説明

Fターム[4J031CA47]の内容

炭素−炭素不飽和結合外反応のその他樹脂等 (9,672) | 重合方法 (859) | 重合形態 (194) | 気相重合 (4)

Fターム[4J031CA47]に分類される特許

1 - 4 / 4


【課題】本発明は、二酸化炭素を有用な有機製品に変換するプラズマ法を提供する。
【解決手段】本方法において、二酸化炭素及びカウンターパート分子は反応チャンバ内で混合されて、プラズマ励起を用いて化学反応を引き起こす。入力パワーの強度及びカウンターパートの分子構造に応じて、最終的な製品は、ポリマー、オリゴマーまたは低分子量の小分子になり得る。二酸化炭素の変換効率及び結果物の製品の化学構造は、カウンターパート分子の選択に強く依存する。このプラズマ技術を通して、二酸化炭素は、プラスチックや燃料等の有用な物質に変換される。本方法は、地球温暖化だけではなく、新規物質及びエネルギーを生成するためにも用いられる。 (もっと読む)


分子層堆積法を用いて有機ポリマー又は有機−無機複合ポリマーの超薄層を基板上に堆積する。この方法は、第1の官能基を有する気相反応物を用いる。この気相反応物は表面に単官能性でのみ反応して、ポリマー鎖に一つの単位を追加する。更に、追加の気相反応物は第1の官能基とは異なる第2の官能基を有するか、又はブロックされ、マスクされ若しくは保護された官能基、又はこのような官能基の前駆体を有する。
(もっと読む)


【課題】 半導体集積回路装置における多層配線に用いられる低誘電率の絶縁膜として有用な膜を提供する。
【解決手段】 特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。 (もっと読む)


【解決課題】 低誘電率と高機械強度を両立する絶縁膜を得ること
【解決手段】 エチル基、ビニル基、エチニル基、プロピル基、アリル基、ブチル基またはフェニル基よりなる群から選ばれる置換基を有する環状シロキサンを含むCVD用絶縁膜原料組成物及び、該CVD用絶縁膜原料組成物を気化または昇華して生成させたガスを、基材を静置した反応容器に導入した後、該ガスをプラズマ化して該基材上に絶縁膜を形成する絶縁膜の形成方法。 (もっと読む)


1 - 4 / 4