Fターム[4G077TH00]の内容
結晶、結晶のための後処理 (61,211) | ガスの供給、排出手段、反応ガス流の調節 (240)
Fターム[4G077TH00]の下位に属するFターム
原料ガス発生部 (28)
ガスの流し方 (158)
ガス吹出部(噴出口) (38)
その他 (16)
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