イオントフォレーシス装置

【課題】切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置の作用側電極構造体に混入することにより当該装置の機能が損なわれることがないものを提供する。
【解決手段】イオン化した薬物を投与するイオントフォレーシス装置であって、薬物を含む薬液を保持する作用側電極構造体２０と、作用側電極構造体２０を支持し、一方の面に粘着層を有する支持体４０とを備え、支持体４０はレーザーにより切断加工されているイオントフォレーシス装置が提供される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオントフォレーシス装置に関する。特に本発明は、薬物イオンをイオントフォレーシスにより経皮的に投与するイオントフォレーシス装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
人間または動物の身体の所望部位における皮膚または粘膜などの生体表面に対して、薬物イオンをイオントフォレーシスにより経皮的に投与するイオントフォレーシス装置が知られている（例えば、特許文献１を参照）。なお、イオントフォレーシス（ｉｏｎｔｏｐｈｏｒｅｓｉｓ）は、イオントフォレーゼ、イオン導入法、イオン浸透療法などと呼ばれることもある。
【特許文献１】特再２００３−０３７４２５号公報（国際公開番号ＷＯ２００３／０３７４２５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記特許文献１に開示されているイオントフォレーシス装置において、イオントフォレーシス電極部（作用側電極部）およびグランド電極部（非作用側電極部）の各々の構成部材である電極板、電解液保持部、カチオン交換膜およびアニオン交換膜などを支持する支持体は、例えば樹脂などの安価かつ汎用性に優れた材料をダイロールまたはトムソン刃などを用いて打ち抜くなどの方法で成型したものを用いるのが一般的である。ところで、上記支持体は、少なくともイオントフォレーシス装置を使用するときに皮膚と当接する側の面に、皮膚との接着状態を安定させるために粘着層が形成されることが好ましい。上記支持体を成形した後に、粘着層を当該支持体に形成するのは難しいので、粘着層は、支持体に供される材料の一方の面に予め塗布されていることが望ましい。
【０００４】
しかしながら、粘着層が塗布された材料を打ち抜いて成型した場合、打ち抜きに用いたダイロールまたはトムソン刃などに粘着層の一部などのカスが付着する場合がある。このようなカスは、異物としてイオントフォレーシス装置の作用側電極部または非作用側電極部に混入すると当該装置の機能を損なうおそれがある。また、トムソン刃等における刃先に粘着剤が付着して、切れ難くなるという不具合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の第１の形態においては、イオン化した薬物を投与するイオントフォレーシス装置であって、薬物を含む薬液を保持する作用側電極構造体と、電解液を保持する非作用側電極構造体と、作用側電極構造体および非作用側電極構造体の少なくとも一方を支持し、一方の面に粘着層を有する支持体とを備え、支持体はレーザーにより切断加工されているイオントフォレーシス装置が提供される。このようなイオントフォレーシス装置によれば、当該支持体の加工時における切断カスの発生が抑えられる。したがって、このような切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置の作用側電極構造体および非作用側電極構造体に混入することにより当該装置の機能が損なわれることがない。また、支持体を非接触で加工するので、粘着剤の付着による切れ難さは生じない。
【０００６】
上記のイオントフォレーシス装置において、支持体は板状であって、粘着層を介して複数積層されてもよい。この場合、上記のように支持体はレーザーにより切断加工されているので、複数の支持体が積層された場合でもそれぞれの支持体の加工時に生じた切断カスが累積的にイオントフォレーシス装置の作用側電極構造体および非作用側電極構造体に混入するのを防ぐことができる。
【０００７】
本発明の第２の形態においては、イオン化した薬物を含む薬液を保持する作用側電極構造体と、電解液を保持する非作用側電極構造体と、作用側電極構造体および非作用側電極構造体の少なくとも一方を支持し、一方の面に粘着層を有する支持体とを備えるイオントフォレーシス装置の製造方法であって、支持体をレーザーにより切断加工するイオントフォレーシス装置の製造方法が提供される。
