アミド化合物及びその植物病害防除用途
【課題】植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。
【解決手段】式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物及びその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
植物病害防除剤の有効成分として多くの化合物が開発され、実用に供されている。しかしながら、これらの化合物は必ずしも十分な植物病害防除効力を示さない場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すべく検討の結果、下記式（１）で示されるアミド化合物が、植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は以下の〔１〕〜〔１０〕の通りである。
〔１〕 式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）。
〔２〕 Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔３〕 Ｒ2が、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔４〕 Ｒ1がフッ素原子である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔５〕 Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔６〕 Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔７〕 Ｒ1がフッ素原子である〔５〕又は〔６〕記載のアミド化合物。
〔８〕 〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物及び不活性担体を含有する植物病害防除剤（以下、本発明植物病害防除剤と記す。）。
〔９〕 〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有してなる植物病害の防除方法（以下、本発明植物病害防除方法と記す。）。
〔１０〕 植物病害を防除するための〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【発明の効果】
【０００５】
本発明により、植物病害を防除することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
本発明における、Ｒ2で示される”直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基”とは、炭素鎖に枝分かれがない（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。
本発明においてＲ2で示される、
Ｃ１−Ｃ６直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基が挙げられ、
直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基としては、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、５−メトキシペンチル基及び５−エトキシペンチル基が挙げられる。
【０００７】
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物。
【０００８】
本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）〜（製造法３）により製造することができる。
【０００９】
（製造法１）
本発明化合物は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す。）、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す。）等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと記す。）等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと記す。）等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、及び（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（以下、ＢＯＰ試薬と記す。）が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１０】
（製造法２）
本発明化合物は、化合物（ＩＶ）又はその塩酸塩と化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際に固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１１】
（製造法３）
本発明化合物は、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表し、Ｌは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類が挙げられる。
該反応では化合物（Ｖ）１モルに対して化合物（ＶＩ）が通常１〜１０モルの割合、化合物（Ｖ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際に、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１２】
化合物（Ｖ）は、例えば以下の（合成法１）または（合成法２）により製造することができる。
【００１３】
（合成法１）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＶＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる縮合剤としては、例えばＷＳＣ及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類及びＢＯＰ試薬が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）をクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１４】
（合成法２）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＶ）と化合物（ＶＩＩ）又はその塩酸塩とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜１モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
本発明化合物としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−エトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（５−エトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−エトキシブトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド及びＮ−（３−（５−エトキシペンチルオキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド。
【００１６】
本発明植物病害防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明植物病害防除剤は、通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明植物病害防除剤には本発明化合物が重量比で通常０．１〜９９％、好ましくは０．２〜９０％含有される。
【００１７】
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。
【００１８】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【００１９】
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【００２０】
植物病害を防除するための本発明植物病害防除剤の使用方法としては、例えば茎葉散布等の植物体への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理及び種子消毒等の種子への処理が挙げられる。
【００２１】
また、本発明植物病害防除剤を他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混合して、または混合せずに同時に用いることもできる。
かかる他の殺菌剤としては、例えば、プロピコナゾール（propiconazole）、プロチオコナゾール（prothioconazole）、トリアジメノール（triadimenol）、プロクロラズ（prochloraz）、ペンコナゾール（penconazole）、テブコナゾール（tebuconazole）、フルシラゾール（flusilazole）、ジニコナゾール（diniconazole）、ブロムコナゾール（bromuconazole）、エポキシコナゾール（epoxiconazole）、ジフェノコナゾール（difenoconazole）、シプロコナゾール（cyproconazole）、メトコナゾール（metconazole）、トリフルミゾール（triflumizole）、テトラコナゾール（tetraconazole）、マイクロブタニル（microbutanil）、フェンブコナゾール（fenbuconazole）、ヘキサコナゾール（hexaconazole）、フルキンコナゾール（fluquinconazole）、トリティコナゾール（triticonazole）、ビテルタノール（bitertanol）、イマザリル（imazalil）、フルトリアホール（flutriafol）、シメコナゾール（simeconazole）、イプコナゾール（ipconazole）等のアゾール系殺菌化合物；フェンプロピモルフ（fenpropimorph）、トリデモルフ（tridemorph）、フェンプロピジン（fenpropidin）等の環状アミン系殺菌化合物；カルベンダジム（carbendazim）、ベノミル（benomyl）、チアベンダゾール（thiabendazole）、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）等のベンズイミダゾール系殺菌化合物；プロシミドン（procymidone）；シプロディニル（cyprodinil）；ピリメタニル（pyrimethanil）；ジエトフェンカルブ（diethofencarb）；チウラム（thiuram）；フルアジナム（fluazinam）；マンコゼブ（mancozeb）；イプロジオン（mancozeb）；ビンクロゾリン（vinclozolin）；クロロタロニル（chlorothalonil）；キャプタン（captan）；メパニピリム（mepanipyrim）；フェンピクロニル（fenpiclonil）；フルジオキソニル（fludioxonil）；ジクロフルアニド（dichlofluanid）；フォルペット（folpet）；クレソキシムメチル（kresoxim-methyl）；アゾキシストロビン（azoxystrobin）；トリフロキシストロビン（trifloxystrobin）；フルオキサストロビン（fluoxastrobin）；ピコキシストロビン（picoxystrobin）；ピラクロストロビン（pyraclostrobin）；ジモキシストロビン（dimoxystrobin）；ピリベンカルブ（pyribencarb）；メトミノストロビン（metominostrobin）；エネストロビン（enestroburin）；スピロキサミン（spiroxamine）；キノキシフェン（quinoxyfen）；フェンヘキサミド（fenhexamid）；ファモキサドン（famoxadone）；フェナミドン（fenamidone）；ゾキサミド（zoxamide）；エタボキサム（etaboxam）；アミスルブロム（amisulbrom）；イプロヴァリカルブ（iprovalicarb）；ベンチアバリカルブ（benthiavalicarb）；シアゾファミド（cyazofamid）；マンジプロパミド（mandipropamid）；ボスカリド（boscalid）；ペンチオピラド（penthiopyrad）；メトラフェノン（metrafenone）；フルオピラン（fluopyram）；ビキサフェン（bixafen）；シフルフェナミド（cyflufenamid）；プロキナジド（proquinazid）；オリザストロビン（orysastrobin）；フラメトピル（furametpyr）；チフルザミド（thifluzamide）；メプロニル（mepronil）；フルトラニル（flutolanil）；フルスルファミド（flusulfamide）；フルオピコリド（fluopicolide）；メタラキシルＭ（metalaxyl M）；キララキシル（kiralaxyl）；フォセチル（fosetyl）；シモキサニル（cymoxanil）；ペンシクロン（pencycuron）；トルクロホスメチル（tolclofos-methyl）；カルプロパミド（carpropamid）；ジクロシメット（diclocymet）；フェノキサニル（fenoxanil）；トリシクラゾール（tricyclazole）；ピロキロン（pyroquilon）；プロベナゾール（probenazole）；イソチアニル（isotianil）；チアジニル（tiadinil）；テブフロキン（tebufroquin）；ジクロメジン（diclomezine）；カスガマイシン（kasugamycin）；フェリムゾン（ferimzone）；フサライド（fthalide）；バリダマイシン（validamycin）；ヒドロキシイソキサゾール（hydroxyisoxazole）；イミノクタジン酢酸塩（iminoctadin-acetate）；イソプロチオラン（isoprothiolane）；オキソリニック酸（oxolinic acid）；オキシテトラサイクリン（oxytetracycline）；ストレプトマイシン（streptomycin）、セザキサン（sedaxane）；イソピラザム（isopyrazam）； BYF-14182； フルチアニル（flutianil）；塩基性塩化銅（basic copper chloride）；水酸化第二銅（cupric hydroxide）；塩基性硫酸銅（basic copper sulfate）；有機銅（organic copper）；硫黄（sulfur）などが挙げられる。
【００２２】
かかる他の殺虫剤としては、例えば
（１）有機リン系化合物
アセフェート（acephate）、りん化アルミニウム（Aluminium phosphide）、ブタチオホス（butathiofos）、キャドサホス（cadusafos）、クロルエトキシホス（chlorethoxyfos）、クロルフェンビンホス（ch1orfenvinphos）、クロルピリホス（chlorpyrifos）、クロルピリホスメチル（chlorpyrifos-methyl）、シアノホス（cyanophos：CYAP）、ダイアジノン（diazinon）、ＤＣＩＰ（dichlorodiisopropyl ether）、ジクロフェンチオン（dichlofenthion：ECP）、ジクロルボス（dichlorvos：DDVP）、ジメトエート（dimethoate）、ジメチルビンホス（dimethylvinphos）、ジスルホトン（disulfoton）、EPN、エチオン（ethion）、エトプロホス（ethoprophos）、エトリムホス（etrimfos）、フェンチオン（fenthion：MPP）、フエニトロチオン（fenitrothion：MEP）、ホスチアゼート（fosthiazate）、ホルモチオン（formothion）、りん化水素（Hydrogen phosphide）、イソフェンホス（isofenphos）、イソキサチオン（isoxathion）、マラチオン（malathion）、メスルフェンホス（mesulfenfos）、メチダチオン（methidathion：DMTP）、モノクロトホス（monocrotophos）、ナレッド（naled：BRP）、オキシデプロホス（oxydeprofos：ESP）、パラチオン（parathion）、ホサロン（phosalone）、ホスメット（phosmet：PMP）、ピリミホスメチル（pirimiphos-methy1）、ピリダフェンチオン（pyridafenthion）、キナルホス（quinalphos）、フェントエート（phenthoate：PAP）、プロフェノホス（profenofos）、プロパホス（propaphos）、プロチオホス（prothiofos）、ピラクロホス（pyraclorfos）、サリチオン（salithion）、スルプロホス（sulprofos）、テブピリムホス（tebupirimfos）、テメホス（temephos）、テトラクロルビンホス（tetrach1orvinphos）、テルブホス（terbufos）、チオメトン（thiometon）、トリクロルホン（trichlorphon：DEP）、バミドチオン（vamidothion）、フォレート（phorate）、カズサホス（cadusafos）等；
（２）カーバメート系化合物
アラニカルブ（alanycarb）、ベンダイオカルブ（bendiocarb）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、BPMC、カルバリル（carbary1）、カルボフラン（carbofuran）、カルボスルファン（carbosulfan）、クロエトカルブ（cloethocarb）、エチオフェンカルブ（ethiofencarb）、フェノブカルブ（fenobucarb）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェノキシカルブ（fenoxycarb）、フラチオカルブ（furathiocarb）、イソプロカルブ（isoprocarb：MIPC）、メトルカルブ（metolcarb）、 メソミル（methomyl）、メチオカルブ（methiocarb）、NAC、オキサミル（oxamyl）、ピリミカーブ（pirimicarb）、プロポキスル（propoxur：PHC）、XMC、チオジカルブ（thiodicarb）、 キシリルカルブ（xylylcarb）、アルジカルブ（aldicarb）等；
（３）合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン（acrinathrin）、アレスリン（allethrin）、ベンフルスリン（benfluthrin）、ベータ−シフルトリン（beta-cyfluthrin）、ビフェントリン（bifenthrin）、シクロプロトリン（cycloprothrin）、シフルトリン（cyfluthrin）、シハロトリン（cyhalothrin）、シペルメトリン（cypermethrin）、デルタメトリン（deltamethrin）、エスフェンバレレート（esfenvalerate）、エトフェンプロックス（ethofenprox） 、フェンプロパトリン（fenpropathrin）、フェンバレレート（fenvalerate）、フルシトリネート（flucythrinate）、フルフェンプロックス（flufenoprox）、フルメスリン（flumethrin）、フルバリネート（fluvalinate）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、イミプロトリン（imiprothrin）、ペルメトリン（permethrin）、プラレトリン（prallethrin）、ピレトリン（pyrethrins）、レスメトリン（resmethrin）、シグマ−サイパーメスリン（sigma-cypermethrin）、シラフルオフェン（silafluofen）、テフルトリン（tefluthrin）、トラロメトリン（tralomethrin）、トランスフルトリン（transfluthrin）、テトラメトリン（tetramethrin）、フェノトリン（phenothrin）、シフェノトリン（cyphenothrin）、アルファシペルメトリン（alpha-cypermethrin）、ゼータシペルメトリン（zeta-cypermethrin）、ラムダシハロトリン（lambda-cyhalothrin）、フラメトリン（furamethrin）、タウフルバリネート（tau-fluvalinate）、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−メチルベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート等；
