説明

Fターム[4K021DB34]の内容

非金属・化合物の電解製造、そのための装置 (13,231) | 隔膜槽 (2,871) | 陽イオン交換膜を備える (398) | 粗又は多孔質表面を有する (3)

Fターム[4K021DB34]に分類される特許

1 - 3 / 3


【課題】従来に比べて高性能化及び高効率化を図ることのできる電気化学セルを提供する。
【解決手段】イオン伝導体である固体電解質層と、固体電解質層の一方の面に形成された第1多孔質電極層と、固体電解質層の他方の面に形成された第2多孔質電極層と、固体電解質層、第1多孔質電極層、第2多孔質電極層を支持するための導電性多孔質支持体を備え、導電性多孔質支持体の表面とガスが接触した状態で流通するガス流通路が設けられた電気化学セルであって、導電性多孔質支持体が気孔率の異なる部分を有し、かつ、気孔率の異なる部分が、ガス流通路のガス流通方向の上流側で気孔率が低く下流側で気孔率が高くなっている。 (もっと読む)


【課題】高強度を保持して空隙率を良好に向上させるとともに、部品点数を削減し且つ経済的に得ることを可能にする。
【解決手段】アノード側セパレータ34は、アノード側給電体54を一体化する。アノード側給電体54は、第1流路56を形成する流路層54aと、前記流路層54a上に設けられ、前記流路層54aよりも細孔に設定される中間層54bと、前記中間層54b上に設けられ、前記中間層54bよりも細孔に設定されるとともに、固体高分子電解質膜38に接する膜支持層54cとを有する。流路層54a、中間層54b及び膜支持層54cは、減圧プラズマ溶射によりアノード側セパレータ34に、順次、成形される。 (もっと読む)


【課題】従来技術では達成できなかった高濃度過硫酸の電解合成を可能にする方法及び装置を提供する。
【解決手段】導電性ダイヤモンド陽極を使用し、補強が施されたフッ素樹脂系陽イオン交換膜又は親水化処理を行った多孔質フッ素系樹脂膜である隔膜により陰極室から区画した電解槽の陽極室に収容された96%以上の濃硫酸を電解して、高濃度過硫酸を合成する。原料が高濃度であるため、生成する過硫酸も高濃度になる。更に電解液中少量の水しか存在しないため、水電解による酸素やオゾン生成の副反応が減少して高電流密度で過硫酸を製造できる。 (もっと読む)


1 - 3 / 3