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Fターム[5F157CE75]の内容

半導体の洗浄、乾燥 (54,359) | 検知制御 (3,601) | 制御対象 (3,445) | 雰囲気 (491) | 外気と同じ(室温、常温) (2)

Fターム[5F157CE75]に分類される特許

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【課題】ドライエッチングによって水素が離脱して硬化(炭化)したレジストを除去可能とする。
【解決手段】プラズマ発生ノズル31からプラズマ化したガスを照射することで、ウエハWに残存したレジストを分解・燃焼させて除去するにあたって、前記ウエハWを搬送手段Cによって浸漬槽Tに貯留された純水80中を通過させるようにし、前記ウエハWが純水80に浸漬された状態でプラズマ照射を行う。これによって、水酸基ラジカルを効率良く発生させ、前記水酸基ラジカルによって、前記硬化(炭化)したレジスト表面に水素を供給して改質した上で、その表面を含めて総てのレジストを分解・燃焼させて除去することができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことが可能なワーク処理装置を提供する。
【解決手段】このワーク処理装置Sは、供給される所定のガスをプラズマ化するプラズマ発生部18を有し、このプラズマ発生部18からプラズマ化したガスを放出するプラズマ発生装置6と、プラズマ発生部18の下方で処理対象であるワークWを支持する搬送装置2とを備え、ワークWに対してプラズマ化したガスを照射することにより所定の処理を施与するものであって、プラズマ発生部18がワークW上に位置するようにプラズマ発生装置6を据え付けるための据付枠4を備えている。そして、プラズマ発生装置6は、プラズマ発生部18がワークW上に配置される据付位置から水平方向に引き出し可能に据付枠4に対して取り付けられている。 (もっと読む)


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