（４）ネライストキシン系化合物
カルタップ（cartap）、ベンスルタップ（bensu1tap）、チオシクラム（thiocyclam）、モノスルタップ（monosultap）、ビスルタップ（bisultap）等；
（５）ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド（imidac1oprid）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミプリド（acetamiprid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、チアクロプリド（thiacloprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、クロチアニジン（clothianidin）等；
（６）ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン（chlorfluazuron）、ビストリフルロン（bistrifluron）、ジアフェンチウロン（diafenthiuron）、ジフルベンズロン（diflubenzuron）、フルアズロン（fluazuron）、フルシクロクスロン（flucycloxuron）、フルフェノクスロン（flufenoxuron）、ヘキサフルムロン（hexaflumuron）、ルフェヌロン（lufenuron）、ノバルロン（novaluron）、ノビフルムロン（noviflumuron）、テフルベンズロン（teflubenzuron）、トリフルムロン（triflumuron）、トリアズロン等；
（７）フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール（acetoprole）、エチプロール（ethiprole）、フィプロニル（fiproni1）、バニリプロール（vaniliprole）、ピリプロール（pyriprole）、ピラフルプロール（pyrafluprole）等；
（８）Ｂｔトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物；
（９）ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド（chromafenozide）、ハロフェノジド（halofenozide）、メトキシフェノジド（methoxyfenozide）、テブフェノジド（tebufenozide）等；
（１０）有機塩素系化合物
アルドリン（aldrin）、ディルドリン（dieldrin）、ジエノクロル（dienochlor）、エンドスルファン（endosulfan）、メトキシクロル（methoxychlor）等；
（１１）天然系殺虫剤
マシン油（machine oil）、硫酸ニコチン（nicotine-sulfate）；
（１２）その他の殺虫剤
アベルメクチン（avermectin-B）、ブロモプロピレート（bromopropylate）、ブプロフェジン（buprofezin）、クロルフェナピル（chlorphenapyr）、シロマジン（cyromazine）、Ｄ−Ｄ（1，3-Dichloropropene）、エマメクチンベンゾエート（emamectin-benzoate）、フェナザキン（fenazaquin）、フルピラゾホス（flupyrazofos）、ハイドロプレン（hydroprene）、メトプレン（methoprene）、インドキサカルブ（indoxacarb）、メトキサジアゾン（metoxadiazone）、ミルベマイシンＡ（milbemycin-A）、ピメトロジン（pymetrozine）、ピリダリル（pyridalyl）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfen）、スピノサッド（spinosad）、スルフラミド（sulfluramid）、トルフェンピラド（tolfenpyrad）、トリアゼメイト（triazamate）、フルベンジアミド（flubendiamide）、レピメクチン（lepimectin）、亜ひ酸（Arsenic acid）、ベンクロチアズ（benclothiaz）、石灰窒素（Calcium cyanamide）、石灰硫黄合剤（Calcium polysulfide）、クロルデン（chlordane）、ＤＤＴ、ＤＳＰ、フルフェネリウム（flufenerim）、フロニカミド（flonicamid）、フルリムフェン（flurimfen）、ホルメタネート（formetanate）、メタム・アンモニウム（metam-ammonium）、メタム・ナトリウム（metam-sodium）、臭化メチル（Methyl bromide）、ニディノテフラン（nidinotefuran）、オレイン酸カリウム（Potassium oleate）、プロトリフェンビュート（protrifenbute）、スピロメシフェン（spiromesifen）、硫黄（Sulfur）、メタフルミゾン（metaflumizone）、スピロテトラマット（spirotetramat）、ピリフルキナゾン（pyrifluquinazone）、スピネトラム（spinetoram）、クロラントラニリプロール（chlorantraniliprole）、シアントラニリプロール（cyantraniliprole）等が挙げられる。
かかる他の殺ダニ剤（殺ダニ活性成分）としては、例えばアセキノシル（acequinocyl）、アミトラズ（amitraz）、ベンゾキシメート（benzoximate）、ビフェナゼート（bifenaate）、フェニソブロモレート（bromopropylate）、キノメチオネート（chinomethionat）、クロルベンジレート（chlorobenzilate）、ＣＰＣＢＳ（chlorfenson）、クロフェンテジン（clofentezine）、シフルメトフェン（cyflumetofen）、ケルセン（ジコホル：dicofol）、エトキサゾール（etoxazole）、酸化フェンブタスズ（fenbutatin oxide）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェンピロキシメート（fenpyroximate）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、フルプロキシフェン（fluproxyfen）、ヘキシチアゾクス（hexythiazox）、プロパルギット（propargite：BPPS）、ポリナクチン複合体（polynactins）、ピリダベン（pyridaben）、ピリミジフェン（Pyrimidifen）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、テトラジホン（tetradifon）、スピロディクロフェン（spirodiclofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、スピロテトラマット（spirotetramat）、アミドフルメット（amidoflumet）、シエノピラフェン（cyenopyrafen）等が挙げられる。
かかる他の殺線虫剤（殺線虫活性成分）としては、例えば、ＤＣＩＰ、フォスチアゼート（fosthiazate）、塩酸レバミゾール（levamisol）、メチルイソチオシアネート（methyisothiocyanate）、酒石酸モランテル（morantel tartarate）、イミシアホス（imicyafos）等が挙げられる。
【００２３】
本発明植物病害防除方法は、本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する。本発明植物病害防除方法は、通常本発明植物病害防除剤を植物又は土壌に処理することで行われる。
本発明植物病害防除剤を本発明植物病害防除方法に使用する際の量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明植物病害防除剤中の本発明化合物量で１０００ｍ2あたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％であり、粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、本発明植物病害防除剤中の本発明化合物量で、種子１Ｋｇに対して通常０.００１〜１００g、好ましくは０．０１〜５０gの範囲で施用される。
【００２４】
本発明植物病害防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明植物病害防除剤は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。
【００２５】
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００２６】
上記「作物」とは、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。
【００２７】
古典的な育種法により耐性が付与された「作物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のClearfield（登録商標）カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された「作物」の例として、グリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ品種があり、RoundupReady（登録商標）及びLibertyLink（登録商標）等の商品名ですでに販売されている。
【００２８】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（RIP）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；HMG-COAリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
【００２９】
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。
これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0 374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、EP-A-0 427 529、EP-A-451 878、WO 03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００３０】
また、1つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard（登録商標）（Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Rootworm（登録商標）（Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Plus（登録商標）（Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、Herculex I（登録商標）（Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン Ｎ−アサチルトランスフェラーゼ（PAT）を発現するトウモロコシ品種）、NuCOTN33B（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard I（登録商標）（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard II（登録商標）（Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種）、VIPCOT（登録商標）（VIP毒素を発現するワタ品種）、NewLeaf（登録商標）（Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種）、NatureGard（登録商標）Agrisure（登録商標）GT Advantage（GA21 グリホサート耐性形質）、Agrisure（登録商標） CB Advantage（Bt11コーンボーラー（CB）形質）、Protecta（登録商標）等が挙げられる。
【００３１】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている（PRPs、EP-A-0 392 225）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0 392 225、WO 95/33818、EP-A-0 353 191等に記載されている。
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；PRタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO 03/000906に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００３２】
本発明により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌等が挙げられ、より詳しくは以下の病害を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
通常、本発明植物病害防除方法は、本発明植物病害防除剤を前記した本発明植物病害防除剤を施用する方法で用いることにより行われる。
【００３３】
イネのいもち病（Magnaporthe grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、黄化萎縮病（Sclerophthora macrospora）；ムギ類のうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis， P. graminis, P. recondita, P. hordei）、雪腐病（Typhula sp.,Micronectriella nivalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici, U. nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、網斑病（Pyrenophora teres Drechsler）、立枯病（Gaeumannomyces graminis）、黄斑病（Pyrenophora tritici-repentis）；カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、そうか病（Elsinoe fawcetti）、果実腐敗病（Penicillium digitatum, P. italicum）；リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、斑点落葉病（Alternaria alternata apple pathotype）、黒星病（Venturia inaequalis）、炭そ病（Glomerella cingulata）；ナシの黒星病（Venturia nashicola, V. pirina）、黒斑病（Alternaria alternata Japanese pear pathotype）、赤星病（Gymnosporangium haraeanum）；モモの灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、フォモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）；ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Glomerella cingulata）、うどんこ病（Uncinula necator）、さび病（Phakopsora ampelopsidis）、ブラックロット病（Guignardia bidwellii）、べと病（Plasmopara viticola）；カキの炭そ病（Gloeosporium kaki）、落葉病（Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae）；ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenarium）、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、疫病（Phytophthora sp.）、苗立枯病（Pythium sp.）；トマトの輪紋病（Alternaria solani）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）；ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）；アブラナ科野菜の黒斑病（Alternaria japonica）、白斑病（Cercosporella brassicae）、根こぶ病（Plasmodiophora parasitica）、べと病（Peronospora parasitica）；ネギのさび病（Puccinia allii）、ダイズの紫斑病（Cercospora kikuchii）、黒とう病（Elsinoe glycines）、黒点病（Diaporthe phaseolorum var. sojae）、さび病( Phakopsora pachyrhizi)、インゲンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum）ラッカセイの黒渋病（Cercospora personata）、褐斑病（Cercospora arachidicola）、白絹病（Sclerotium rolfsii）；エンドウのうどんこ病（Erysiphe pisi）；ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens）；イチゴのうどんこ病（Sphaerotheca humuli）；チャの網もち病（Exobasidium reticulatum）；白星病（Elsinoe leucospila）、輪斑病（Pestalotiopsis sp.）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）タバコの赤星病（Alternaria longipes）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、炭そ病（Colletotrichum tabacum）、べと病（Peronospora tabacina）、疫病（Phytophthora nicotianae）；テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、黒根病（Aphanomyces sochlioides）；バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、うどんこ病（Sphaerotheca pannosa）；キクの褐斑病（Septoria chrysanthemi−indici）、白さび病（Puccinia horiana）；タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病（Botrytis alli）；小菌核性腐敗病（Botrytis squamosa）種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）；ダイコン黒斑病（（Alternaria brassicicola）；シバのダラースポット病（Sclerotinia homeocarpa）、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Rhizoctonia solani）；並びにバナナのシガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）。
【実施例】
【００３４】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等を示す。
【００３５】
製造例１
