【課題】レーザ装置の共振器長を固定化する手段や、周波数を安定化する手段を設けずに、周波数が変化する２以上の周期信号の位相差から距離を測定する。
【解決手段】距離測定装置は、レーザ光束として光周波数コムを発生するレーザ装置１と、レーザ光束を基準光と測距光に分割する分割手段２と、基準光を受光する基準受光部３と、測距光を受光する測定受光部６とを備える。測定受光部６の受光信号は、第１フィルタ１４で測距用の周波数成分が抜き出され、基準受光部３の受光信号は、第２フィルタ１１で基準用の周波数成分が抜き出される。サンプリング部１８は、第１フィルタ１４および第２フィルタ１１からの処理信号を非同期のサンプリング周波数でサンプリングする。位相差測定部２３は、そのサンプル結果から処理信号の実際の周波数を演算し、２つの処理信号の位相差を測定する。距離測定部１７は、位相差から距離を測定する。 （もっと読む）

【課題】発振器の周波数にゆらぎが生じても、ビートダウンした処理信号間の位相差から距離を測定する。
【解決手段】距離測定装置は、レーザ光束として光周波数コムを発生するレーザ装置１と、基準光２７を受光する基準受光部３と、測距光２８を受光する測定受光部６とを備える。第１ミキサ３１および第２ミキサ３２は、測定受光部６および基準受光部３の受光信号と特定の周波数を持つ発振器５０の周期信号とを乗算する。第４フィルタ５１および第５フィルタ５２は、第１ミキサ３１および第２ミキサ３２で生成された信号成分から異なる周波数成分を抜き出す。第４フィルタ５１および第５フィルタ５２で抜き出された信号は、第３ミキサで乗算され、差の周波数成分が第６フィルタ５４で抜き出される。位相差測定部１２は、第６フィルタ５４および第２フィルタ１１からの２つの処理信号の位相差を測定し、距離測定部１７は、その位相差から距離を測定する。 （もっと読む）

【課題】高速で濃度の切り替えが行える調光装置とこの調光装置を用いた距離測定装置を提供する。
【解決手段】２つの反射面が垂直に配置された光学部材２０５で反射されたビームを集光レンズ２０２を介して平面ミラー２２０へ集光させ、この平面ミラー２２０で反射されて集光レンズ２０２でほぼコリメートされたビームを濃度フィルタに通して射出する調光装置２００であって、濃度フィルタ２０４はビームの平行移動と直交方向に沿って濃度が異なり、平面ミラー２２０を前記直交方向に対して傾動可能に設け、この平面ミラー２２０の傾動により前記ビームが通る濃度フィルタ２０４の位置を変える。 （もっと読む）

【課題】近い位置にある目標物から強い反射レーザ光を受信した場合にでも、この反射レーザ光によりパルスレーザ受信器が破損や破壊されることのない安定した測距機能が得られるレーザ測距装置を提供すること。
【解決手段】レーザ測距装置２０は、レーザ光ａ０を目標物２１に向け発振するレーザ発振器２２と、上記レーザ光ａ０の上記目標物２１からの反射レーザ光ａ２を入力し、この反射レーザ光ａ２を透過させることにより反射レーザ光ａ２の強度を制御可能に設けられるフィルタ手段２４と、このフィルタ手段２４を透過した上記反射レーザ光ａ３の強度を検知してこの光ａ３の強度に対応した制御電圧ｂを出力するパルスレーザ受信器２５と、制御電圧ｂを入力して、この制御電圧ｂの大きさに対応してバイアス電力制御信号ｅを出力する信号処理器２６と、上記バイアス電力制御信号ｅを入力してパルスレーザ受信器２５の光検知器２５ｂの感度を制御させるべく上記光検知器２５ｂにバイアス電圧ｇを送信するバイアス電圧発生器３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】
測定基準の精度を向上させることにより、レーザ光線を使用した距離測定装置の測定精度の向上を図る
【解決手段】
測距光６を発生する光源５と、前記測距光を測定対象物８に照射し、該測定対象物からの反射光９を受光する受光部と、外部の基準時間を取得する外部基準時間取得装置とを有し、該外部基準時間取得装置５４で取得した基準時間に基づいて、前記光源を制御し測距光を変調させると共に、該変調した測距光を、内部光路を介して受光した位相と、前記対象反射体で反射されて戻る反射光を受光した位相を測定し、その位相差に基づいて距離を演算する。
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【課題】
距離測定装置に於いて、簡単な受光光学系とし、而も遠距離測定、近距離測定のいずれでも高精度の測距を可能にする。
【解決手段】
測定対象物に測距光を投光し、該測定対象物からの反射測距光を受光して距離を測定する距離測定装置に於いて、測距光を発する光源部１５と、該光源部からの測距光を投光する投光光学系１６と、該投光光学系と一部を共用し、入射集光された測定対象物からの反射測距光を受光する受光光学系１８とを具備し、該受光光学系は反射測距光が入射集光する中心部と、集光位置が中心部からずれるに応じて透過する光量を制限する孔明きマスク５３とを有する。
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