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Fターム[4M112FA01]の内容

圧力センサ (26,807) | 目的、効果 (2,451) | 感度向上 (347)

Fターム[4M112FA01]に分類される特許

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【課題】 圧力検出用のダイアフラムを有する金属ステムのダイアフラムの表面に、歪みゲージを有する半導体基板を固定してなる圧力センサにおいて、感度の向上および精度の向上に適した構成を実現する。
【解決手段】 金属ステム10のダイアフラム11の表面に、歪みゲージ24を有する半導体基板20が取り付けられてなる圧力センサ100において、半導体基板20は、絶縁層23を第1および第2の半導体層21、22で挟んでなる積層構造を有し、第1の半導体層21には、第1の半導体層21の表面から絶縁層23にまで到達するトレンチ25により絶縁分離されたパターン形状を有する歪みゲージ24が形成され、第2の半導体層22のうち歪みゲージ24に対応する部位には、絶縁層23にまで達する凹部28が形成され、ダイアフラム11は凹部28内に入り込み凹部28の底面を構成する絶縁層23に取り付けられている。 (もっと読む)


超小型電子機械(MEMS)ジャイロスコープが、バネによって基板に機械的に結合された1つまたは複数のプルーフマスを有する。二重プルーフマスのジャイロスコープのケースでは、原動力がプルーフマスをそれらの共振周波数で一方向に、互いに180度位相をずらせて駆動する。検知用電極がコリオリ力に応答したプルーフマスの運動を検知する。コリオリ力によって引き起こされる運動は原動力によって引き起こされる運動に対して直角方向である。コリオリ力のパラメータ増幅を提供するためにモータ周波数の2倍のACポンプ電圧が検知用電極に印加される。ACポンプ電圧がジャイロスコープの機械的および電気的利得を変える。
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【課題】 出力が2倍に出来、信号増加によるS/N比が向上された振動式圧力センサを実現する。
【解決手段】 測定圧が加えられる測定ダイアフラムと、この測定ダイアフラムに設けられた半導体よりなる振動梁とを具備する振動式圧力センサにおいて、
互いに平行に配置された第1,第2の振動梁と前記第1の振動梁と第2の振動梁とを連結する少なくとも1個の連結梁部とを有する振動梁本体と、前記第1の振動梁と第2の振動梁の軸方向の少なくとも一側面側に設けられ導電体よりなる駆動振動梁部と、前記第1の振動梁と第2の振動梁の軸方向の他側面側にそれぞれ設けられた第1,第2の導電体よりなる検出振動梁部とを具備したことを特徴とする振動式圧力センサである。 (もっと読む)


【課題】ピエゾ抵抗型圧力センサにおけるダイヤフラムの形成領域を増加させることなしに、検出感度の向上を図る。
【解決手段】半導体基板を用いるピエゾ抵抗型圧力センサにおいて、ダイヤフラムsの辺の中央付近からダイヤフラムの中心に向かって支持枠の一部分を突出部10として突出させる。突出部10を設けたことによって、突出部10の先端近傍に応力集中位置が形成される。この応力集中位置に、ピエゾ抵抗(拡散抵抗)からなるピエゾ抵抗型圧力検出部4a,4bを配置する。 (もっと読む)


【課題】非常に小型の半導体圧力センサーにおいて、ダイヤフラムに対して十分に強い強度を確保しつつ、高感度を達成する。
【解決手段】被測定圧力を受けて変位可能なダイヤフラム1が、n型シリコン単結晶領域2とその表裏に形成された絶縁膜によって形成されている。n型シリコン単結晶領域2には、ダイヤフラム1の部分において、歪み検出素子として機能する拡散抵抗層7が形成されている。n型シリコン単結晶領域2の、拡散抵抗層7が形成された表面上の絶縁膜であるSiO膜4とSiN膜5の合計膜厚は、裏面上の絶縁膜であるSiON膜3の膜厚より薄い。 (もっと読む)


【課題】小さなダイヤフラムサイズであっても高感度の半導体圧力センサを提供する。
【解決手段】半導体圧力センサ1は、ダイヤフラム3が形成されたSOI基板2と、SOI基板2上に設けられた4つのピエゾ抵抗素子R1〜R4とを有する。各ピエゾ抵抗素子R1〜R4のうち互いに対向する2つのピエゾ抵抗素子R1〜R4は、ダイヤフラム3のエッジから中心へ向かう方向と平行な部分の、ダイヤフラム3の内側でのダイヤフラム3のエッジからの距離LX≦20μmとなるように、ダイヤフラム3の内側と外側とに跨って、かつ、ダイヤフラム3のエッジから中心へ向かう向きと平行に配置されている。 (もっと読む)


耐衝撃性が高く、X軸、Y軸およびZ軸ピエゾ抵抗素子の出力の差が小さく、小型で高感度、高出力の半導体型3軸加速度センサを提供する。 可撓腕が可撓幅広部と可撓平行部で構成され、可撓幅広部に最大応力部があり、最大応力部にピエゾ抵抗素子の一端が来るように可撓腕上面上にピエゾ抵抗素子を設ける。可撓腕の幅中心線の近傍にZ軸ピエゾ抵抗素子、幅中心線から離れてX軸/Y軸ピエゾ抵抗素子を設ける。また、最大応力部から可撓腕の長さ方向にZ軸ピエゾ抵抗素子をずらすことで、X軸とY軸、Z軸ピエゾ抵抗素子間の出力差を小さくする。 (もっと読む)


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