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸０．１８ｇ、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩０．１９ｇ、ＷＳＣ０.２３ｇ及びピリジン３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 4.75 (2H, d, J = 4.9 Hz), 6.58 (1H, br s), 6.92-7.09 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.11 (1H, s).
【００３６】
製造例２
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、ヨードエタン０．１３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮して、Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（２）と記す。）０．１８ｇを得た。
本発明化合物（２）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.12 (1H, s), 8.53 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.15 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.95 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 7.16 (1H, s), 7.05-6.98 (2H, m), 6.93-6.89 (1H, m), 4.73 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.11 (2H, q, J = 6.9 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.0 Hz).
【００３７】
製造例３
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモプロパン０．１１ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（３）と記す。）０．２０ｇを得た。
本発明化合物（３）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.06 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.81-1.90 (2H, m), 4.00 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.60 (1H, s), 6.91-7.06 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.7, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.4 Hz), 9.11 (1H, s).
【００３８】
製造例４
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモブタン０．１２ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（４）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（４）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, s), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.06-6.61 (3H, m), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.04 (2H, t, J = 6.4 Hz), 1.85-1.78 (2H, m), 1.56-1.49 (2H, m), 0.99 (3H, t, J = 7.4 Hz).
【００３９】
製造例５
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ヨードペンタン０．１７ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（５）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（５）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 2.0 Hz), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.3 Hz), 4.03 (2H, t, J = 6.6 Hz), 1.87-1.80 (2H, m), 1.50-1.35 (4H, m), 0.94 (3H, t, J = 7.1 Hz).
【００４０】
製造例６
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモヘキサン０．１４ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（６）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（６）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 1.5 Hz), 6.63 (1H, s), 4.73 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.03 (2H, t, J = 6.6 Hz), 1.86-1.79 (2H, m), 1.51-1.44 (2H, m), 1.37-1.32 (4H, m), 0.91 (3H, t, J = 7.0 Hz).
【００４１】
製造例７
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１９ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．４５ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（７）と記す。）０．１２ｇを得た。
本発明化合物（７）
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.07 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.1 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.4 Hz), 6.46 (1H, s), 6.86 (1H, dd, J = 7.8, 2.2 Hz), 6.93-6.96 (2H, m), 7.28 (1H, t, J = 7.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.50 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.12 (1H, s).
【００４２】
製造例８
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、４−メトキシブチルメタンスルホネート０．１７ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２８ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（８）と記す。）０．１０ｇを得た。
本発明化合物（８）
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.78 (2H, m), 1.81-1.88 (2H, m), 3.34 (3H, s), 3.44 (2H, t, J = 6.2 Hz), 3.98 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.52 (1H, s), 6.83-6.96 (3H, m), 7.27 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.50-8.50 (1H, m), 9.11 (1H, s).
【００４３】
製造例９
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−５−メトキシペンタン０．２３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．４５ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（９）と記す。）０．１７ｇを得た。
本発明化合物（９）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.45-1.52 (2H, m), 1.58-1.64 (2H, m), 1.73-1.80 (2H, m), 3.31 (3H, s), 3.37 (2H, t, J = 6.3 Hz), 3.90 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.60 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.79 (1H, dd, J = 8.3, 2.2 Hz), 6.87-6.90 (2H, m), 7.11 (1H, t, J = 5.5 Hz), 7.22 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.04 (1H, s).
【００４４】
製造例１０
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１０）と記す。）０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１０）
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.06-2.12 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.58 (2H, t, J = 6.0 Hz), 4.13 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.74 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.64 (1H, s), 6.93-7.07 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.4 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 9.11 (1H, s).
【００４５】
製造例１１
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、４−メトキシブチルメタンスルホネート０．１６ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１１）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１１）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.4 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.6, 1.8 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 2.0 Hz), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.3 Hz), 3.46 (2H, t, J = 6.4 Hz), 3.35 (3H, s), 1.94-1.87 (2H, m), 1.81-1.74 (2H, m).
【００４６】
製造例１２
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−２−メトキシエタン０．２９ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．５２ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１２）と記す。）０．２６ｇを得た。
本発明化合物（１２）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.44 (3H, s), 3.73-3.75 (2H, m), 4.11-4.13 (2H, m), 4.65 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.53 (1H, s), 6.85-6.88 (1H, m), 6.95-6.97 (2H, m), 7.27 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.49 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.11 (1H, s).
【００４７】
製造例１３
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−メトキシエタン０．１８ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（２−フルオロ−３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１３）と記す。）０．１４ｇを得た。
本発明化合物（１３）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.43 (3H, s), 3.75 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.14 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.69 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.86-6.91 (1H, m), 6.95-7.00 (2H, m), 7.17 (1H, t, J = 5.6 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.08 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.07 (1H, s).
【００４８】
製造例１４
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−エトキシエタン０．２０ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１４）と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物（１４）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.22 (3H, t, J = 7.1 Hz), 3.59 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.80 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.16 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.70 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.88-6.94 (1H, m), 6.97-7.02 (2H, m), 7.04 (1H, t, J = 5.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 2.0 Hz), 8.10 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.46 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.08 (1H, s).
【００４９】
製造例１５
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、３−エトキシプロピルメタンスルホネート０．２４ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１５）と記す。）０．１４ｇを得た。
本発明化合物（１５）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.19 (3H, t, J = 7.0 Hz), 2.03-2.09 (2H, m), 3.48 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, t, J = 6.1 Hz), 4.10 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.69 (2H, d, J = 5.4 Hz), 6.87-7.01 (3H, m), 7.22 (1H, t, J = 5.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.06 (1H, s).
【００５０】
製造例１６
Ｎ−３−ヒドロキシフェニルメチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−エトキシエタン０．２１ｇ、炭酸セシウム０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１６）と記す。）０．１３ｇを得た。
本発明化合物（１６）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.23 (3H, t, J = 7.0 Hz), 3.60 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.79 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.12 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.56-6.63 (1H, m), 6.85-6.89 (1H, m), 6.95-6.98 (2H, m), 7.25-7.29 (1H, m), 7.90 (1H, dd, J = 8.4, 1.8 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.51 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.12 (1H, s).
【００５１】
製造例１７
Ｎ−３−ヒドロキシフェニルメチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、３−エトキシプロピルメタンスルホネート０．２６ｇ、炭酸セシウム０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１７）と記す。）０．１８ｇを得た。
本発明化合物（１７）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.18 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.98-2.05 (2H, m), 3.47 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.56 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.02 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.60 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.79-6.83 (1H, m), 6.87-6.92 (2H, m), 7.14 (1H, t, J = 5.4 Hz), 7.20-7.25 (1H, m), 7.90 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.46 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.05 (1H, s).
