【課題】微細な凹凸パターンを有する凹凸ガラス板を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラスペースト層３を形成する工程と、ガラス層を形成する工程と、凹凸を形成する工程とを備える。ガラスペースト層３を形成する工程では、平坦な表面２ａを有するガラス板２の該表面２ａの一部の上に、ガラス板２よりも軟化点が低いガラス粉末を含むペーストを塗布し、ガラスペースト層３を形成する。ガラス層を形成する工程では、ガラスペースト層３を焼成する。凹凸を形成する工程では、ガラス板２に対するエッチング速度よりもガラス層に対するエッチング速度の方が大きいエッチング液を用いてガラス層をエッチングにより除去すると共に、凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス製品の製造設備に設けられた通電によって発熱する発熱体を検査するに際し、発熱体の設置数に影響されず、正確且つ簡便な検査を行い得る検査方法を提供する。
【解決手段】ガラス製品の製造設備に設けられた通電によって発熱する発熱体の検査方法であって、前記発熱体の電気抵抗値を継続的に測定する測定工程と、前記電気抵抗値から電気抵抗変化率を算出する演算工程と、前記電気抵抗変化率に基づいて、前記発熱体の状態を判定する判定工程と、を包含する （もっと読む）

【課題】開繊時間を短くすることが可能であるとともに、開繊されたガラス繊維モノフィラメントの凝集を抑制することが可能となるガラス繊維集束剤と、このガラス繊維集束剤が表面に塗布されたガラス繊維、及びこのガラス繊維を用いて作製されたガラス繊維不織布を提供する。
【解決手段】エチレンオキサイド−プロピレンオキサイドアルキルエーテル界面活性剤を含有するガラス繊維収束剤とし、前記エチレンオキサイド−プロピレンオキサイドアルキルエーテル界面活性剤中のエチレンオキサイドのモル数ｘとプロピレンオキサイドのモル数ｙとのモル比（ｘ／ｙ）を２〜５とする。 （もっと読む）

【課題】カルーセルが大型である場合にも、成膜される薄膜の厚みや膜質がばらつきにくいスパッタリング成膜装置のカルーセル及びそれを備えるスパッタリング成膜装置を提供する。
【解決手段】カルーセルは、カルーセルの回転軸を中心として回転するホルダ３０を備える。ホルダ３０は、取付部３２と押さえ部材３３とを備える。取付部３２は、開口部３１とフランジ部とを有する。開口部３１には、スパッタリング成膜される被成膜部材４が挿入される。フランジ部は、開口部３１の内壁から内側に向かって突出している。フランジ部は、開口部３１に挿入される被成膜部材４に当接する。押さえ部材３３は、開口部３１に、開口部３１の軸方向に変位可能に挿入されている。押さえ部材３３は、ホルダ３０と共に回転することにより、遠心力によりフランジ部に対して被成膜部材４を径方向外側に向けて押圧する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の合紙などとして用いるのに適したポリオレフィン系樹脂発泡シートを提供すること。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂、高分子型帯電防止剤、及び、界面活性剤を含有し、前記ポリオレフィン系樹脂１００質量部に対して前記高分子型帯電防止剤を３〜２０質量部含有するポリオレフィン系樹脂発泡シートであって、前記界面活性剤として２０℃で固体のアニオン系界面活性剤が含有されており、該アニオン系界面活性剤のブリードアウトを促進させるべく、前記アニオン系界面活性剤と相溶性を有し、且つ、前記アニオン系界面活性剤よりブリードアウトし易く２０℃で液体のブリードアウト促進剤がさらに含有されていることを特徴とするポリオレフィン系樹脂発泡シートを提供する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％、ＴｉＯ_２ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ液相粘度が１０^５．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱ＣＶＤ法により薄膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板１０の薄膜を形成しようとする部分である成膜部１０ｃの他主面１０ｃ２に、基板１０に吸収される波長域の光を照射することにより成膜部１０ｃを加熱した状態で、成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に対向して配置したノズル３０から成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に向けて反応ガスを供給することにより薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しスパッタリング成膜を行った場合であっても、成膜される薄膜に構造欠陥が生じ難いスパッタリング成膜装置及びそれを用いた薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング成膜装置１は、チャンバ１０ｂと、ホルダ１１と、加熱装置とを備えている。ホルダ１１は、チャンバ１０ｂ内に配されている。ホルダ１１には、被成膜部材が取り付けられる。加熱装置は、ホルダ１１を加熱する。加熱装置は、遠赤外線をホルダ１１に照射する遠赤外線ヒーター２０と、近赤外線をホルダ１１に照射する近赤外線ヒーター２１とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス１０は、板厚方向に相対向する第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂと、周縁を構成する側面１０ｃとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス１０の寸法は、１４×１６×０．５ｍｍであり、第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂは無研磨面であり、その表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも０．５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．１％未満、ＺｎＯ ３．１〜１４．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％およびＷＯ_３ ０〜１０％を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）