【０００８】
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
【０００９】
また、本明細書における「薬物」は、調製されているか否かに関わらず、一定の薬効または薬理作用を有し、病気の治療、回復または予防、健康の増進または維持、病状または健康状態などの診断、あるいは美容の増進または維持などの目的で生体に投与される物質を意味する。
【００１０】
また、本明細書における「薬物イオン」は、薬物がイオン解離することにより生じるイオンであって、薬効または薬理作用を担うイオンを意味する。薬物の薬物イオンへの解離は、薬物を水、アルコール類、酸、またはアルカリなどの溶媒に溶解させることにより生じるものであってもよく、さらに電圧の印加またはイオン化剤の添加等により生じるものであってもよい。
【００１１】
また、本明細書における「薬液」は、薬物イオンを含む流動物をいい、薬物を溶媒に溶解させた溶液、および、薬物が液状である場合における原液などの液体状態のものだけでなく、薬物の少なくとも一部が薬物イオンに解離する限り、薬物を溶媒等に懸濁または乳濁させたもの、および、軟膏状またはペースト状に調製されたものなど種々の状態のものを含む。
【００１２】
また、本明細書における「第１導電型」は、プラスまたはマイナスの電気極性を意味し、「第２導電型」は、第１導電型と反対の導電型（マイナスまたはプラス）を意味する。
【発明の効果】
【００１３】
以上の説明から明らかなように、本発明のイオントフォレーシス装置によれば、支持体の加工時における切断カスの発生が抑えられるので、このような切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置の作用側電極構造体および非作用側電極構造体に混入することにより当該装置の機能が損なわれることがない。また、支持体を非接触で加工するので、粘着剤の付着による切れ難さは生じない。また、支持体を板状として、粘着層を介して複数積層した場合に、複数の支持体が積層された場合でもそれぞれの支持体の加工時に生じた切断カスが累積的にイオントフォレーシス装置の作用側電極構造体および非作用側電極構造体に混入するのを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１５】
図１は、イオントフォレーシス装置１０の上面図である。図２は、図１のａ−ａ断面における概略断面図である。図１および図２に示すように、イオントフォレーシス装置１０は、支持体４０と、電極部材５０と、作用側電極構造体２０と、非作用側電極構造体３０と、電源５６とを備える。
【００１６】
支持体４０は、例えば発泡ポリウレタンなどの柔軟な素材で形成された板状の第一支持体４１、第二支持体４２、および第三支持体４３から成り、これらが積層して接着される。第二支持体４２および第三支持体４３には、所定形状（本実施形態では円形）の２つの開口が形成され、これら２つの開口の一方には作用側電極構造体２０の構成部品が、他方には非作用側電極構造体３０の構成部品がそれぞれ配される。支持体４０の詳細な構成および加工方法については以下において別途説明する。
【００１７】
電極部材５０は、基体５１、一対の電極部５２、５３および一対の給電部５４、５５を有する。一対の電極部５２、５３および一対の給電部５４、５５は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムから成りシート状で可撓性を有する基体５１上に、例えば銀および塩化銀またはカーボンなどの導電性を有する導電材料を含有する導電塗料により形成される。給電部５４の一端は電極部５２と、他端は電源５６の第１導電型の端子と、それぞれ電気的に接続する。また、給電部５５の一端は電極部５３と、他端は電源５６の第２導電型の端子と、それぞれ電気的に接続する。電極部材５０は、電極部５２、５３をイオントフォレーシス装置１０における皮膚との当接面４５の側に向けて、第一支持体４１と第二支持体４２との間に挟持される。
【００１８】
