Fターム[5F103BB25]の内容
半導体装置を構成する物質の物理的析出 (6,900) | 析出装置 (1,132) | 析出物質源及びその付随装置 (731) | 装置清掃のためのもの (1)
Fターム[5F103BB25]に分類される特許
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分子線源,分子線結晶成長装置,分子線結晶成長方法
【課題】ポートの数を増やすことなく,還元性ガスを分子線結晶成長装置の成長室内に導入することを可能にする分子線源を提供する。
【解決手段】本発明の分子線源は,結晶成長のための分子線を放出する分子線放出部と,前記分子線放出部に結合され,前記分子線を加熱して分解するクラッキングゾーンとを備え,前記分子線放出部と前記クラッキングゾーンの間に還元性ガスを導入するための還元性ガス導入部を有することを特徴とする。
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