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国際特許分類[E02D27/50]の内容

国際特許分類[E02D27/50]に分類される特許

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【課題】従来の側方流動対策と比較して大幅に少ない改良ボリュームで確実に地盤の側方流動に伴う構造物の被害を軽減させる(防止する)ことを可能にする側方流動対策構造を提供する。
【解決手段】液状化層4の上に非液状化層5がある地盤Gに杭基礎1を備えて構築される構造物2の側方流動による被害を軽減させるための側方流動対策構造Aであって、壁状体10とこの壁状体10を支持する柱状体11とを備えて構成し、少なくとも構造物2に対して側方流動方向T下流側の地盤G内に設ける。また、壁状体10は、液状化層4の上の非液状化層5から液状化層4に1m以上根入れして設ける。さらに、柱状体11は、壁状体10に沿う横方向Hに間隔をあけて壁状体10と一体に設けるとともに液状化層4の上の非液状化層5から液状化層4の下の非液状化層6に達するように設ける。 (もっと読む)


【課題】 水平力が作用する基礎体の補強材の最適な配置方法を提供する。
【解決手段】 基礎の堀削面から地山内部に削孔し、削孔内に剛性の高い補強材3を地山4に定着させた後に前記補強材の基端部を基礎本体2内に定着させて基礎体1を築造する地盤補強型の基礎形成方法において、前記補強材3は、前記基礎本体2から水平方向外側に向けて打設されるとともに、前記基礎体1に水平力が作用した時の前記補強材3の配置は、少なくとも耐力増分が最大となる位置に配置される。 (もっと読む)


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