説明

日本電気硝子株式会社により出願された特許

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【課題】研磨手段の姿勢制御に着目することにより、近年要求が高まっている曲面を多用した建築物の外装材や内装に利用可能な、種々の曲面を有する結晶化ガラスを工業的に製造する技術を提供する。
【解決手段】曲面を有するガラス板Gを研磨するガラス板研磨装置であって、ガラス板Gを保持する保持手段10と、ガラス板Gを研磨する研磨手段20と、ガラス板Gに対して研磨手段20を押し付ける押圧手段30と、ガラス板Gと研磨手段20とが実質的に面接触する状態を維持しながら、保持手段30を回転させる回動手段40と、保持手段30を水平方向にスライドさせるスライド手段50と、を備え、ガラス板Gと研磨手段20との面接触領域において、ガラス板Gに対する研磨手段20の押圧軸aがガラス板Gの曲面の法線bと一致するように、回動手段40、及びスライド手段50が調整される。 (もっと読む)


【課題】安定に製造でき、かつ、熱処理後の結晶化度が高く、リチウムイオン伝導率が高いリチウムイオン伝導体前駆体ガラスを得る。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、P 25〜35%(ただし、35%を含まない)、GeO 25〜50%、LiO 10〜25%およびAl 0〜10%(ただし、0%を含まない)を含有することを特徴とするリチウムイオン伝導体前駆体ガラス。さらに、ガラス組成として、モル%で、SiO 0〜5%(ただし、5%を含まない)を含有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】優れた耐候性を有し、しかも耐サーマルショック性および耐クラック性にも優れた集光型太陽光発電装置用光学素子、その製造方法および当該光学素子を備えてなる集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力を有するガラス材からなることを特徴とする集光型太陽光発電装置用光学素子。圧縮応力が1〜1000MPaであることが好ましい。表面粗さが、算術平均粗さ(Ra)で200nm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 窯の劣化を起こすことなく、泡品位、均質性及び平坦性に優れた無アルカリガラス基板を得ることが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料を調合し、溶融、成形する珪酸塩ガラスの製造方法であって、メディアン粒径D50が70〜200μmであり、粒径45μm未満の粒子の質量割合が30%未満、粒径250μm以上の粒子の質量割合が10%未満の粒度分布となるように調製したシリカ原料を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】樹脂板とガラス板とを積層一体化させた積層体の切断面を、効率良く仕上げ可能とする。
【解決手段】樹脂板2の表裏両面にガラス板3,4を積層一体化させた積層体1の加工方法であって、積層体1を切断する切断工程と、この切断工程により形成された積層体1の切断面1aを仕上げる仕上げ工程とを有する。仕上げ工程は、研削加工によりガラス板3,4の切断面3a,4aを加工し、かつ、樹脂板2の切断面2aの少なくとも一部を未加工の状態で残す第1段階と、未加工の状態で残した樹脂板2の切断面2aのみを加工する第2段階とを有する。未加工の状態で残された樹脂板2の切断面2aは、主に切削加工で加工される。 (もっと読む)


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