【００５２】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
【００５３】
参考製造例１
３−ヒドロキシベンズアルデヒド２０g、２−プロパノール２００ｍｌ、ピリジン１６ｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩１５ｇの混合物を室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮し、３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２６ｇを得た。
３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２５ｇ、５％パラジウム炭素１．３ｇ及びエタノール３００ｍｌの混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通してで濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、アセトニトリル２００ｍｌ及び濃塩酸２８ｇを０℃で混合し、生成した固体を濾過により集めた。その固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧下で乾燥して３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩２０ｇを得た。
３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.89 (2H, q, J = 5.6 Hz), 6.79-6.82 (1H, m), 6.88-6.91 (2H, m), 7.18 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.51 (3H, s), 9.72 (1H, s).
【００５４】
参考製造例２
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアルコール４．５ｇと塩化メタンスルホニル２．９ｍｌ及びＴＨＦ５０ｍｌを混合し、０℃で攪拌した。その混合物にトリエチルアミン６．０ｍｌを加え、０℃で３０分間、次いで室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた後、セライト（登録商標）を通して濾過した。ろ液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮し、（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．９ｇを得た。
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.00 (3H, s), 3.91 (3H, s), 5.30 (2H, s), 6.96-7.14 (3H, m).
【００５５】
参考製造例３
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．７ｇ及びフタルイミドカリウム５．３ｇ及びＤＭＦ６０ｍｌを混合し、７０℃で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄してＮ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド５．８ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.87 (3H, s), 4.94 (2H, s), 6.86-6.90 (2H, m), 6.98-7.02 (1H, m), 7.73 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz), 7.86 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz).
【００５６】
参考製造例４
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド７．７ｇとエタノール３０ｍｌとの混合物にヒドラジン１水和物１．６３ｇを滴下し、４時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。残渣に希塩酸を加え、濾過した。得られた濾液に酢酸エチルを加え、水層にそのｐH１１になるまで１５%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。この液を２層に分液した。有機層に濃塩酸を加え、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩４．５ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.85 (3H, s), 4.03 (2H, q, J = 5.3 Hz), 7.13-7.23 (3H, m), 8.60 (3H, br s).
【００５７】
参考製造例５
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１５．４ｇ、ＴＨＦ３０ｍｌ及び水３ｍｌの混合溶液に、ピリジン２４ｍｌを滴下し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸塩１３．８を加えた。室温で３０分間撹拌した。反応混合物を全体の容量が半分程度となるまで減圧下濃縮した。この混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１６ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03-7.12 (1H, m), 7.30-7.33 (1H, m), 7.64-7.78 (1H, m), 8.39 (1H, s).
【００５８】
参考製造例６
１０％パラジウム炭素２．４ｇ、１０Ｎ塩酸８．３ｍｌ及びエタノール２００ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１２．８ｇを加え、約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩８．２ｇを得た。
【００５９】
参考製造例７
１０％パラジウム炭素１．８ｇ、水１０ｍｌ、１０Ｎ塩酸６．５ｍｌ及びエタノール５０ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１０ｇ及びエタノール８０ｍｌの混合溶液を加え、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩５．４ｇを加えた。室温で２時間攪拌した。この混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に水を加えて、クロロホルムで抽出した。得られた水層のｐＨが１１になるまで１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、これをクロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン８．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.55 (2H, br s), 3.89 (3H, s), 3.90 (2H, br s), 6.86-6.91 (2H, m), 7.02-7.06 (1H, m).
【００６０】
参考製造例８
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩４ｇに４８％臭化水素酸１５ｍｌを加え、５時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩４．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.04 (2H, q, J = 5.5 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 6.97-7.06 (2H, m), 8.23 (3H, br s), 10.05 (1H, br s).
【００６１】
参考製造例２
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸５．０ｇ及びＤＭＦ５０ｍｌの混合物に、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩７．４ｇ、ＢＯＰ試薬１２．０ｇ及びトリエチルアミン１１．０ｇを加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド９．０ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.78 (1H, s), 9.54 (1H, s), 9.13 (1H, t, J = 5.7 Hz), 8.70 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.05 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 6.93 (1H, t, J = 7.8 Hz), 6.87-6.77 (2H, m), 4.53 (2H, d, J = 5.6 Hz).
【００６２】
参考製造例３
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸１１ｇ，３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩１５ｇ，ピリジン２０ｍｌ及びＤＭＦ１５０ｍｌの混合物に、０℃でＷＳＣ１４ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣に水を加え、生成した固体を濾過により集めた。その固体を水及びヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥してＮ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド１６ｇを得た。
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.45 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.64 (1H, dd, J = 7.2, 1.6 Hz), 6.76-6.77 (2H, m), 7.12 (1H, t, J = 8.0 Hz), 8.06 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.71 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.15 (1H, t, J = 5.9 Hz), 9.33 (1H, s), 9.54 (1H, s).
【００６３】
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００６４】
製剤例１
本発明化合物（１）〜（１７）５０部、リグニンスルホン酸カルシウム ３部、ラウリル硫酸マグネシウム ２部及び合成含水酸化珪素 ４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００６５】
製剤例２
本発明化合物（１）〜（１７）２０部とソルビタントリオレエ−ト １．５部とを、ポリビニルアルコ−ル ２部を含む水溶液 ２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム ０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト ０．１部を含む水溶液 ４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル １０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００６６】
製剤例３
本発明化合物（１）〜（１７）２部、カオリンクレー ８８部及びタルク １０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００６７】
製剤例４
本発明化合物（１）〜（１７）５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル １４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ６部及びキシレン ７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００６８】
製剤例５
本発明化合物（１）〜（１７）２部、合成含水酸化珪素 １部、リグニンスルホン酸カルシウム ２部、ベントナイト ３０部及びカオリンクレー ６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００６９】
製剤例６
本発明化合物（１）〜（１７）１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 ５０部を含むホワイトカーボン ３５部及び水 ５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【００７０】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理
した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
【００７１】
なお対照としてＮ−（２−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（下式（Ａ）で示される化合物。以下、比較化合物（Ａ）と記す。）
をあわせて試験に供試した。
【００７２】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化合物（１）〜（５）、（７）、（１０）、（１１）、（１４）、（１５）及び（１７）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分濃度が５００ｐｐｍになるように希釈した。この希釈液を上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）の胞子含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１２℃、多湿下に5日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（５）、（７）、（１０）、（１１）、（１４）、（１５）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７３】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で
１２日間生育させた。本発明化合物（１）〜（１２）及び比較化合物（Ａ）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分の濃度が５００ppmになるように希釈した。にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１８℃、多湿下に４日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（１１）及び（１２）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。比較化合物（Ａ）を供試した植物上の病斑面積は、無処理の植物の病斑面積の７６〜１００％であった。
【００７４】
試験例３
プラスチックポットに床土を詰め、イネ（品種；日本晴）を播種し、温室内で１２日間育成させた。本発明化合物（１）〜（４）、（７）、（１０）〜（１５）及び（１７）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分濃度が５００ppmになるように希釈した。この希釈液を上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ ｇｒｉｓｅａ）罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種５日後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（４）、（７）、（１０）〜（１５）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７５】
試験例４
プラスチックポットに砂壌土を詰め、インゲン（品種；長鶉菜豆）を播種し、温室内で８日間生育させた。本発明化合物（１３）〜（１６）及び（１７）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で有効成分の濃度が５００ｐｐｍになるように希釈した。上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、インゲン菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をインゲン葉面上に置いた。接種後全てのインゲンは多湿下におき、接種５日後に病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１３）〜（１６）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミド化合物及びその植物病害防除用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
植物病害防除剤の有効成分として多くの化合物が開発され、実用に供されている。しかしながら、これらの化合物は必ずしも十分な植物病害防除効力を示さない場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すべく検討の結果、下記式（１）で示されるアミド化合物が、植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は以下の〔１〕〜〔１０〕の通りである。
〔１〕 式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）。
〔２〕 Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔３〕 Ｒ2が、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔４〕 Ｒ1がフッ素原子である〔１〕〜〔３〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔５〕 Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔６〕 Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である〔１〕記載のアミド化合物。
〔７〕 Ｒ1がフッ素原子である〔５〕又は〔６〕記載のアミド化合物。
〔８〕 〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物及び不活性担体を含有する植物病害防除剤（以下、本発明植物病害防除剤と記す。）。
〔９〕 〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有してなる植物病害の防除方法（以下、本発明植物病害防除方法と記す。）。
〔１０〕 植物病害を防除するための〔１〕〜〔７〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【発明の効果】
【０００５】
本発明により、植物病害を防除することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
本発明における、Ｒ2で示される”直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基”とは、炭素鎖に枝分かれがない（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。
本発明においてＲ2で示される、
Ｃ１−Ｃ６直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基が挙げられ、
