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国際特許分類[G11C17/08]の内容

物理学 (1,541,580) | 情報記憶 (112,808) | 静的記憶 (17,688) | 一度だけプログラム可能なリードオンリメモリ;半永久的記憶装置,例.手でリプレースできる情報カード (379) | 半導体装置を用いるもの,例.バイポーラ素子を用いるもの (48)

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【課題】ゲート電極へのチャージアップの有無を解析する手法を用いても、書き込まれた情報を解析することができないようにするアンチヒューズをメモリ素子として有する半導体装置を提供する。
【解決手段】基板10は第1導電型、例えばp型の半導体基板(例えばシリコン基板)である。アンチヒューズは、ゲート電極120及び第2導電型拡散層130を有している。第2導電型拡散層130は基板10に形成されており、例えばn型である。第1コンタクト122はゲート電極120に接続している。第2コンタクト142は第1コンタクト122と同一層に形成されており、基板10のうち第2導電型拡散層130が形成されていない領域に接続している。第2コンタクト142は第1コンタクト122に隣接している。 (もっと読む)


【課題】設計、製造および検査の各工程において作業効率を向上し得る不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】不揮発性メモリでは、第1配線層LY2に形成されるビット線BL1によりコンタクトホールCH1,CH3,CH5を介してセルトランジスタ21〜25の各ドレインD21〜D25を共通に接続し、このビット線BL1にバイアホールVH1,VH3,VH5を介して接続可能に配置したビット線BL2を第2配線層LY4に形成する。また、第1配線層LY2に形成されるソース線SL1によりコンタクトホールCH2,CH4,CH6を介してセルトランジスタ21〜25の各ソースS21〜S25を共通に接続し、このソース線SL1にバイアホールVH2,VH4,VH6を介して接続可能に配置したソース線SL2を第2配線層LY4に形成する。 (もっと読む)


【課題】消費電流(消費電力)が増加するのを抑制するとともに、メモリセルのアクセス時間が長くなるのを抑制することが可能なメモリを提供する。
【解決手段】このメモリ(ダイオードROM)は、複数のワード線WLと、複数のワード線WLに交差するように配置される複数のビット線BLと、複数のワード線WLの各々に接続され、対応するワード線WLが選択されることによりオン状態になる選択トランジスタ2と、選択トランジスタ2のソース/ドレイン領域の一方にカソードが接続されるダイオード3をそれぞれ含む複数のメモリセル4と、選択トランジスタ2のソース/ドレイン領域の他方側に接続されるソース線S0〜S3と、ソース線S0〜S3に接続され、選択されたメモリセル4から読み出されるデータを判別するためのデータ判別回路11とを備え、ビット線BLの駆動能力は、ビット線BLが配置される位置によって異なるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】従来のOTPメモリセルは破壊耐圧が高く、周辺回路はOTPメモリセルへの書き込み動作時の電圧に耐えられるように高耐圧素子を使用しなければならないため回路面積が増大する問題があった。
【解決手段】本発明にかかるOTPメモリセルは、下部電極LEが形成される下部電極形成領域と、ソースS及びドレインDが形成される拡散層形成領域と、第1のトレンチ型絶縁領域STI1と、第2のトレンチ型絶縁領域STI2とを含む半導体基板と、第1のトレンチ型絶縁領域STI1に接し、下部電極LE上に第1の絶縁膜31を介して形成される上部電極UEと、第2のトレンチ型絶縁領域に接し、チャネル領域上に第2の絶縁膜32を介して形成されるゲート電極Gとを有し、第1の絶縁膜31に接する下部電極形成領域の端部の少なくとも一部の形状は、第2の絶縁膜32に接するチャネル領域の端部の形状よりも尖っているものである。 (もっと読む)


【課題】10〜20mA程度の低電流でザップして形成した細いAlフィラメント線から成るツェナーザップ素子を用いても、信頼性的に長寿命で、長期間にわたって使用が可能なツェナーザップPROM回路を提供する。
【解決手段】通常動作モードに移る前のリードモード時にのみツェナーザップ素子1にリード電流を印加して各ビットのデータを読み、そのデータをラッチ回路6に出力する。通常の回路動作時では、ツェナーザップ素子1に電流を印加せずにリードモード時に読み込んだデータをラッチ回路6より出力する。 (もっと読む)


3次元メモリアレイを有する集積回路は、所与の数のメモリ面のための準備はあるが(図15)、マスクを省略し、省略されるメモリ面に関連する処理ステップを省略することによって、他のメモリ面または装置の残りの部分のための他の製作マスクのいずれをも変えることなく、またアレイの読出しまたは読出し/書込みパスにルーチングまたは他の構成の変更を要することなく、より少ない数のメモリ面を含むように製作され得る。ある層選択回路を選択的にイネーブルするための制御回路は、実現されたメモリ層のそれぞれのアレイ線を、実現されるメモリ面の数にかかわらず、各それぞれのI/Oバス線に結合するよう構成可能であって、層選択回路はそのように適切に配置される。
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