【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

硬化性含フッ素コポリマーＡを適用することによって可撓性基材を被覆する方法であって、硬化性含フッ素コポリマーＡは、
ＦＣ及び
Ｍ１） 少なくとも一種のポリカルボン酸無水物及び／又は
Ｍ２） 少なくとも一種の単官能イソシアネート
の反応生成物であり、ＦＣは、
ＦＣ１） ２〜１０の炭素原子を有する少なくとも一種の含フッ素オレフィン、
ＦＣ２） ＯＨ基及び場合によりカルボキシル基を有する少なくとも一種の非フッ素オレフィン及び
ＦＣ３） 水酸基を有さず、場合によりカルボキシル基を有する少なくとも一種の非フッ素オレフィン
に基づく硬化性含フッ素コポリマーである方法。 （もっと読む）