説明

国際特許分類[C03B25/04]の内容

国際特許分類[C03B25/04]の下位に属する分類

国際特許分類[C03B25/04]に分類される特許

1 - 2 / 2


【課題】ガラス基板に素子等を形成する際に使用するマスクの共通化、または、パネルに二枚のガラス基板を組み付ける際の対向する素子等の位置関係の正確性および組み付け性の向上を図るために、熱収縮率を適切に特定したガラス基板を提供する。
【解決手段】フラットディスプレイパネルに用いられ、30〜380℃の温度範囲における線膨張係数が60〜130×10-7/℃であり、短辺寸法が600〜3000mm及び長辺寸法が700〜5000mmの矩形をなし、板厚が1.1〜4.0mmであり、一のロットにおけるガラス基板の各々に対して室温から加熱処理を施すことにより600℃で1時間に亘って保持した後に再び室温に戻した時の各ガラス基板の熱収縮率絶対値が350〜500ppmであり、各ガラス基板相互間の熱収縮率のバラツキ及び各ガラス基板内の熱収縮率のバラツキが±8%以内になるように成形されてなるガラス基板G。 (もっと読む)


【課題】プレス成形法によるガラス光学素子の調製において、プレス成形後に冷却して得られた成形体内部に残留する応力を除去するためのアニール時間の短縮が可能な方法を提供する。
【解決手段】所定形状に予備成形したガラス素材を加熱により軟化し、成形型を用いてプレス成形した後に成形体を冷却することを含むガラス光学素子の製造方法。冷却後の成形体を再加熱する工程、および次いで、所定の速度で降温することにより成形体の内部応力を緩和する工程を有し、かつ、該応力緩和工程においては、成形体に放射波長2〜5μm の範囲の赤外線を放射する。または、冷却開始後の成形体を所定の速度で降温することにより成形体の内部応力を緩和する工程を有し、かつ、該応力緩和工程においては、成形体に放射波長2〜5μmの範囲の赤外線を放射する。 (もっと読む)


1 - 2 / 2