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国際特許分類[H01F10/22]の内容

国際特許分類[H01F10/22]に分類される特許

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【課題】高密度データ記憶のための媒体を提供する。
【解決手段】データ記憶媒体は、マルチフェロイック薄膜と、マルチフェロイック薄膜中に形成された強磁性記憶ドメインとを含む。マルチフェロイック薄膜は、BiFeO又は任意のその他の強誘電性および反強磁性材料の少なくとも1つを含むように形成される。強磁性記憶ドメインは、イオン注入プロセスによってマルチフェロイック薄膜中に形成される。データ記憶媒体を採用したデータ記憶システムもまた提供される。 (もっと読む)


【課題】電界によって分極と磁化を誘起し、その強度と方向を制御できるメモリ素子を提供する。
【解決手段】メモリ素子において、マルチフェロイック固体材料1からなる構造を有し、上下の金属電極2,2′に電界を印加するように配置し、上下の金属電極2,2′間に誘起される電荷、磁化を利用する。データの書き込みは、特定の選択されたビット線4とワード線5の間に印加する電圧による電界で分極を発生させることにより実現する。データの読み出しは、保持されている電気分極に起因する電圧強度で0もしくは1を判定すればよい。データの消去は、そのメモリセル3へ印加する電圧の符号を先に印加した電圧と反転させ、一定の強度を与えればよい。一方、分極発生すると同時に磁化6が発生する。この磁化6は磁界7をメモリセル3の外部に及ぼす。このことからメモリセル3の情報に相応した磁界を発生し得るアクティブ型メモリ素子を提供することができる。 (もっと読む)


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