【課題】本発明の目的は、通常露光（ドライ露光）によるパターニングにおいて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】転移温度以下で超分子構造を形成する材料、そのプロセス及び用途を提供する。
【解決手段】転移温度以下で超分子構造を形成する材料であって、少なくとも１つのC=O及び/又はC=S基及び少なくとも1つのN-H、O-H及び/又はS-H基を含み、下記構造：A(-X-B)_n(1)［式中、Ａは環状、芳香族及び／又は脂肪族基であり、ｎは１〜４の数であり、下記構造(2)-(4):-NH-C(Y)-Y-B(2)、-NH-C(Y)-NR-B(3)、-Y-C(Y)-NH-B(4)（ここで、Ｙは酸素及び／又は硫黄原子であり、Ｂは少なくとも１つのヘテロ原子を有する有機基であり、該ヘテロ原子はＢが線状又は環状であるとき少なくとも２つの炭素原子に結合し、該ヘテロ原子はＢが分枝状であるとき少なくとも１つの炭素原子に結合し、Ｒは水素原子、環状、芳香族及び／又は脂肪族基、又は同一又は異なる別のＢ基である）の内の１つを有する］を有する材料。 （もっと読む）