【課題】 偏向器アレイに含まれる電極に電位を与えるデバイスの少なさの点で有利な描画装置の提供。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、を有し、前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少ない、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】描画精度を低下させる要因毎の補正係数を効率よく求めて、精度よく描画することのできる荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】近接した小パターン１〜４からなる複数のパターン１０ａ〜１０ｄを準備する。ステージを加減速しながら移動させて試料に第１の小パターン１のみをＸ方向に順に描画した後、同様にして第２の小パターン２のみを−Ｘ方向に順に描画する。次に、ステージを等速で移動させながら試料に第３の小パターン３のみをＸ方向に順に描画した後、同様にして第４の小パターン４のみを−Ｘ方向に順に描画する。描画した小パターン１〜４の各位置情報を用いて次式から速度補正係数αと加速度補正係数βを算出する。
Ｐ_１−Ｐ_２＝２αＶ（Ｐ）、（Ｐ_１＋Ｐ_２）−（Ｐ_３＋Ｐ_４）＝２βＡ（Ｐ） （もっと読む）

【課題】 偏向信号源側への負荷の増大を招くことなく、高い周波数での電子ビームの高精度大振幅偏向を可能にする。
【解決手段】 電子ビームを発生する電子源と、電子ビームを集束するレンズと、電子ビームを偏向する偏向器とを有し、電子源から発生した電子ビームを試料面上の所望の位置に照射する電子ビーム描画装置であって、偏向器３１は、偏向信号を外部入力用ケーブル５２を介して入力する共振回路の一部であり、外部入力用ケーブル５２から見たときの共振回路の共振周波数でのインピーダンスが外部入力用ケーブル５２の特性インピーダンスとほぼ等しくなるように設定され、偏向信号の周波数は、共振回路の共振周波数とほぼ一致するように設定されている。 （もっと読む）

【目的】より描画時間を短縮させる方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を偏向せずに通過させることでビームＯＮさせ、偏向することでビームＯＦＦさせるＢＬＫ偏向器２１２と、電子ビーム２００を偏向して成形する成形偏向器２０５と、電子ビーム２００を試料１０１の所定の位置に偏向する対物偏向器２０８と、を備え、上述した偏向器のうち少なくとも２つの偏向器が、同時期に異なるショットの電子ビーム２００を偏向制御することを特徴とする。本発明の一態様によれば、次のショットを早く照射することができるので、その分、描画時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】帯電防止膜が用いられる場合よりも帯電防止膜を塗布・剥離する時間およびコストを削減しつつ、マスク30のレジスト表面30aに照射される荷電粒子ビーム1b1'の描画位置精度を向上させる。
【解決手段】大気圧領域13から真空領域11にマスク30を搬入し、描画室1aのステージ1a1上にマスク30を載置し、荷電粒子銃1b1からの荷電粒子ビーム1b1'によってマスク30のレジスト表面30aにパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置100において、マスク30が真空領域11から大気圧領域13に搬出される前に、マスク30のレジスト表面30aのうち、荷電粒子ビーム1b1'によってパターンが描画された描画済み部分の電荷分布を電荷分布測定手段3b2により測定し、その電荷分布に基づいて荷電粒子ビーム1b1'の描画位置補正量を算出する。 （もっと読む）

【目的】負荷の影響をより少なくしたアンプの異常検出装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のアンプの異常検出装置１０は、第１と第２のアナログ信号を互いに同期させて入力し、第１とアナログ信号を増幅して出力するアンプ１２と第２とアナログ信号を増幅して出力するアンプ１４の少なくとも一方の異常を検出する装置であって、アンプ１２の出力と接続されるコンデンサ２０と、アンプ１４の出力と接続されるコンデンサ２２と、コンデンサ２０の応答信号とコンデンサ２２の応答信号とを入力し、コンデンサ２０の応答信号とコンデンサ２２の応答信号とだけの加算値を用いてアンプ１２，１４の少なくとも一方が異常であると判定する判定部と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、負荷の影響を受けていない、或いは影響が実質的に抑制された出力値を用いて、複数のアンプの少なくとも１つが異常であると判定することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを露光するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】発明は、複数のビームレットによってターゲットを露光する方法に関する。最初に、複数のビームレットが供給される。ビームレットはアレイに配列される。さらに、露光されるべきターゲットが供給される。続いて、複数のビームレットとターゲットの間に第一の方向の相対移動が作り出される。最後に、複数のビームレットが第二の方向に移動され、各ビームレットがターゲット上の複数の走査線を露光する。第一の方向の相対移動と複数のビームレットの第二の方向の移動は、複数のビームレットによって露光される隣接走査線の間の距離が、アレイ中の複数のビームレットのビームレット間の第一の方向の投影ピッチＰ_{ｐｒｏｊ，Ｘ}よりも小さくなるようになっている。
（もっと読む）

