半導体素子（１０）を半導体層（１６）に形成する。ゲート誘電体層（１８）を該半導体層の上に形成する。ゲート材料層（２０）を該ゲート誘電体層の上に形成する。該ゲート材料層をパターニングしてゲート構造（２０）を形成する。該ゲート構造をマスクとして使用して、該半導体層へのイオン注入（２４）を行なう。第１のパターニング済みゲート構造（２０）及びトレンチ（４２）を該半導体層（１６）に、該半導体層の第１部分（２８）及び第２部分（３０）、及び該ゲートを取り囲むように形成するために、該ゲート構造（２０）及び該半導体層（１６）を貫通するエッチングを行なう。該トレンチ（４２）に絶縁材料（４６）を充填する。
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