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国際特許分類[B01D53/68]の内容

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【課題】 焼却炉から発生する廃ガス中の有害物質を液体セラミックに能率よく吸収させて、無害なものとして排出する方法を提供しようとする。
【解決手段】 焼却炉で発生した廃ガスを分離室へ導き、廃ガスを分離室内の下から上へ流し、液体セラミックを分離室の上部から下方へ向かって噴霧して廃ガス中に分散させ、有害物質を吸収した液体セラミックの微粒子を分離室の側壁又は底に付着させ、必要に応じて付着物をまとめて掻き取って分離室から取り出し、一方、有害物質が除去された廃ガスを大気中に放出する。 (もっと読む)


【課題】 ガス中の塩化水素を効果的に除去できる塩素含有廃棄物の燃焼処理方法を提供する。
【解決手段】 流動層ガス化炉5と溶融燃焼炉8からなるガス化溶融システムにおいて、脱塩剤を流動層ガス化炉5並びに濾過集塵装置手前の排ガス流路の双方に供給することにより、排ガスk中の塩化水素を除去する。 (もっと読む)


【課題】 廃棄物等の被処理物を加熱処理する際、被処理物から発生した有害成分(HCl)にカルシウム系のアルカリ物質を添加して接触反応させ無害な塩化物を生成することは知られているが、塩化物生成効果が不安定で、有害成分を効果的に除去できない。
【解決手段】 加熱により分離飛散する気化成分を含有し、且つ有害成分と反応して無害な塩類を生成するアルカリ物質体を、加熱して気化成分をCO2,H2Oとして蒸発飛散させ、穴a、貫通孔bを形成して表面積を増加させることで有害成分との接触反応を良好なものとした多孔質処理剤。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造工程等から排出される排ガスを処理して、その中に含まれる有害・汚染物質を実質的に完全に分解除去することができ、かつ安価で二次的汚染も生じない構造を備えた排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】 所定間隔をもって平行対向状に配置させた一対のプラズマ電極20,21間の真空雰囲気中に、排ガスを導入して、プラズマ電極20,21に高周波発振器22からの高周波電気エネルギを印加すると、プラズマが発生して、排ガス中の構成物質がプラズマ電極20,21の電極表面に、プラズマ反応生成物として堆積固化し、この結果、上記排ガス中の有害・汚染物質が分解除去される。上記電極表面は、そこに堆積固化した反応生成物のみを除去し得る構造を備え、これにより、プラズマ電極は廃棄することなく再使用可能である。 (もっと読む)





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