直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基としては、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、５−メトキシペンチル基及び５−エトキシペンチル基が挙げられる。
【０００７】
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ５アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖メトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がフッ素原子であり、Ｒ2が直鎖エトキシＣ２−Ｃ３アルキル基であるアミド化合物。
【０００８】
本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）〜（製造法３）により製造することができる。
【０００９】
（製造法１）
本発明化合物は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す。）、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す。）等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと記す。）等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと記す。）等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、及び（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（以下、ＢＯＰ試薬と記す。）が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１０】
（製造法２）
本発明化合物は、化合物（ＩＶ）又はその塩酸塩と化合物（ＩＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＩＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際に固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１１】
（製造法３）
本発明化合物は、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を表し、Ｌは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類が挙げられる。
該反応では化合物（Ｖ）１モルに対して化合物（ＶＩ）が通常１〜１０モルの割合、化合物（Ｖ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際に、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１２】
化合物（Ｖ）は、例えば以下の（合成法１）または（合成法２）により製造することができる。
【００１３】
（合成法１）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＩ）、化合物（ＶＩＩ）又はその塩（例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。）及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ等の酸アミド類、ＤＭＳＯ等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる縮合剤としては、例えばＷＳＣ及び１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類及びＢＯＰ試薬が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＩ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜３モルの割合、化合物（ＩＩ）１モルに対して縮合剤が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−２０℃〜１４０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）をクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１４】
（合成法２）
化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＶ）と化合物（ＶＩＩ）又はその塩酸塩とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばＴＨＦ、エチレングリコールジメチルエーテル、ＭＴＢＥ等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類が挙げられる。
該反応では化合物（ＩＶ）１モルに対して化合物（ＶＩＩ）が通常０．５〜１モルの割合、化合物（ＩＶ）１モルに対して塩基が通常１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物（Ｖ）を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができる。単離された化合物（Ｖ）を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
本発明化合物としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−エトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（５−エトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（３−（４−エトキシブトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド、Ｎ−（２−フルオロ−３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド及びＮ−（３−（５−エトキシペンチルオキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド。
【００１６】
本発明植物病害防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明植物病害防除剤は、通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明植物病害防除剤には本発明化合物が重量比で通常０．１〜９９％、好ましくは０．２〜９０％含有される。
【００１７】
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。
【００１８】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
【００１９】
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
【００２０】
植物病害を防除するための本発明植物病害防除剤の使用方法としては、例えば茎葉散布等の植物体への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理及び種子消毒等の種子への処理が挙げられる。
【００２１】
また、本発明植物病害防除剤を他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混合して、または混合せずに同時に用いることもできる。
かかる他の殺菌剤としては、例えば、プロピコナゾール（propiconazole）、プロチオコナゾール（prothioconazole）、トリアジメノール（triadimenol）、プロクロラズ（prochloraz）、ペンコナゾール（penconazole）、テブコナゾール（tebuconazole）、フルシラゾール（flusilazole）、ジニコナゾール（diniconazole）、ブロムコナゾール（bromuconazole）、エポキシコナゾール（epoxiconazole）、ジフェノコナゾール（difenoconazole）、シプロコナゾール（cyproconazole）、メトコナゾール（metconazole）、トリフルミゾール（triflumizole）、テトラコナゾール（tetraconazole）、マイクロブタニル（microbutanil）、フェンブコナゾール（fenbuconazole）、ヘキサコナゾール（hexaconazole）、フルキンコナゾール（fluquinconazole）、トリティコナゾール（triticonazole）、ビテルタノール（bitertanol）、イマザリル（imazalil）、フルトリアホール（flutriafol）、シメコナゾール（simeconazole）、イプコナゾール（ipconazole）等のアゾール系殺菌化合物；フェンプロピモルフ（fenpropimorph）、トリデモルフ（tridemorph）、フェンプロピジン（fenpropidin）等の環状アミン系殺菌化合物；カルベンダジム（carbendazim）、ベノミル（benomyl）、チアベンダゾール（thiabendazole）、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）等のベンズイミダゾール系殺菌化合物；プロシミドン（procymidone）；シプロディニル（cyprodinil）；ピリメタニル（pyrimethanil）；ジエトフェンカルブ（diethofencarb）；チウラム（thiuram）；フルアジナム（fluazinam）；マンコゼブ（mancozeb）；イプロジオン（mancozeb）；ビンクロゾリン（vinclozolin）；クロロタロニル（chlorothalonil）；キャプタン（captan）；メパニピリム（mepanipyrim）；フェンピクロニル（fenpiclonil）；フルジオキソニル（fludioxonil）；ジクロフルアニド（dichlofluanid）；フォルペット（folpet）；クレソキシムメチル（kresoxim-methyl）；アゾキシストロビン（azoxystrobin）；トリフロキシストロビン（trifloxystrobin）；フルオキサストロビン（fluoxastrobin）；ピコキシストロビン（picoxystrobin）；ピラクロストロビン（pyraclostrobin）；ジモキシストロビン（dimoxystrobin）；ピリベンカルブ（pyribencarb）；メトミノストロビン（metominostrobin）；エネストロビン（enestroburin）；スピロキサミン（spiroxamine）；キノキシフェン（quinoxyfen）；フェンヘキサミド（fenhexamid）；ファモキサドン（famoxadone）；フェナミドン（fenamidone）；ゾキサミド（zoxamide）；エタボキサム（etaboxam）；アミスルブロム（amisulbrom）；イプロヴァリカルブ（iprovalicarb）；ベンチアバリカルブ（benthiavalicarb）；シアゾファミド（cyazofamid）；マンジプロパミド（mandipropamid）；ボスカリド（boscalid）；ペンチオピラド（penthiopyrad）；メトラフェノン（metrafenone）；フルオピラン（fluopyram）；ビキサフェン（bixafen）；シフルフェナミド（cyflufenamid）；プロキナジド（proquinazid）；オリザストロビン（orysastrobin）；フラメトピル（furametpyr）；チフルザミド（thifluzamide）；メプロニル（mepronil）；フルトラニル（flutolanil）；フルスルファミド（flusulfamide）；フルオピコリド（fluopicolide）；メタラキシルＭ（metalaxyl M）；キララキシル（kiralaxyl）；フォセチル（fosetyl）；シモキサニル（cymoxanil）；ペンシクロン（pencycuron）；トルクロホスメチル（tolclofos-methyl）；カルプロパミド（carpropamid）；ジクロシメット（diclocymet）；フェノキサニル（fenoxanil）；トリシクラゾール（tricyclazole）；ピロキロン（pyroquilon）；プロベナゾール（probenazole）；イソチアニル（isotianil）；チアジニル（tiadinil）；テブフロキン（tebufroquin）；ジクロメジン（diclomezine）；カスガマイシン（kasugamycin）；フェリムゾン（ferimzone）；フサライド（fthalide）；バリダマイシン（validamycin）；ヒドロキシイソキサゾール（hydroxyisoxazole）；イミノクタジン酢酸塩（iminoctadin-acetate）；イソプロチオラン（isoprothiolane）；オキソリニック酸（oxolinic acid）；オキシテトラサイクリン（oxytetracycline）；ストレプトマイシン（streptomycin）、セザキサン（sedaxane）；イソピラザム（isopyrazam）； BYF-14182； フルチアニル（flutianil）；塩基性塩化銅（basic copper chloride）；水酸化第二銅（cupric hydroxide）；塩基性硫酸銅（basic copper sulfate）；有機銅（organic copper）；硫黄（sulfur）などが挙げられる。
【００２２】
かかる他の殺虫剤としては、例えば
（１）有機リン系化合物
アセフェート（acephate）、りん化アルミニウム（Aluminium phosphide）、ブタチオホス（butathiofos）、キャドサホス（cadusafos）、クロルエトキシホス（chlorethoxyfos）、クロルフェンビンホス（ch1orfenvinphos）、クロルピリホス（chlorpyrifos）、クロルピリホスメチル（chlorpyrifos-methyl）、シアノホス（cyanophos：CYAP）、ダイアジノン（diazinon）、ＤＣＩＰ（dichlorodiisopropyl ether）、ジクロフェンチオン（dichlofenthion：ECP）、ジクロルボス（dichlorvos：DDVP）、ジメトエート（dimethoate）、ジメチルビンホス（dimethylvinphos）、ジスルホトン（disulfoton）、EPN、エチオン（ethion）、エトプロホス（ethoprophos）、エトリムホス（etrimfos）、フェンチオン（fenthion：MPP）、フエニトロチオン（fenitrothion：MEP）、ホスチアゼート（fosthiazate）、ホルモチオン（formothion）、りん化水素（Hydrogen phosphide）、イソフェンホス（isofenphos）、イソキサチオン（isoxathion）、マラチオン（malathion）、メスルフェンホス（mesulfenfos）、メチダチオン（methidathion：DMTP）、モノクロトホス（monocrotophos）、ナレッド（naled：BRP）、オキシデプロホス（oxydeprofos：ESP）、パラチオン（parathion）、ホサロン（phosalone）、ホスメット（phosmet：PMP）、ピリミホスメチル（pirimiphos-methy1）、ピリダフェンチオン（pyridafenthion）、キナルホス（quinalphos）、フェントエート（phenthoate：PAP）、プロフェノホス（profenofos）、プロパホス（propaphos）、プロチオホス（prothiofos）、ピラクロホス（pyraclorfos）、サリチオン（salithion）、スルプロホス（sulprofos）、テブピリムホス（tebupirimfos）、テメホス（temephos）、テトラクロルビンホス（tetrach1orvinphos）、テルブホス（terbufos）、チオメトン（thiometon）、トリクロルホン（trichlorphon：DEP）、バミドチオン（vamidothion）、フォレート（phorate）、カズサホス（cadusafos）等；
（２）カーバメート系化合物
アラニカルブ（alanycarb）、ベンダイオカルブ（bendiocarb）、ベンフラカルブ（benfuracarb）、BPMC、カルバリル（carbary1）、カルボフラン（carbofuran）、カルボスルファン（carbosulfan）、クロエトカルブ（cloethocarb）、エチオフェンカルブ（ethiofencarb）、フェノブカルブ（fenobucarb）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェノキシカルブ（fenoxycarb）、フラチオカルブ（furathiocarb）、イソプロカルブ（isoprocarb：MIPC）、メトルカルブ（metolcarb）、 メソミル（methomyl）、メチオカルブ（methiocarb）、NAC、オキサミル（oxamyl）、ピリミカーブ（pirimicarb）、プロポキスル（propoxur：PHC）、XMC、チオジカルブ（thiodicarb）、 キシリルカルブ（xylylcarb）、アルジカルブ（aldicarb）等；
（３）合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン（acrinathrin）、アレスリン（allethrin）、ベンフルスリン（benfluthrin）、ベータ−シフルトリン（beta-cyfluthrin）、ビフェントリン（bifenthrin）、シクロプロトリン（cycloprothrin）、シフルトリン（cyfluthrin）、シハロトリン（cyhalothrin）、シペルメトリン（cypermethrin）、デルタメトリン（deltamethrin）、エスフェンバレレート（esfenvalerate）、エトフェンプロックス（ethofenprox） 、フェンプロパトリン（fenpropathrin）、フェンバレレート（fenvalerate）、フルシトリネート（flucythrinate）、フルフェンプロックス（flufenoprox）、フルメスリン（flumethrin）、フルバリネート（fluvalinate）、ハルフェンプロックス（halfenprox）、イミプロトリン（imiprothrin）、ペルメトリン（permethrin）、プラレトリン（prallethrin）、ピレトリン（pyrethrins）、レスメトリン（resmethrin）、シグマ−サイパーメスリン（sigma-cypermethrin）、シラフルオフェン（silafluofen）、テフルトリン（tefluthrin）、トラロメトリン（tralomethrin）、トランスフルトリン（transfluthrin）、テトラメトリン（tetramethrin）、フェノトリン（phenothrin）、シフェノトリン（cyphenothrin）、アルファシペルメトリン（alpha-cypermethrin）、ゼータシペルメトリン（zeta-cypermethrin）、ラムダシハロトリン（lambda-cyhalothrin）、フラメトリン（furamethrin）、タウフルバリネート（tau-fluvalinate）、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−メチルベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−プロプ−1−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−4−（メトキシメチル）ベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−3−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート等；
（４）ネライストキシン系化合物
カルタップ（cartap）、ベンスルタップ（bensu1tap）、チオシクラム（thiocyclam）、モノスルタップ（monosultap）、ビスルタップ（bisultap）等；
