【課題】 半導体ウェハに対する回路パターンの転写を阻害するデブリを発生させることなく、半導体ウェハに高集積化した回路を形成するのに最適な短波長の光を発生させることのできる半導体リソグラフィ用光源を提供する。
【解決手段】 半導体ウェハ上に回路パターンを形成するための短波長の光を発生させる半導体リソグラフィ用光源であって、負圧の状態で希ガス又は希ガスを含んだ混合ガスが充填される内部空間を画定した外周壁部を有する光源本体と、前記内部空間内に所定の軸線周りの回転磁場を発生させる磁場発生手段とを備え、前記光源本体は、少なくとも外周壁部が電気絶縁性を有する非磁性の材料で構成されるとともに、少なくとも一部に短波長の光成分又は該光成分を含んだ光を内部空間から外部へ放出させる光放出部が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射光学素子に対するデブリ等の微粒子の付着量を減少できる照明技術を提供する。
【解決手段】露光光ＥＬを曲面ミラー２４、凹面ミラー２５等を介してレチクル面Ｒａに導く反射型の照明光学装置は、曲面ミラー２４、凹面ミラー２５等を収容する真空チャンバ１と、真空チャンバ１内に配置され、曲面ミラー２４を収容するサブチャンバ４Ｄとを備える。サブチャンバ４Ｄは、曲面ミラー２４に入射して射出される露光光ＥＬが通過する開口４Ｄａ，４Ｄｂを有し、開口４Ｄａ，４Ｄｂはそれぞれ光束の断面積が最も小さい位置の近傍に配置される。真空排気機構の能力を必要以上に向上させることなく、反射光学素子に対するデブリ等の微粒子の付着量を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】市販のインクジェット装置（プリンタ）等の低コストの装置を用いて容易に金属のパターンを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】金属化合物溶液１３を基体１４の表面に付着させることにより金属化合物のパターン１６を基体１４表面に固定し、次に還元剤１７を用いて金属化合物パターン１６を還元することにより、固体金属のパターン１８を生成する。この方法では、高温の溶融金属を用いた従来法とは異なり、常温で取り扱いが可能な金属化合物溶液１３を用いるため、市販のインクジェット装置等を用いて容易に金属パターンを製造することができる。また、還元剤の供給に特別の装置を必要としないため、この点でも装置を低コスト化することができる。更に、基体の材料に対する制約が殆どないため用途に応じた材料を選択することができる。そして、還元後に洗浄処理を行うことが可能であるため、目的の金属のみから成るパターンが得られる。 （もっと読む）