作用側電極構造体２０は、第一支持体４１の側から当接面４５の側に向かって、第１電解液保持部２１、第２導電型のイオン選択性膜２２、薬液保持部２４、および、第１導電型のイオン選択性膜２５をこの順に有する。非作用側電極構造体３０は、第一支持体４１の側から当接面４５の側に向かって、第２電解液保持部３１、第１導電型のイオン選択性膜３２、第３電解液保持部３４、および、第２導電型のイオン選択性膜３５をこの順に有する。電極部材５０の電極部５２は、作用側電極構造体２０の第１電解液保持部２１と当接し、また、電極部５３は、非作用側電極構造体３０の第２電解液保持部３１と当接する。
【００１９】
作用側電極構造体２０において、第１電解液保持部２１は、例えば天然繊維、人工繊維の織布または不織布、多孔質膜、あるいはゲルなどの適当な吸収性をもつ担体であり、電解液を保持する。この電解液は、水の電気分解反応（水の酸化および還元反応）と比較して水の酸化還元電位より低い酸化還元電位を有する酸化および還元しやすい化合物が溶解した溶液が用いられる。第２導電型のイオン選択性膜２２は、第１電解液保持部２１の当接面４５の側に設けられ、第２導電型のイオンを選択的に透過する。薬液保持部２４は、第１導電型の薬物イオンを含む薬液を、例えば天然繊維、人工繊維の織布や不織布、多孔質膜、あるいはゲルなどの適当な吸収性をもつ担体に含浸させて保持する。第１導電型のイオン選択性膜２５は、薬液保持部２４の当接面４５の側に設けられ、第１導電型のイオンを選択的に透過する。
【００２０】
非作用側電極構造体３０において、第２電解液保持部３１および第３電解液保持部３４は、例えば天然繊維、人工繊維の織布や不織布、多孔質膜、あるいはゲルなどの適当な吸収性をもつ担体であり、電解液を保持する。第１導電型のイオン選択性膜３２は、第２電解液保持部３１の当接面４５の側に設けられ、第１導電型のイオンを選択的に透過する。第３電解液保持部３４は、第１導電型のイオン選択性膜３２の当接面４５の側に設けられる。第２導電型のイオン選択性膜３５は、第３電解液保持部３４の当接面４５の側に設けられ、第２導電型のイオンを選択的に透過する。なお、第２電解液保持部３１、および第３電解液保持部３４が保持する電解液は、作用側電極構造体２０の第１電解液保持部２１が保持する電解液と同様に、水の電気分解反応（水の酸化および還元反応）と比較して水の酸化還元電位より低い酸化還元電位を有する酸化および還元しやすい化合物が溶解した溶液が用いられる。
【００２１】
イオントフォレーシス装置１０は、支持体４０の当接面４５、第１導電型のイオン選択性膜２５および第２導電型のイオン選択性膜３５が皮膚に当接した状態で、電源５６から作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０に対してイオントフォレーシスを適用するための電力が供給される（電圧がかけられる）と、作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０の間に皮膚を介して電流が流れて使用状態となる。このとき、上記のように支持体４０が柔軟な素材で形成されているので、イオントフォレーシス装置１０を凹凸のある皮膚表面へも容易に当接保持することができ、また、使用者が動いた場合でも当接面４５が皮膚から離れにくい。イオントフォレーシス装置１０は、上記使用状態において、薬液保持部２４に保持された薬物イオンを使用者に対して経皮的に投与する。
【００２２】
以下において、本実施形態のイオントフォレーシス装置１０に用いる支持体４０の構成および加工方法について説明する。図３は、支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。図４は、シート部材６４の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【００２３】
図３に示すように、帯状のシート部材６４は、保持ロール６０にロール状に保持されており、その一端が解きほどかれてレーザービームカッティング装置９０のテーブル９３上に導かれる。図４に示すように、シート部材６４は、基材シート６７の一方の面に均一に粘着層７１が形成されており、粘着層７１における基材シート６７と反対側に剥離ライナー７５が配される。シート部材６４は、基材シート６７側を上にしてレーザービームカッティング装置９０のテーブル９３上に導かれる。図４において、粘着層７１の厚みを強調して示したが、粘着層７１は基材シート６７の上面に粘着力が十分確保できる程度に非常に薄く形成されることが望ましい。
【００２４】
