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Fターム[5F064CC03]の内容

ICの設計・製造(配線設計等) (42,086) | 使用素子 (2,627) | トランジスタ (1,639) | バイポーラトランジスタ (85) | ECL、CML (1)

Fターム[5F064CC03]に分類される特許

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【課題】エッチング処理により基板上に設計データ通りの配線パターンを形成できるようにする、レジストパターンのデータを生成するデータ生成方法を実現する。
【解決手段】レジストパターンのデータ生成方法は、基板面に相当する仮想平面上において、設計データに規定された配線の外郭上の或るポイントを基準点として所定形状を有し、当該ポイント上に位置するエッチング液によって銅箔がエッチングされ得るエッチング影響エリアを含む第1の基準エリアを設定する設定ステップS101と、レジストパターンの外郭の位置を、第1の基準エリアに占めるエッチング影響エリアの面積を表わすエリア面積パラメータに応じて決定する決定ステップS102と、設計データに規定された配線の外郭上の任意の位置に順次設定されるポイントに対して設定ステップS101および決定ステップS102を繰り返し実行することで、レジストパターンの外郭を画定する画定ステップS103と、を備える。 (もっと読む)


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