Fターム[5F044GG02]の内容
Fターム[5F044GG02]に分類される特許
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半導体装置の製造方法
【課題】半導体チップの高位置精度を実現して半導体装置の品質の安定化を図る。
【解決手段】SIPの組み立てのダイボンディング工程で、高い位置精度を要求されないマイコンチップ3を表面非接触型のコレットでピックアップして第1のチップ搭載部上にダイボンディングし、その後、高い位置精度が要求されるASICチップ4を表面接触型のコレットでピックアップして第2のチップ搭載部上にダイボンディングすることで、2種類のコレットを使い分けることにより、前記表面接触型のコレットによってダイボンディングを行ったASICチップ4の高い位置精度を実現するとともに、前記SIPの品質の安定化を図る。
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