【課題】集積回路リソグラフィ用途のための狭帯域光の供給に使用されるガス放電レーザを提供する。
【解決手段】ＭＯＰＡ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムを生成する方法及び機器であり、これは、超高パルス繰返し数で発振器レーザ出力光パルスのビームを生成する主発振器ガス放電レーザシステムを含むことができ、少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムが、主発振器ガス放電レーザシステムからレーザ出力光パルスを受け取り、少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの各々は、１を少なくとも２つの電力増幅ガス放電レーザシステムの数で割ったものに等しい超高パルス繰返し数の分数であるパルスの繰返しで、受け取ったレーザ出力光パルスの一部を増幅して超高パルス繰返し数の増幅出力レーザ光パルスビームを形成し、発振器レーザ出力光パルスビームに関して直列に位置決めすることができる。機器及び方法は、電力増幅レーザシステムのレーザ光出力部に接続されたビーム送出ユニットを更に含むことができる。機器及び方法は、ＭＯＰＯ構成における超高繰返し数ガス放電レーザシステムとすることができる。機器及び方法は、毎秒ｘ回充電される圧縮ヘッド電荷貯蔵装置を含む圧縮ヘッドと、少なくとも２組のガス放電電極対を含むガス放電チャンバと、圧縮ヘッド電荷貯蔵装置と少なくとも２組の電極対の１つとの間にそれぞれ接続され、第１のバイアス巻線のための第１のバイアス電流及び第２のバイアス巻線のための第２のバイアス電流を有する第１及び第２の対向バイアス巻線を含み、少なくとも２つのスイッチの１つだけが、ｘを少なくとも２組の電極対の数で割算したものに等しい繰返し数で第１のバイアス電流を受け取り、一方で少なくとも２つのスイッチの残りが第２のバイアス電流を受け取るようにバイアス電流を第１のバイアス電流から第２のバイアス電流に切り換えるスイッチング回路を含む、少なくとも２つの磁気飽和可能スイッチとを含むことができる。この機器及び方法は、リソグラフィツールとして又はレーザ生成プラズマＥＵＶ光の生成に利用することができる。 （もっと読む）