Fターム[5F157CE54]の内容
Fターム[5F157CE54]に分類される特許
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基板処理装置
【課題】高い処理能力を得ることができる,基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収納し,内部で基板を処理する処理容器2と,処理容器2内に収納された基板Wを加熱するヒータ20と,処理容器2内に水蒸気を供給する水蒸気供給手段5と,処理容器2内にオゾンガスを供給するオゾンガス供給手段7と,処理容器2内にN2ガスを供給するN2ガス供給手段9と,処理容器2内を排気する排気管23と,この排気管23に設けられた流量コントローラ71と,処理容器2内を加圧するように流量コントローラ71を制御する制御部21と,を備えていることを特徴とする,基板処理装置1である。
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