【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された多糖類と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された多糖類と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よくかつ高感度で形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】グルコース系多糖類に対して３級ホウ素を導入した上で、イオン液体と混合することにより、安定性の高いイオン導電性材料を得ることを解決すべき課題とする。
【解決手段】グルコースを構成単位とするグルコース系多糖類に対して、前記グルコース系多糖類がもつ遊離ＯＨ基のうちの実質的に全てに、ヒドロボラン又はアルコキシボランからなるボラン化合物を反応させて得られる基材を有する組成物とイオン液体とをもつ組成物である。例えば、アミロース誘導体２１に対してメシチルボラン１５を反応させた下記化合物２２とイオン液体との組成物である。
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本発明は、ヒドロキシプロピル化高アミロース含量ジャガイモデンプンの使用による、21を超えるキット数を有する耐脂性包装材の製造方法に関する。
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