図３に示すように、シート部材６４は、レーザービームカッティング装置９０のテーブル９３上に導かれて、レーザーにより切断加工される。すなわち、テーブル９３上に導かれたシート部材６４は、レーザービームカッティング装置９０の照射ヘッド９１から照射されるレーザービーム９２によって切り込み６１が形成される。このとき、レーザービーム９２のエネルギーを調整することにより、切り込み６１は、基材シート６７および粘着層７１に形成されて、剥離ライナー７５には形成されない。したがって、切り込み６１は、シート部材６４を貫通しないので、切り込み６１で切り込まれた部分が直ちにシート部材６４から外れてしまうことがない。切り込み６１が形成されたシート部材６４は、後工程において不要な部分が除去されて支持体４０に加工される。
【００２５】
このように、イオントフォレーシス装置１０に用いる支持体４０をレーザーにより切断加工することで、支持体４０を機械加工した場合に発生する可能性のある切断カスの発生が抑えられる。したがって、このような切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０に混入することによりイオントフォレーシス装置１０の機能が損なわれることがない。また、上記のように支持体４０を同じ厚さの複数の部材を積層して形成することで、イオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０の容積や形状などを変更したい場合、加工する形状および積層枚数を変更するだけで支持体４０の大きさおよび形状を変更することができる。このとき、積層する部材の各々は上記のようにレーザーにより切断加工されているので、複数の部材が積層された場合でもそれぞれの部材の加工時に生じた切断カスが累積的にイオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０または非作用側電極構造体３０に混入するのを防ぐことができる。
【００２６】
図３に示すレーザービームカッティング装置９０は、照射ヘッド９１をシート部材６４の面方向に移動させながらシート部材６４の所望の位置に切り込み６１を形成することができる。したがって、上記の第一支持体４１、第二支持体４２および第三支持体４３を含む支持体４０を始めとしてシート部材６４から種々の形状の部材を切断加工することができる。レーザービームカッティング装置９０の照射ヘッド９１から照射されるレーザービーム９２の光源は、例えば炭酸ガスレーザーなど一般的なレーザーによる熱加工に利用されるレーザーを用いることができる。
【００２７】
図５は、他の実施形態に係る支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。図６は、シート部材６５の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【００２８】
図５に示すように、帯状の基材シート６７は、保持ロール６０にロール状に保持されており、その一端が解きほどかれてレーザービームカッティング装置９０のテーブル９３上に導かれる。このとき、基材シート６７は、レーザービームカッティング装置９０の手前で、粘着剤塗布装置７０により接着剤などの粘着材料が塗布される。これにより、基材シート６７は、図６に示すように、その一方の面である上面に均一に粘着層７１が塗布されてシート部材６５が形成される。図６において、粘着層７１の厚みを強調して示したが、実際には粘着層７１は基材シート６７の上面に粘着力が十分確保できる程度に非常に薄く形成されることが望ましい。
【００２９】
図５に示すように、シート部材６５は、レーザービームカッティング装置９０のテーブル９３上に導かれて、レーザーにより切断加工される。すなわち、テーブル９３上に導かれたシート部材６５は、レーザービームカッティング装置９０の照射ヘッド９１から照射されるレーザービーム９２によって切り込み６２が形成される。切り込み６２が形成されたシート部材６５は、後工程において不要な部分が除去されて支持体４０に加工される。
【００３０】
このような加工方法によれば、上記と同様に、支持体４０を機械加工した場合に発生する可能性のある切断カスの発生が抑えられる。したがって、このような切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０に混入することによりイオントフォレーシス装置１０の機能が損なわれることがない。
【００３１】