（５）ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド（imidac1oprid）、ニテンピラム（nitenpyram）、アセタミプリド（acetamiprid）、チアメトキサム（thiamethoxam）、チアクロプリド（thiacloprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、クロチアニジン（clothianidin）等；
（６）ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン（chlorfluazuron）、ビストリフルロン（bistrifluron）、ジアフェンチウロン（diafenthiuron）、ジフルベンズロン（diflubenzuron）、フルアズロン（fluazuron）、フルシクロクスロン（flucycloxuron）、フルフェノクスロン（flufenoxuron）、ヘキサフルムロン（hexaflumuron）、ルフェヌロン（lufenuron）、ノバルロン（novaluron）、ノビフルムロン（noviflumuron）、テフルベンズロン（teflubenzuron）、トリフルムロン（triflumuron）、トリアズロン等；
（７）フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール（acetoprole）、エチプロール（ethiprole）、フィプロニル（fiproni1）、バニリプロール（vaniliprole）、ピリプロール（pyriprole）、ピラフルプロール（pyrafluprole）等；
（８）Ｂｔトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物；
（９）ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド（chromafenozide）、ハロフェノジド（halofenozide）、メトキシフェノジド（methoxyfenozide）、テブフェノジド（tebufenozide）等；
（１０）有機塩素系化合物
アルドリン（aldrin）、ディルドリン（dieldrin）、ジエノクロル（dienochlor）、エンドスルファン（endosulfan）、メトキシクロル（methoxychlor）等；
（１１）天然系殺虫剤
マシン油（machine oil）、硫酸ニコチン（nicotine-sulfate）；
（１２）その他の殺虫剤
アベルメクチン（avermectin-B）、ブロモプロピレート（bromopropylate）、ブプロフェジン（buprofezin）、クロルフェナピル（chlorphenapyr）、シロマジン（cyromazine）、Ｄ−Ｄ（1，3-Dichloropropene）、エマメクチンベンゾエート（emamectin-benzoate）、フェナザキン（fenazaquin）、フルピラゾホス（flupyrazofos）、ハイドロプレン（hydroprene）、メトプレン（methoprene）、インドキサカルブ（indoxacarb）、メトキサジアゾン（metoxadiazone）、ミルベマイシンＡ（milbemycin-A）、ピメトロジン（pymetrozine）、ピリダリル（pyridalyl）、ピリプロキシフェン（pyriproxyfen）、スピノサッド（spinosad）、スルフラミド（sulfluramid）、トルフェンピラド（tolfenpyrad）、トリアゼメイト（triazamate）、フルベンジアミド（flubendiamide）、レピメクチン（lepimectin）、亜ひ酸（Arsenic acid）、ベンクロチアズ（benclothiaz）、石灰窒素（Calcium cyanamide）、石灰硫黄合剤（Calcium polysulfide）、クロルデン（chlordane）、ＤＤＴ、ＤＳＰ、フルフェネリウム（flufenerim）、フロニカミド（flonicamid）、フルリムフェン（flurimfen）、ホルメタネート（formetanate）、メタム・アンモニウム（metam-ammonium）、メタム・ナトリウム（metam-sodium）、臭化メチル（Methyl bromide）、ニディノテフラン（nidinotefuran）、オレイン酸カリウム（Potassium oleate）、プロトリフェンビュート（protrifenbute）、スピロメシフェン（spiromesifen）、硫黄（Sulfur）、メタフルミゾン（metaflumizone）、スピロテトラマット（spirotetramat）、ピリフルキナゾン（pyrifluquinazone）、スピネトラム（spinetoram）、クロラントラニリプロール（chlorantraniliprole）、シアントラニリプロール（cyantraniliprole）等が挙げられる。
かかる他の殺ダニ剤（殺ダニ活性成分）としては、例えばアセキノシル（acequinocyl）、アミトラズ（amitraz）、ベンゾキシメート（benzoximate）、ビフェナゼート（bifenaate）、フェニソブロモレート（bromopropylate）、キノメチオネート（chinomethionat）、クロルベンジレート（chlorobenzilate）、ＣＰＣＢＳ（chlorfenson）、クロフェンテジン（clofentezine）、シフルメトフェン（cyflumetofen）、ケルセン（ジコホル：dicofol）、エトキサゾール（etoxazole）、酸化フェンブタスズ（fenbutatin oxide）、フェノチオカルブ（fenothiocarb）、フェンピロキシメート（fenpyroximate）、フルアクリピリム（fluacrypyrim）、フルプロキシフェン（fluproxyfen）、ヘキシチアゾクス（hexythiazox）、プロパルギット（propargite：BPPS）、ポリナクチン複合体（polynactins）、ピリダベン（pyridaben）、ピリミジフェン（Pyrimidifen）、テブフェンピラド（tebufenpyrad）、テトラジホン（tetradifon）、スピロディクロフェン（spirodiclofen）、スピロメシフェン（spiromesifen）、スピロテトラマット（spirotetramat）、アミドフルメット（amidoflumet）、シエノピラフェン（cyenopyrafen）等が挙げられる。
かかる他の殺線虫剤（殺線虫活性成分）としては、例えば、ＤＣＩＰ、フォスチアゼート（fosthiazate）、塩酸レバミゾール（levamisol）、メチルイソチオシアネート（methyisothiocyanate）、酒石酸モランテル（morantel tartarate）、イミシアホス（imicyafos）等が挙げられる。
【００２３】
本発明植物病害防除方法は、本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する。本発明植物病害防除方法は、通常本発明植物病害防除剤を植物又は土壌に処理することで行われる。
本発明植物病害防除剤を本発明植物病害防除方法に使用する際の量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明植物病害防除剤中の本発明化合物量で１０００ｍ2あたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％であり、粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、本発明植物病害防除剤中の本発明化合物量で、種子１Ｋｇに対して通常０.００１〜１００g、好ましくは０．０１〜５０gの範囲で施用される。
【００２４】
本発明植物病害防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明植物病害防除剤は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。
【００２５】
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。
【００２６】
上記「作物」とは、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。
【００２７】
古典的な育種法により耐性が付与された「作物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のClearfield（登録商標）カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された「作物」の例として、グリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ品種があり、RoundupReady（登録商標）及びLibertyLink（登録商標）等の商品名ですでに販売されている。
【００２８】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（RIP）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；HMG-COAリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
【００２９】
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。
これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0 374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、EP-A-0 427 529、EP-A-451 878、WO 03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００３０】
また、1つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard（登録商標）（Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Rootworm（登録商標）（Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、YieldGard Plus（登録商標）（Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、Herculex I（登録商標）（Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン Ｎ−アサチルトランスフェラーゼ（PAT）を発現するトウモロコシ品種）、NuCOTN33B（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard I（登録商標）（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、Bollgard II（登録商標）（Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種）、VIPCOT（登録商標）（VIP毒素を発現するワタ品種）、NewLeaf（登録商標）（Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種）、NatureGard（登録商標）Agrisure（登録商標）GT Advantage（GA21 グリホサート耐性形質）、Agrisure（登録商標） CB Advantage（Bt11コーンボーラー（CB）形質）、Protecta（登録商標）等が挙げられる。
【００３１】
上記「作物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている（PRPs、EP-A-0 392 225）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0 392 225、WO 95/33818、EP-A-0 353 191等に記載されている。
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；PRタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO 03/000906に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００３２】
本発明により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌等が挙げられ、より詳しくは以下の病害を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
通常、本発明植物病害防除方法は、本発明植物病害防除剤を前記した本発明植物病害防除剤を施用する方法で用いることにより行われる。
【００３３】
イネのいもち病（Magnaporthe grisea）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、黄化萎縮病（Sclerophthora macrospora）；ムギ類のうどんこ病（Erysiphe graminis）、赤かび病（Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale）、さび病（Puccinia striiformis， P. graminis, P. recondita, P. hordei）、雪腐病（Typhula sp.,Micronectriella nivalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici, U. nuda）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、網斑病（Pyrenophora teres Drechsler）、立枯病（Gaeumannomyces graminis）、黄斑病（Pyrenophora tritici-repentis）；カンキツ類の黒点病（Diaporthe citri）、そうか病（Elsinoe fawcetti）、果実腐敗病（Penicillium digitatum, P. italicum）；リンゴのモニリア病（Monilinia mali）、腐らん病（Valsa ceratosperma）、うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、斑点落葉病（Alternaria alternata apple pathotype）、黒星病（Venturia inaequalis）、炭そ病（Glomerella cingulata）；ナシの黒星病（Venturia nashicola, V. pirina）、黒斑病（Alternaria alternata Japanese pear pathotype）、赤星病（Gymnosporangium haraeanum）；モモの灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、フォモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）；ブドウの黒とう病（Elsinoe ampelina）、晩腐病（Glomerella cingulata）、うどんこ病（Uncinula necator）、さび病（Phakopsora ampelopsidis）、ブラックロット病（Guignardia bidwellii）、べと病（Plasmopara viticola）；カキの炭そ病（Gloeosporium kaki）、落葉病（Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae）；ウリ類の炭そ病（Colletotrichum lagenarium）、うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、疫病（Phytophthora sp.）、苗立枯病（Pythium sp.）；トマトの輪紋病（Alternaria solani）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）；ナスの褐紋病（Phomopsis vexans）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）；アブラナ科野菜の黒斑病（Alternaria japonica）、白斑病（Cercosporella brassicae）、根こぶ病（Plasmodiophora parasitica）、べと病（Peronospora parasitica）；ネギのさび病（Puccinia allii）、ダイズの紫斑病（Cercospora kikuchii）、黒とう病（Elsinoe glycines）、黒点病（Diaporthe phaseolorum var. sojae）、さび病( Phakopsora pachyrhizi)、インゲンの炭そ病（Colletotrichum lindemthianum）ラッカセイの黒渋病（Cercospora personata）、褐斑病（Cercospora arachidicola）、白絹病（Sclerotium rolfsii）；エンドウのうどんこ病（Erysiphe pisi）；ジャガイモの夏疫病（Alternaria solani）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens）；イチゴのうどんこ病（Sphaerotheca humuli）；チャの網もち病（Exobasidium reticulatum）；白星病（Elsinoe leucospila）、輪斑病（Pestalotiopsis sp.）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）タバコの赤星病（Alternaria longipes）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、炭そ病（Colletotrichum tabacum）、べと病（Peronospora tabacina）、疫病（Phytophthora nicotianae）；テンサイの褐斑病（Cercospora beticola）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、黒根病（Aphanomyces sochlioides）；バラの黒星病（Diplocarpon rosae）、うどんこ病（Sphaerotheca pannosa）；キクの褐斑病（Septoria chrysanthemi−indici）、白さび病（Puccinia horiana）；タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病（Botrytis alli）；小菌核性腐敗病（Botrytis squamosa）種々の作物の灰色かび病（Botrytis cinerea）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）；ダイコン黒斑病（（Alternaria brassicicola）；シバのダラースポット病（Sclerotinia homeocarpa）、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Rhizoctonia solani）；並びにバナナのシガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）。
【実施例】
【００３４】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等を示す。
【００３５】
製造例１
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸０．１８ｇ、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩０．１９ｇ、ＷＳＣ０.２３ｇ及びピリジン３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 4.75 (2H, d, J = 4.9 Hz), 6.58 (1H, br s), 6.92-7.09 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.11 (1H, s).
