 (もっと読む)


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