国際特許分類［C07C47/042］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | ―ＣＨＯ基をもつ化合物 (990) | 非環式炭素原子または水素に結合している―ＣＨＯ基をもつ飽和化合物 (290) | ホルムアルデヒド (48) | 一酸化炭素からの製造 (1)
国際特許分類［C07C47/042］に分類される特許
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生成物分子の合成方法
本発明は、パルス成形体を用いて成形された超短レーザーパルスを発生させ、出発材料分子を含有するガスを、前記出発材料分子を少なくとも部分的に吸着する表面に導通し、その際、前記表面で吸着される出発材料からの生成物分子の合成のための反応の経過を制御するために、この成形された超短レーザーパルスが前記表面に向けられる、生成物分子の合成方法に関する。 
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