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Fターム[5F045BB08]の内容

気相成長(金属層を除く) (114,827) | 目的 (9,309) | 生産性向上(装置の稼働率向上・低コスト化等) (2,263)

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【課題】半導体製造装置の配管を流通する全ガス流量が大きく変わった場合でも常に最適な検出精度で流量検出を行える様にする。
【解決手段】半導体製造装置の配管1に流量検出装置2が設けられ、該流量検出装置がガス導入路16とガス導入路に対して並列に設けられた調整流路13,14,15を具備する流量調整部とを有し、前記ガス導入路にガス流量検出器7を設け、前記ガス導入路を流通するガス流量が所定範囲となる様、前記調整流路の流路断面積を変更可能とした半導体製造装置に係り、又前記流量検出装置は複数の調整流路を有し、該複数の調整流路は独立して開閉され、ガス導入路を流れるガス流量を流量検出器の検出適正流量とすることで、配管の全ガス流量が大幅に変化したとしても流量検出器の持つ最適精度で流量検出を行う。 (もっと読む)


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