図５に示すレーザービームカッティング装置９０は、照射ヘッド９１をシート部材６５の面方向に移動させながらシート部材６５の所望の位置に切り込み６２を形成することができる。したがって、上記の第一支持体４１、第二支持体４２および第三支持体４３を含む支持体４０を始めとしてシート部材６５から種々の形状の部材を切断加工することができる。レーザービームカッティング装置９０の照射ヘッド９１から照射されるレーザービーム９２の光源は、例えば炭酸ガスレーザーなど一般的なレーザーによる熱加工に利用されるレーザーを用いることができる。
【００３２】
図７は、さらに他の実施形態に係る支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。図８は、シート部材６６の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【００３３】
図７に示すように、帯状の基材シート６７は、保持ロール６０にロール状に保持されており、その一端が解きほどかれて冷却トンネル８５に導かれる。このとき、基材シート６７は、冷却トンネル８５の手前で、粘着剤塗布装置７０によりその一方の面（上面）に接着剤などの粘着材料が塗布される。さらに、基材シート６７における粘着材料が塗布された面と同じ面上に水膜形成装置８０により水が塗布される。粘着材料および水が塗布された基材シート６７は、冷却トンネル８５の内部を通過する間に表面が冷却される。これにより、図８に示すように、基材シート６７の一方の面に均一な粘着層７１および氷結層８６を基材シート６７の側からこの順に有するシート部材６６が形成される。
【００３４】
図８において、粘着層７１および氷結層８６の層の厚みを強調して示したが、実際には、粘着層７１は基材シート６７の上面に粘着力が十分確保できる程度に非常に薄く形成されることが望ましい。また、氷結層８６は粘着層７１における基材シート６７の側と反対側の面全体を覆う程度に薄く形成されることが好ましい。
【００３５】
図９から図１２は、打ち抜きカッティング装置９５におけるシート部材６６の切断手順を模式的に示す概略断面図である。図９に示すように、打ち抜きカッティング装置９５は、ストッパー９６、押し型９７およびテーブル９９を備える。ストッパー９６および押し型９７は、シート部材６６を挟んでテーブル９９と対向して配される。押し型９７は、テーブル９９と対向する面に、トムソン刃９８を備える。図８に示すシート部材６６は、打ち抜きカッティング装置９５のテーブル９９上に導かれて、打ち抜きカッティング装置９５のトムソン刃９８により切断加工される。
【００３６】
図１０に示すように、テーブル９９上に導かれたシート部材６６は、まず、ストッパー９６によってテーブル９９上に押し付けられて固定される。次に、図１１に示すように、トムソン刃９８を備えた押し型９７がテーブル９９上のシート部材６６に押し付けられて、シート部材６６が切り込まれる。これにより、図１２に示すように、シート部材６６には切り込み６３が形成される。
【００３７】
図１３は、打ち抜きカッティング装置９５により切り込み６３が形成されたシート部材６６の上面図である。図１３に示すように、切り込み６３は、シート部材６６に不連続に形成されており、複数の切り込み６３の間には、複数の切り残し６９が設けられている。このように切り残し６９を設けることにより、打ち抜きカッティング装置９５のトムソン刃９８がシート部材６６を切り込んで（図１１）から再び持ち上がるとき（図１２）に、シート部材６６の一部がトムソン刃９８に付着したまま持ち上がるのを防ぐことができる。切り込み６３が形成されたシート部材６６は、後工程において切り残し６９が切り取られて不要な部分が除去されることにより支持体４０に加工される。
【００３８】
このように、イオントフォレーシス装置１０に用いる支持体４０を、表面に氷結層８６が形成されたシート部材６６からトムソン刃９８により打抜加工することで、トムソン刃９８に粘着層７１の一部などが付着するのを抑えることができる。したがって、このようなトムソン刃９８への付着物が異物としてイオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０に混入することによりイオントフォレーシス装置１０の機能が損なわれることがない。
【００３９】
上記シート部材６６において、氷結層８６に代えて、粘着層７１を形成する粘着材料に不要である溶液（粘着材料が水に対して不溶であれば水でもよい）を薄く塗布してもよい。また、水膜形成装置８０による塗布に代えて水または上記溶液をスプレーにより粘着層７１上に吹き付けてもよい。
