国際特許分類[G02F1/1343]の内容
物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器 (92,458) | 独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学 (92,146) | 強度,位相,偏光または色の制御のためのもの (89,922) | 液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル (81,145) | 構造配置;液晶セルの作動;回路配置 (68,793) | 構造配置 (51,675) | 電極 (4,026)
国際特許分類[G02F1/1343]に分類される特許
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表示装置
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表示パネル
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液晶表示装置
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屈折率分布型液晶光学素子および画像表示装置
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液晶表示素子
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液晶表示装置
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光変調装置
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液晶表示装置
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アクティブマトリクス基板およびそのリペア方法、表示パネル、表示装置
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液晶表示装置の製造方法
【課題】本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、高い表示品位を有する液晶表示装置を製造できる。
【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、第2基板22の主面21a上に遮光膜BMを形成する工程と、遮光膜BMを覆うように第1絶縁膜226を形成する工程と、第1絶縁膜226上に透光性の導体層100を形成する工程と、導体層100上にレジストREを形成する工程と、第2基板22の反対主面22b側から、遮光膜BMと重ならない部分のレジストREを露光する工程と、レジストRE上にマスクPMを配置して、レジストREのうち遮光膜BMの形成領域上に位置するレジストREの一部をマスクPM側から露光する工程と、導体層100の一部を露出させる工程
と、導体層100の露出した一部をエッチングし、レジストを除去して、遮光膜BMの形成領
域上に信号電極228および共通電極227を形成する工程とを含むことを特徴とする。
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