一の場所に存在する病原体を破壊および／または一の場所に存在する生物膜（例えばＭＲＳＡまたはレジオネラ）を除去することができる清浄化組成物は、水溶液中に：
少なくとも１種の界面活性剤、好ましくは非イオン界面活性剤；
少なくとも１種の抗微生物剤、好ましくはビグアニドおよび／または四級アンモニウム化合物；
少なくとも１種の酸、好ましくは有機酸；および
二酸化塩素
を含有する。
一方はアルカリ媒体中で安定化された二酸化塩素を含み、他方は酸を含む２種の前駆体組成物を製造することにより、清浄化組成物を形成させる。これらの前駆体組成物を混合して、濃縮組成物を形成させる。滞留時間を与える。滞留時間が経過したら、濃縮組成物を水で希釈し、生じた清浄化組成物を使用することができる。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクスの基板を洗浄するための水性洗浄組成物およびその洗浄組成物の使用方法。それらの組成物は、そのような基板を本質的に完全に洗浄でき、そのような基板の金属要素の金属腐食を本質的にもたらさない。本発明の水性洗浄組成物は、（ａ）水、（ｂ）少なくとも１種のアンモニウムおよび第四級アンモニウムイオン、および（ｃ）少なくとも１種の次亜リン酸（Ｈ_２ＰＯ_２⁻）および／または亜リン酸（ＨＰＯ_３^２−）イオンを有する。洗浄組成物は、フッ化物イオンを含んでもよい。場合により、組成物は、有機溶媒、酸化剤、界面活性剤、腐食阻害剤および金属錯体化剤などの他の成分を含有してもよい。 （もっと読む）