複数の小ビームを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチ小ビームリソグラフィシステムであって、複数の荷電粒子の小ビームを発生させるためのビーム発生器と、複数の小ビームをパターン化するための小ビームブランカと、ターゲットの表面上にパターン化された複数の小ビームを投影するための小ビームプロジェクタと、を具備し、このシステムは、偏向デバイスを具備し、前記偏向デバイスは、複数のメモリセルを有し、各メモリセルには、記憶素子が設けられており、各メモリセルは、偏向器のスイッチング電極に接続されている。
（もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向により複数トラックのサーボエレメント13を１回転中に走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向Ｘへ大きく偏向走査して複数トラックのグルーブエレメント16を１回転中に順に描画して連続したグルーブパターン15を描画する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13を描画する際に、電子ビームEBを周方向と直交する方向Ｙへ高速に往復振動させると同時に、半径方向と直交する方向Ｘに、回転ステージ41の回転速度より速い速度で偏向させて、エレメントの形状を塗りつぶすように走査制御し、順次エレメントを描画する。 （もっと読む）

【課題】精度よく非同期回転振れの量を算出する。
【解決手段】回転テーブル３１の回転角度毎の回転振れ量を変位データとして算出し、この変位データを順次メモリ５２ｅに記憶する。そして、メモリ５２ｅに順次記憶された変位データを値の大きさに基づいて並び替え、この並び替えられた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とする。変位データをその大きさに基づいて並び変えることにより、非同期回転振れ量を包含する変位データは、並び替えられた変位データのうち高順位、若しくは低順位となるため、並び替えた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とすることで、非同期回転振れの影響をほとんど受けていない基準値を算出することができる。そして、この基準値を用いることで、回転テーブル３１の非同期回転振れ量を精度よく算出することができる。 （もっと読む）

【課題】機械的な誤差、光軸ずれ、光学歪み等に起因する電子ビームによる描画位置のずれを補償し、精度の高い描画を実現可能にする。
【解決手段】回転ステージの直線移動方向と回転ステージの直線移動方向に電子ビームを偏向させる第1の指令器４２からの第１の指令信号DO(Y)によって偏向させたときの実際の電子ビームの偏向方向との角度ずれを補償するために、偏向アンプ４６Ｙからの出力信号の他に、偏向アンプ４６Ｘからその角度ずれに相当する信号を出力し、電子ビームの偏向方向を変える（回転させる）。また、電子ビームによって所望のパターンを構成するエレメントを塗り潰すように電子ビームを走査させる、第1の指令器４２からの第２の指令信号MO(X),MO(Y)を、補償回路５２の変換テーブルによって第２の指令信号MO(X)’,MO(Y)’に変換し、電子ビームの指令位置と実際の走査位置とを一致させる。 （もっと読む）

【課題】広い面積の荷電ビームを偏向器により偏向したときにスループットの高い露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の荷電ビームが縮小光学系により加速、収束、偏向作用を受けて試料上に照射される露光装置において、前記試料の直上に位置する前記縮小光学系の内部あるいは直下において対向して一対設けられる電極を有し、電界を発生する静電偏向器と、前記試料の直上に位置する前記縮小光学系の内部あるいは直下において前記一対の電極を内側に挟んで対向して一対設けられるコイルを有し、磁界を発生する磁界偏向器と、を有し、前記複数の荷電ビームが前記一対の電極の間を通過し、前記複数の荷電ビームが配列される方向と前記電界の方向および前記磁界が平行に重畳するように前記静電偏向器および前記磁界偏向器は設けられる。 （もっと読む）

【課題】各ビーム個別のビーム特性の計測及びビーム間の配列間隔の計測の高速化が可能で、かつマルチ荷電粒子ビームの高精度な計測と補正を実現するマルチ荷電粒子ビームの計測方法、露光装置 及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】マルチ荷電粒子ビームを発生する発生装置（電子銃１、コンデンサレンズ群３）と、マルチ荷電粒子ビームの照射により発光する蛍光体材料を有する試料４１と、マルチ荷電粒子ビームが照射される試料４１上の被照射位置の蛍光体材料の発光を導入してマルチ荷電粒子ビームの特性を検出する検出部（画像入力手段４７）とを有し、蛍光体材料の発光の検出に基づいてマルチ荷電粒子ビームの特性（照射位置、強度）を比較演算手段５１、個別偏向手段４５、コンデンサレンズ群３により制御（補正）する。 （もっと読む）

