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国際特許分類[G03F7/025]の内容

国際特許分類[G03F7/025]に分類される特許

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【課題】彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能なレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷板の製造方法、並びにそれにより得られたレリーフ印刷板を提供すること。
【解決手段】(A)アセチレン化合物、及び(B)バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物、それを用いたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法。 (もっと読む)


【構成】基材の上に、窒素、酸素、硫黄各原子のうちの少なくとも1種類の原子で置換された炭化水素基と加水分解性基とがケイ素原子に直接結合したケイ素化合物の層、共役系重合体膜の順に構成されることを特徴とする薄膜を有する基材。
【効果】基材と共役系重合体膜との間に、ケイ素化合物層を介在させることによって、が良好な密着性を有することになり、例えば密着性に優れた反射防止膜や遮光膜が得られる。 (もっと読む)


【構成】基板と感放射線性レジストとの間に、共役系重合体を主成分とする薄膜が介在することを特徴とする二層構造感放射線性レジストおよびその製造方法。
【効果】本発明によると、放射線の基板反射に起因して、感放射線性レジストの膜の厚み変動により、所望のレジストパターンから形状が変移することを抑止することができ、高い製造歩留まりを与えると共に、製造プロセスでのプロセス条件の許容幅を拡大することができる。 (もっと読む)


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