【００３６】
製造例２
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、ヨードエタン０．１３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮して、Ｎ−（３−エトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（２）と記す。）０．１８ｇを得た。
本発明化合物（２）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.12 (1H, s), 8.53 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.15 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.95 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 7.16 (1H, s), 7.05-6.98 (2H, m), 6.93-6.89 (1H, m), 4.73 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.11 (2H, q, J = 6.9 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.0 Hz).
【００３７】
製造例３
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモプロパン０．１１ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−プロポキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（３）と記す。）０．２０ｇを得た。
本発明化合物（３）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.06 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.81-1.90 (2H, m), 4.00 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.60 (1H, s), 6.91-7.06 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.7, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.4 Hz), 9.11 (1H, s).
【００３８】
製造例４
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモブタン０．１２ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（３−ブトキシ−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（４）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（４）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, s), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.06-6.61 (3H, m), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.04 (2H, t, J = 6.4 Hz), 1.85-1.78 (2H, m), 1.56-1.49 (2H, m), 0.99 (3H, t, J = 7.4 Hz).
【００３９】
製造例５
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ヨードペンタン０．１７ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−ペンチルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（５）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（５）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 2.0 Hz), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.3 Hz), 4.03 (2H, t, J = 6.6 Hz), 1.87-1.80 (2H, m), 1.50-1.35 (4H, m), 0.94 (3H, t, J = 7.1 Hz).
【００４０】
製造例６
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモヘキサン０．１４ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−ヘキシルオキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（６）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（６）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 1.5 Hz), 6.63 (1H, s), 4.73 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.03 (2H, t, J = 6.6 Hz), 1.86-1.79 (2H, m), 1.51-1.44 (2H, m), 1.37-1.32 (4H, m), 0.91 (3H, t, J = 7.0 Hz).
【００４１】
製造例７
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１９ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．４５ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（７）と記す。）０．１２ｇを得た。
本発明化合物（７）
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.07 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.1 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.4 Hz), 6.46 (1H, s), 6.86 (1H, dd, J = 7.8, 2.2 Hz), 6.93-6.96 (2H, m), 7.28 (1H, t, J = 7.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.50 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.12 (1H, s).
【００４２】
製造例８
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、４−メトキシブチルメタンスルホネート０．１７ｇ及びＤＭＦ３ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２８ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（８）と記す。）０．１０ｇを得た。
本発明化合物（８）
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.78 (2H, m), 1.81-1.88 (2H, m), 3.34 (3H, s), 3.44 (2H, t, J = 6.2 Hz), 3.98 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.52 (1H, s), 6.83-6.96 (3H, m), 7.27 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.50-8.50 (1H, m), 9.11 (1H, s).
【００４３】
製造例９
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−５−メトキシペンタン０．２３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．４５ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（５−メトキシペンチルオキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（９）と記す。）０．１７ｇを得た。
本発明化合物（９）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.45-1.52 (2H, m), 1.58-1.64 (2H, m), 1.73-1.80 (2H, m), 3.31 (3H, s), 3.37 (2H, t, J = 6.3 Hz), 3.90 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.60 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.79 (1H, dd, J = 8.3, 2.2 Hz), 6.87-6.90 (2H, m), 7.11 (1H, t, J = 5.5 Hz), 7.22 (1H, t, J = 7.9 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.04 (1H, s).
【００４４】
製造例１０
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−３−メトキシプロパン０．１３ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−（３−メトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１０）と記す。）０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１０）
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.06-2.12 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.58 (2H, t, J = 6.0 Hz), 4.13 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.74 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.64 (1H, s), 6.93-7.07 (3H, m), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.4 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 9.11 (1H, s).
【００４５】
製造例１１
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、４−メトキシブチルメタンスルホネート０．１６ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．２６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、生じた固体を濾過により集めた。その固体を水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、Ｎ−（２−フルオロ−３−（４−メトキシブトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１１）と記す。）０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１１）
1H-NMR (CDCl3) δ: 9.11 (1H, s), 8.48 (1H, d, J = 1.4 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.6, 1.8 Hz), 7.06-6.98 (2H, m), 6.92 (1H, td, J = 7.9, 2.0 Hz), 6.61 (1H, s), 4.74 (2H, d, J = 5.8 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.3 Hz), 3.46 (2H, t, J = 6.4 Hz), 3.35 (3H, s), 1.94-1.87 (2H, m), 1.81-1.74 (2H, m).
【００４６】
製造例１２
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．３０ｇ、１−ブロモ−２−メトキシエタン０．２９ｇ及びＤＭＦ５ｍｌの混合物に、炭酸セシウム０．５２ｇを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１２）と記す。）０．２６ｇを得た。
本発明化合物（１２）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.44 (3H, s), 3.73-3.75 (2H, m), 4.11-4.13 (2H, m), 4.65 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.53 (1H, s), 6.85-6.88 (1H, m), 6.95-6.97 (2H, m), 7.27 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.49 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.11 (1H, s).
【００４７】
製造例１３
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−メトキシエタン０．１８ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（２−フルオロ−３−（２−メトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１３）と記す。）０．１４ｇを得た。
本発明化合物（１３）
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.43 (3H, s), 3.75 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.14 (2H, t, J = 4.6 Hz), 4.69 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.86-6.91 (1H, m), 6.95-7.00 (2H, m), 7.17 (1H, t, J = 5.6 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.08 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.07 (1H, s).
【００４８】
製造例１４
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−エトキシエタン０．２０ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１４）と記す。）０．１６ｇを得た。
本発明化合物（１４）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.22 (3H, t, J = 7.1 Hz), 3.59 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.80 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.16 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.70 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.88-6.94 (1H, m), 6.97-7.02 (2H, m), 7.04 (1H, t, J = 5.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 2.0 Hz), 8.10 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.46 (1H, d, J = 1.5 Hz), 9.08 (1H, s).
【００４９】
製造例１５
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、３−エトキシプロピルメタンスルホネート０．２４ｇ、炭酸セシウム０．４３ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）−２−フルオロフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１５）と記す。）０．１４ｇを得た。
本発明化合物（１５）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.19 (3H, t, J = 7.0 Hz), 2.03-2.09 (2H, m), 3.48 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, t, J = 6.1 Hz), 4.10 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.69 (2H, d, J = 5.4 Hz), 6.87-7.01 (3H, m), 7.22 (1H, t, J = 5.7 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.45 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.06 (1H, s).
【００５０】
製造例１６
Ｎ−３−ヒドロキシフェニルメチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、１−ブロモ−２−エトキシエタン０．２１ｇ、炭酸セシウム０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（２−エトキシエトキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１６）と記す。）０．１３ｇを得た。
本発明化合物（１６）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.23 (3H, t, J = 7.0 Hz), 3.60 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.79 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.12 (2H, t, J = 4.9 Hz), 4.66 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.56-6.63 (1H, m), 6.85-6.89 (1H, m), 6.95-6.98 (2H, m), 7.25-7.29 (1H, m), 7.90 (1H, dd, J = 8.4, 1.8 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.51 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.12 (1H, s).
【００５１】
製造例１７
Ｎ−３−ヒドロキシフェニルメチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド０．２０ｇ、３−エトキシプロピルメタンスルホネート０．２６ｇ、炭酸セシウム０．４６ｇ及びＤＭＦ３ｍｌを混合し室温で２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付して、Ｎ−（３−（３−エトキシプロポキシ）フェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（以下、本発明化合物（１７）と記す。）０．１８ｇを得た。
本発明化合物（１７）
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.18 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.98-2.05 (2H, m), 3.47 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.56 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.02 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.60 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.79-6.83 (1H, m), 6.87-6.92 (2H, m), 7.14 (1H, t, J = 5.4 Hz), 7.20-7.25 (1H, m), 7.90 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.46 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.05 (1H, s).
