【目的】描画方向に向かって描画されるようにステージを移動させる方向と直交する方向の非線形誤差を補正して高精度な位置を測定する手法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、移動可能なステージと、描画方向に向かって描画されるようにステージを第１の方向に移動させると共に、第１の方向にステージを移動させながら第１の方向と直交する第２の方向に所定の速度と所定の振幅でステージが振動するように駆動制御する駆動部と、レーザを用いて、第２の方向についてステージの移動位置を測定する測定部と、第２の方向について測定部の測定値から所定の周波数領域の成分を減衰させるフィルタ回路と、フィルタ回路を通過したステージの移動位置データを用いて、試料に荷電粒子ビームを照射することによってパターンを描画する描画部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画する電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】フォーマッタ１が備えるＤＤＳ１１が、ライトクロックＷＣＬＫ＿Ｒを出力し、ＤＤＳ１２が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿＋９０を出力し、ＤＤＳ１３が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり−９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿−９０を出力する。そして、データジェネレータ１５、１６、１７が、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０に基づいてブランキング信号を出力し、ＯＲ回路２０がそれぞれのブランキング信号の論理和をとって、ブランカに対して入力する。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置における非点補正・フォーカスの自動調整方法及び装置に関し、非点補正・フォーカスの自動調整を行なう方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】Ｘ，Ｙ方向に周期的なパターンを持つ調整用試料からの強度分布信号に対してトリミングを行なって第１のフーリエ級数展開を行ない周期パターンを求める手段２５と、この周期パターンに対してトリミング領域を決定して第２のフーリエ級数展開を行なう手段２５と、前記第１のフーリエ級数展開と第２のフーリエ級数展開の結果の差分を求める演算手段２５と、該演算手段２５により求めた差分と非点補正量及びフォーカス値を記憶する記憶手段２７と、該記憶手段２７に記憶されたものの中から差分が最小となる時の非点補正量とフォーカス値が最適になるものを読み出して荷電粒子ビーム装置の動作を調整する非点補正・フォーカス調整手段２８とを有して構成される。 （もっと読む）