【００４０】
以上、本実施形態によれば、支持体４０の切断時における切断カスが異物としてイオントフォレーシス装置１０の作用側電極構造体２０および非作用側電極構造体３０に混入することにより当該装置の機能が損なわれることがない。また、支持体４０を非接触で加工する場合は、粘着剤の付着による切れ難さは生じない。さらに、支持体４０を打抜加工する場合でも、表面に氷結層８６または溶液層が形成されたシート部材６６からトムソン刃９８により打抜加工することで、トムソン刃９８に粘着層７１の一部などが付着するのを抑えることができる。
【００４１】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることができることは当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】イオントフォレーシス装置１０の上面図である。
【図２】図１のａ−ａ断面における概略断面図である。
【図３】支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。
【図４】シート部材６４の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【図５】他の実施形態に係る支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。
【図６】シート部材６５の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【図７】さらに他の実施形態に係る支持体４０の製造装置の一例を示す概略斜視図である。
【図８】シート部材６６の厚み方向の断面を拡大した概略断面図である。
【図９】打ち抜きカッティング装置９５におけるシート部材６６の切断手順を模式的に示す概略断面図である。
【図１０】打ち抜きカッティング装置９５におけるシート部材６６の切断手順を模式的に示す概略断面図である。
【図１１】打ち抜きカッティング装置９５におけるシート部材６６の切断手順を模式的に示す概略断面図である。
【図１２】打ち抜きカッティング装置９５におけるシート部材６６の切断手順を模式的に示す概略断面図である。
【図１３】打ち抜きカッティング装置９５により切り込み６３が形成されたシート部材６６の上面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０イオントフォレーシス装置、２０作用側電極構造体、２１第１電解液保持部、２２第２導電型のイオン選択性膜、２４薬液保持部、２５第１導電型のイオン選択性膜、３０非作用側電極構造体、３１第２電解液保持部、３２第１導電型のイオン選択性膜、３４第３電解液保持部、３５第２導電型のイオン選択性膜、４０支持体、４１第一支持体、４２第二支持体、４３第三支持体、４５当接面、５０電極部材、５１基体、５２、５３電極部、５４、５５給電部、５６電源、６０保持ロール、６１、６２、６３切り込み、６４、６５、６６シート部材、６７基材シート、６９切り残し、７０粘着剤塗布装置、７１粘着層、７５剥離ライナー、８０水膜形成装置、８５冷却トンネル、８６氷結層、９０レーザービームカッティング装置、９１照射ヘッド、９２レーザービーム、９３テーブル、９５打ち抜きカッティング装置、９６ストッパー、９７押し型、９８トムソン刃、９９テーブル

【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン化した薬物を投与するイオントフォレーシス装置であって、
前記薬物を含む薬液を保持する作用側電極構造体と、
電解液を保持する非作用側電極構造体と、
前記作用側電極構造体および前記非作用側電極構造体の少なくとも一方を支持し、一方の面に粘着層を有する支持体と
を備え、
前記支持体はレーザーにより切断加工されているイオントフォレーシス装置。
【請求項２】
前記支持体は板状であって、前記粘着層を介して複数積層された請求項１に記載のイオントフォレーシス装置。
【請求項３】
イオン化した薬物を含む薬液を保持する作用側電極構造体と、
電解液を保持する非作用側電極構造体と、
前記作用側電極構造体および前記非作用側電極構造体の少なくとも一方を支持し、一方の面に粘着層を有する支持体と
を備えるイオントフォレーシス装置の製造方法であって、
前記支持体をレーザーにより切断加工するイオントフォレーシス装置の製造方法。

【図１】