本発明は、リソグラフィ特性（エッチング耐性、透過性、解像度、感応性、焦点余裕度、ラインエッジラフネス及び粘着性）を改良した、フォトレジストとして好適なシルセスキオキサン樹脂；フッ素化官能基又は非フッ素化官能基をシルセスキオキサンの主鎖に組み入れる方法に関する。本発明のシルセスキオキサン樹脂は、一般構造（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂを有する；式中、Ｒは酸解離性基であり、ａは０．２〜０．９の値を有し、ｂは０．１〜０．８の値を有し、且つ０．９≦ａ＋ｂ≦１．０である。 （もっと読む）