国際特許分類[C02F1/28]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 水,廃水,下水または汚泥の処理 (35,433) | 水,廃水,下水または汚泥の処理 (35,433) | 水,廃水または下水の処理 (21,821) | 収着によるもの (2,364)
国際特許分類[C02F1/28]に分類される特許
2,361 - 2,364 / 2,364
油類の吸着・凝固剤
膜を用いた浄水方法
【目的】 汚染された原水を使用せざるを得ない浄水処理場においても、トリハロメタン等の発生がなく、小さいスペースで自動運転が可能な浄水方法を提供すること。
【構成】
プリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法
【目的】 半田付けプリント基板の洗浄により生成する希薄排水から水を回収する方法において、リンスシャワーに再使用できるレベルの殺菌状態の処理水を得る。
【構成】 マイクロフィルター2及び/又は9による微粒子除去、活性炭吸着塔3による有機物除去、イオン交換樹脂塔4及び5又は混床塔10による金属イオン分及び有機酸分除去の各工程を含む上記希薄排水からの水回収方法において、有機物除去及び金属イオン分・有機酸分除去を終えた処理水をUV殺菌器7により紫外線殺菌する工程を更に加える。
(もっと読む)
水評価方法、純水製造方法及びその装置
2,361 - 2,364 / 2,364
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