日本電気硝子株式会社により出願された特許
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珪酸塩ガラスの製造方法
【課題】 酸化錫を用いて泡品位に優れた珪酸塩ガラスを製造する方法を提供するものである。
【解決手段】 珪酸塩ガラスを製造するに当たり、清澄剤としてメディアン粒径D50が2〜50μmの範囲にある酸化錫粉末を用いることを特徴とする。珪酸塩ガラスとしては、無アルカリガラスやリチウムアルミノ珪酸塩系結晶化ガラスを例示することができる。
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液晶素子の製造方法及び液晶素子
【課題】複数の液晶層を有する液晶素子を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】素子本体作製工程において、注入口16a、20a、25aが位置している素子本体45の側面において、中間ガラス板43,44の先端が、第1及び第2の外ガラス板41,42の先端よりも内側に位置するように素子本体45を作製する。液晶層形成工程において、注入口16a、20a、25aが位置している素子本体45の側面の少なくとも注入口16a、20a、25aが設けられた部分に封止材60を設けることにより注入口16a、20a、25aを封止する。
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ガラス板切断方法およびガラス板切断装置
【課題】ガラス板の切断部に形状不良を生じさせることなく、ガラス板を溶断により切断する。
【解決手段】ガラス基板Gの切断部Cにアシストガスを噴射しながら、切断部CにレーザビームLBを照射し、切断部Cを境界としてガラス基板Gを製品部Gaと非製品部Gbとに溶断分離するガラス板切断装置であって、ガラス基板Gの上方空間において、切断部Cの上方位置から切断部Cに向かって真下にセンターアシストガスA2を噴射するセンターアシストガス噴射ノズル5と、センターアシストガスA2よりも強い噴射圧で、製品部Gaとなる側の上方位置から切断部Cに向かって斜め下方にサイドアシストガスA1を噴射するサイドアシストガス噴射ノズル4とを有する。
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板ガラス検査装置、板ガラス検査方法、板ガラス製造装置、及び板ガラス製造方法
【課題】連続して発生するガラス欠陥の検査において、必要な検査精度を確保したまま検査速度を高め、さらに、装置構成を複雑にせず装置コストを抑えた板ガラス検査装置を提供する。
【解決手段】複数の板ガラスを検査する板ガラス検査装置であって、第1板ガラスの欠陥候補範囲と、前記第1板ガラスとは異なる第2板ガラスの欠陥候補範囲とを検出する検出部110と、前記第1板ガラスの欠陥候補範囲の位置と、前記第2板ガラスの欠陥候補範囲の位置とを比較し、前記比較の結果に基づいて、前記第1板ガラスと前記第2板ガラスとに連続する欠陥の有無を判定する判定部120とを備える。
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高屈折率ガラス
【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物(特にLa2O3、Nb2O5、Gd2O3)の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ndに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 30〜60%、B2O3 0〜15%、Al2O3 0〜15%、Li2O 0〜10%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20〜60%、TiO2 0.0001〜20%、ZrO2 0〜20%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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ガラス板
【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜70%、Al2O3 0〜20%、B2O3 0〜15%、Na2O+K2O 0〜30%、SrO+BaO 1〜40%を含有し、且つ保護膜がSr含有硫酸塩及び/又はBa含有硫酸塩を含むことを特徴とする。
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ガラス板切断方法およびガラス板切断装置
【課題】ガラス板をレーザビームの照射熱で溶断する際に、製品となるガラス板にドロス等の溶融異物が付着する事態を確実に低減する。
【解決手段】ガラス基板Gの切断部CにレーザビームLBを照射して、切断部Cを境界としてガラス基板Gを製品部Gaと非製品部Gbに溶断するガラス板切断装置1であって、ガラス基板Gの上方空間において、製品部Gaとなる側の上方位置に配置され且つ切断部Cに向かって斜め下方に第1アシストガスA1を噴射する第1ガス噴射ノズル4と、非製品部Gbとなる側の上方位置に配置され且つ溶融異物を吸引する第1吸引ノズル5とを備え、ガラス基板Gの下方空間において、製品部Gaとなる側の下方位置に配置され且つ切断部Cに向かって斜め上方に第2アシストガスA2を噴射する第2ガス噴射ノズル6と、非製品部Gbとなる側の下方位置に配置され且つ溶融異物を吸引する第2吸引ノズル7とを備えている。
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半導体素子被覆用ガラス
【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、ZnO 52〜65%、B2O3 5〜20%、SiO2 15〜35%およびAl2O3 3〜6%を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ta2O5 0〜5%、MnO2 0〜5%、Nb2O5 0〜5%、CeO2 0〜3%およびSb2O3を含有することが好ましい。
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電子デバイスの製造方法
【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。
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ガラスセラミック誘電体用材料およびガラスセラミック誘電体
【課題】ホウケイ酸ガラス粉末を原料とするガラスセラミック誘電体用材料であって、グリーンシート成形時において、スラリーの粘度変化が生じにくく、かつ、流動性が高くレベリング性に優れたガラスセラミック誘電体用材料を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス粉末を49.9〜89.9質量%、アルミナ粉末および/または石英粉末を10〜50質量%、ならびに、ホウ酸アルミニウム粉末および/またはホウ酸シリカ系化合物粉末を0.1〜4質量%含有することを特徴とするガラスセラミック誘電体用材料。
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