【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥が少ないパターンを形成することができるレジスト組成物に含まれる重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有する重合体。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。＊は結合手を表す。式（ＩＩ）中、Ｒ^２は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜１２のアシル基又は酸に不安定な基を表す。＊は結合手を表す。］
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【課題】レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有する重合体。［Ｒ^１は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＯ_２−Ｏ−^＊１又は−（ＣＨ_２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−^＊１を表す。］
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【課題】水性食器洗い系におけるスケールを抑制する。
【解決手段】本発明は、（Ｉ）１種以上のモノエチレン性不飽和Ｃ_３〜Ｃ_６モノカルボン酸、（ＩＩ）スルホン酸基を有する１種以上のモノマー、並びに（Ｉ）および（ＩＩ）と重合可能な１種以上のモノエチレン性不飽和モノマーから製造された少なくとも１種の高分子量ターポリマーの添加を伴う、水性食器洗い系においてスケールを抑制する方法を提供する。別の実施形態においては、１種以上のモノエチレン性不飽和Ｃ_３〜Ｃ_６モノカルボン酸およびスルホン酸基を有する１種以上のモノマーから製造された高分子量ポリマーが水性食器洗い系に添加される。さらに、本発明は、食器洗い用配合物の全重量を基準にして２重量％を超えて１種以上のリン酸塩グループを含まないビルダーと、上記ターポリマーまたはコポリマーとを含む機械式食器洗い用配合物を提供する。 （もっと読む）