国際特許分類[G01G5/00]の内容
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半導体ウェハ計測装置および方法
ウェハの大気浮力補償計量を実行するステップを含む半導体ウェハ計測技術において、ウェハは実質的に直立の状態で計量される。垂直またはほぼ垂直のウェハの向きによって、力(重量)センサの方向における表面積が、水平なウェハの向きと比べて小さくなる。したがって、ウェハの重量の力の成分と同じ方向に作用する静電力成分が小さくなる。
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半導体ウェハ計測装置および方法
半導体ウェハにおいて、大気浮力が補償される重量の力の計測値に対する静電力の影響を修正する半導体ウェハ計測技術である。一局面では、ウェハは、独立して測定されるファラデー遮蔽部において計量される。ファラデー遮蔽部の測定重量の変化は、ウェハの測定重量を修正するよう用いられ得る。別の局面では、直接的な静電測定値が、電荷計によって測定される静電荷と重量誤差力との間の所定の相関を用いて、重量修正値に変換され得る。別の局面では、静電測定値は、非直接的であってよく、たとえば、ウェハと、ウェハに平行な、接地に接続された板との間の距離を変動させて当該接地に接続された板とウェハとの間の静電力を変化させることで導出されてもよい。
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