【課題】偏向器に供給する偏向電圧の整定時間を短縮化する。
【解決手段】走査信号生成回路からの走査信号をアナログ信号に変換するＤ/Ａ変換器８Ｘ、Ｄ/Ａ変換器８Ｘからのアナログ偏向信号を反転させる反転器２５、反転器２５の出力を増幅する第１の増幅回路９Ｘ、Ｄ/Ａ変換器８Ｘからのアナログ偏向信号を増幅する第２の増幅回路２１Ｘ、第２の増幅回路２１Ｘの出力信号を微分第１の増幅回路９Ｘに供給するコンデンサ２４、第１の増幅回路９Ｘと第２の増幅回路２１Ｘの和に基づいた偏向信号が供給される偏向器４Ｘを備える。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度な電子ビーム偏向を可能にする電子ビーム描画装置もしくは電子ビーム検査装置および電子ビーム顕微鏡を提供する。
【解決手段】真空筐体１０１内部に偏向電極のインピーダンスを整合させるインピーダンス整合手段を備え、インピーダンス整合手段が伝送手段を中心として該伝送手段の終端部の周囲に配置された一対の抵抗器であるか、もしくは複数配置されているか、もしくは円筒状の抵抗器とする。さらに、インピーダンス整合手段が、伝送手段の終端と前記電極との間に配置されたシールド電極であり、前記シールド電極と前記偏向器の電極との間隔を調整する。また、伝送手段および前記インピーダンス整合手段と前記偏向器の温度を一定に保つ温度制御部を有し、前記伝送手段が同軸構造であり、その外部導体を熱伝導媒体として用い、外部導体の周囲を金属で囲む。 （もっと読む）

【課題】走査フレームサイクル間でラスタ走査領域を調整することによって、画像標本上の電子露光を制御するためのシステムおよび方法
【解決手段】小さいズームイン走査領域および周囲領域は、走査フレーム間で複数回のフレームサイクルの間に正の電荷でフラッドされることによって走査領域と周囲領域との間の電圧差分を減少させ、それによって走査された画像中の小さい特徴を不明確にする傾向にある正の電荷蓄積を減少させる。標本上の画素エレメントへのピーク電流は、通例の映像と比較すると非常に短いライン時間でビームを走査するによって低減される。画像データのフレームは、さらに、任意のプログラム可能パターンで非逐次的に獲得され得る。あるいは、非活性ガスは、電子ビームが標本に当たる点で走査電子顕微鏡に注入されて、電子ビームによる不活性ガスのイオン化によって標本上の電荷蓄積を中和化し得る。 （もっと読む）

【目的】 偏向電圧の発振或いはリンギングを低減することを目的とする。
【構成】 本発明は、電子鏡筒１０２内に配置され、電子ビーム２００を偏向させるブランキング偏向器２１２と、電子鏡筒１０２外に配置され、電子鏡筒１０２へと延びる同軸ケーブル２４２を介してブランキング偏向器２１２に電圧を印加するアンプ２６２と、電子鏡筒１０２と同軸ケーブル２４２との間に配置され、ブランキング偏向器２１２に電圧を印加するための配線に接続された抵抗器２３２と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、偏向器と電圧印加部とのマッチングを行ない、リンギングのうねり成分を減衰させることができるので、リンギングや発振を低減させ応答特性を向上させることができる。その結果、偏向精度を向上させビーム位置が振動を抑制することができる。よって、結像面でのビーム分解能の劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【目的】 主偏向領域面と共に副偏向領域面での焦点ずれを小さくする電子ビーム描画装置或いはその方法を提供することを目的とする。
【構成】 主偏向器２１４と副偏向器２１２と、前記主偏向器２１４及び副偏向器２１２内の電子ビーム２００の位置を平行移動させるアライメントコイル２１０を具備した電子ビーム描画装置において、前記副偏向器２１２によるビーム偏向の際に、前記アライメントコイル２１０により試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記電子ビーム２００を移動させると共に、前記主偏向器２１４によるビーム偏向の際に、試料面に対する焦点ずれが最小となるように前記電子ビーム２００の焦点を補正することを特徴とする。 （もっと読む）