【００５２】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
【００５３】
参考製造例１
３−ヒドロキシベンズアルデヒド２０g、２−プロパノール２００ｍｌ、ピリジン１６ｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩１５ｇの混合物を室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮し、３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２６ｇを得た。
３−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム２５ｇ、５％パラジウム炭素１．３ｇ及びエタノール３００ｍｌの混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通してで濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、アセトニトリル２００ｍｌ及び濃塩酸２８ｇを０℃で混合し、生成した固体を濾過により集めた。その固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧下で乾燥して３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩２０ｇを得た。
３−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.89 (2H, q, J = 5.6 Hz), 6.79-6.82 (1H, m), 6.88-6.91 (2H, m), 7.18 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.51 (3H, s), 9.72 (1H, s).
【００５４】
参考製造例２
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアルコール４．５ｇと塩化メタンスルホニル２．９ｍｌ及びＴＨＦ５０ｍｌを混合し、０℃で攪拌した。その混合物にトリエチルアミン６．０ｍｌを加え、０℃で３０分間、次いで室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた後、セライト（登録商標）を通して濾過した。ろ液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮し、（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．９ｇを得た。
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.00 (3H, s), 3.91 (3H, s), 5.30 (2H, s), 6.96-7.14 (3H, m).
【００５５】
参考製造例３
（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルメタンスルホネート６．７ｇ及びフタルイミドカリウム５．３ｇ及びＤＭＦ６０ｍｌを混合し、７０℃で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄してＮ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド５．８ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.87 (3H, s), 4.94 (2H, s), 6.86-6.90 (2H, m), 6.98-7.02 (1H, m), 7.73 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz), 7.86 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz).
【００５６】
参考製造例４
Ｎ−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）メチルフタルイミド７．７ｇとエタノール３０ｍｌとの混合物にヒドラジン１水和物１．６３ｇを滴下し、４時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。残渣に希塩酸を加え、濾過した。得られた濾液に酢酸エチルを加え、水層にそのｐH１１になるまで１５%水酸化ナトリウム水溶液を加えた。この液を２層に分液した。有機層に濃塩酸を加え、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩４．５ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.85 (3H, s), 4.03 (2H, q, J = 5.3 Hz), 7.13-7.23 (3H, m), 8.60 (3H, br s).
【００５７】
参考製造例５
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１５．４ｇ、ＴＨＦ３０ｍｌ及び水３ｍｌの混合溶液に、ピリジン２４ｍｌを滴下し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸塩１３．８を加えた。室温で３０分間撹拌した。反応混合物を全体の容量が半分程度となるまで減圧下濃縮した。この混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１６ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03-7.12 (1H, m), 7.30-7.33 (1H, m), 7.64-7.78 (1H, m), 8.39 (1H, s).
【００５８】
参考製造例６
１０％パラジウム炭素２．４ｇ、１０Ｎ塩酸８．３ｍｌ及びエタノール２００ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒドオキシム１２．８ｇを加え、約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩８．２ｇを得た。
【００５９】
参考製造例７
１０％パラジウム炭素１．８ｇ、水１０ｍｌ、１０Ｎ塩酸６．５ｍｌ及びエタノール５０ｍｌの混合溶液に、２−フルオロ−３−メトキシベンズアルデヒド１０ｇ及びエタノール８０ｍｌの混合溶液を加え、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩５．４ｇを加えた。室温で２時間攪拌した。この混合物を約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通して濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に水を加えて、クロロホルムで抽出した。得られた水層のｐＨが１１になるまで１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、これをクロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン８．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.55 (2H, br s), 3.89 (3H, s), 3.90 (2H, br s), 6.86-6.91 (2H, m), 7.02-7.06 (1H, m).
【００６０】
参考製造例８
２−フルオロ−３−メトキシベンジルアミン塩酸塩４ｇに４８％臭化水素酸１５ｍｌを加え、５時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩４．０ｇを得た。
２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.04 (2H, q, J = 5.5 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 6.97-7.06 (2H, m), 8.23 (3H, br s), 10.05 (1H, br s).
【００６１】
参考製造例２
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸５．０ｇ及びＤＭＦ５０ｍｌの混合物に、２−フルオロ−３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩７．４ｇ、ＢＯＰ試薬１２．０ｇ及びトリエチルアミン１１．０ｇを加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してＮ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド９．０ｇを得た。
Ｎ−（２−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.78 (1H, s), 9.54 (1H, s), 9.13 (1H, t, J = 5.7 Hz), 8.70 (1H, d, J = 1.7 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.05 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 6.93 (1H, t, J = 7.8 Hz), 6.87-6.77 (2H, m), 4.53 (2H, d, J = 5.6 Hz).
【００６２】
参考製造例３
ベンゾチアゾール−６−カルボン酸１１ｇ，３−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩１５ｇ，ピリジン２０ｍｌ及びＤＭＦ１５０ｍｌの混合物に、０℃でＷＳＣ１４ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣に水を加え、生成した固体を濾過により集めた。その固体を水及びヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥してＮ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド１６ｇを得た。
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.45 (2H, d, J = 5.9 Hz), 6.64 (1H, dd, J = 7.2, 1.6 Hz), 6.76-6.77 (2H, m), 7.12 (1H, t, J = 8.0 Hz), 8.06 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.17 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.71 (1H, d, J = 1.7 Hz), 9.15 (1H, t, J = 5.9 Hz), 9.33 (1H, s), 9.54 (1H, s).
【００６３】
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
【００６４】
製剤例１
本発明化合物（１）〜（１７）５０部、リグニンスルホン酸カルシウム ３部、ラウリル硫酸マグネシウム ２部及び合成含水酸化珪素 ４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００６５】
製剤例２
本発明化合物（１）〜（１７）２０部とソルビタントリオレエ−ト １．５部とを、ポリビニルアルコ−ル ２部を含む水溶液 ２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム ０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト ０．１部を含む水溶液 ４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル １０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００６６】
製剤例３
本発明化合物（１）〜（１７）２部、カオリンクレー ８８部及びタルク １０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００６７】
製剤例４
本発明化合物（１）〜（１７）５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル １４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ６部及びキシレン ７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００６８】
製剤例５
本発明化合物（１）〜（１７）２部、合成含水酸化珪素 １部、リグニンスルホン酸カルシウム ２部、ベントナイト ３０部及びカオリンクレー ６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００６９】
製剤例６
本発明化合物（１）〜（１７）１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 ５０部を含むホワイトカーボン ３５部及び水 ５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
【００７０】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理
した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
【００７１】
なお対照としてＮ−（２−メトキシフェニル）メチル−ベンゾチアゾール−６−カルボキサミド（下式（Ａ）で示される化合物。以下、比較化合物（Ａ）と記す。）
をあわせて試験に供試した。
【００７２】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で１２日間生育させた。本発明化合物（１）〜（５）、（７）、（１０）、（１１）、（１４）、（１５）及び（１７）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分濃度が５００ｐｐｍになるように希釈した。この希釈液を上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）の胞子含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１２℃、多湿下に5日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（５）、（７）、（１０）、（１１）、（１４）、（１５）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７３】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ（品種；相模半白）を播種し、温室内で
１２日間生育させた。本発明化合物（１）〜（１２）及び比較化合物（Ａ）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分の濃度が５００ppmになるように希釈した。にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後１８℃、多湿下に４日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（１１）及び（１２）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。比較化合物（Ａ）を供試した植物上の病斑面積は、無処理の植物の病斑面積の７６〜１００％であった。
【００７４】
試験例３
プラスチックポットに床土を詰め、イネ（品種；日本晴）を播種し、温室内で１２日間育成させた。本発明化合物（１）〜（４）、（７）、（１０）〜（１５）及び（１７）を製剤例６に準じて製剤とした後、水で有効成分濃度が５００ppmになるように希釈した。この希釈液を上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ ｇｒｉｓｅａ）罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種５日後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１）〜（４）、（７）、（１０）〜（１５）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【００７５】
試験例４
プラスチックポットに砂壌土を詰め、インゲン（品種；長鶉菜豆）を播種し、温室内で８日間生育させた。本発明化合物（１３）〜（１６）及び（１７）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で有効成分の濃度が５００ｐｐｍになるように希釈した。上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、インゲン菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）の菌糸含有ＰＤＡ培地をインゲン葉面上に置いた。接種後全てのインゲンは多湿下におき、接種５日後に病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物（１３）〜（１６）及び（１７）を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の１０％以下であった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項３】
Ｒ2が、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項４】
Ｒ1がフッ素原子である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項５】
Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項６】
Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項７】
Ｒ1がフッ素原子である請求項５又は６記載のアミド化合物。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物及び不活性担体を含有する植物病害防除剤。
【請求項９】
請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有してなる植物病害の防除方法。
【請求項１０】
植物病害を防除するための請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【請求項１】
式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基又は直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
Ｒ2がＣ１−Ｃ６直鎖アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項３】
Ｒ2が、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項４】
Ｒ1がフッ素原子である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項５】
Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ２−Ｃ５アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項６】
Ｒ2が直鎖（Ｃ１−Ｃ２アルコキシ）Ｃ３−Ｃ４アルキル基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項７】
Ｒ1がフッ素原子である請求項５又は６記載のアミド化合物。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物及び不活性担体を含有する植物病害防除剤。
【請求項９】
請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有してなる植物病害の防除方法。
【請求項１０】
植物病害を防除するための請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
【公開番号】特開２０１０−３０９８９（Ｐ２０１０−３０９８９Ａ）
【公開日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１４４０１９（Ｐ２００９−１４４０１９）
【出願日】平成２１年６月１７日（２００９．６．１７）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月１２日（２０１０．２．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年６月１７日（２００９．６．１７）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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