グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）又はその誘導体を含む、吸湿性が十分に低い固体を製造する方法
本発明は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸及び／又はその誘導体及び／又は塩を含む、吸湿性が十分に低い固体、及びその製造方法に関する。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及びその塩及び／又は誘導体は、アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤として、非常に広い用途の技術分野で非常に興味を有るものである。
【０００２】
（例えば洗剤及びクリーナーに使用される）アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤は、通常、水溶液内で合成される。所定の用途のために、これらは固体状態であることが要求される。
【０００３】
溶液から固体を製造するための所定の方法は、特に、結晶化及びスプレー乾燥法である。（例えば蒸発による又は冷却結晶化法の間に製造されるような）結晶性固体は、結晶化の水を含むことができ、そして環境の条件下に、最も多くの場合、アモルファス固体（非結晶質固体）よりも吸湿性が低く、そして保管安定性が良好であることが公知である。一方、スプレー乾燥法を使用して（例えば、スプレータワー内で、又はスプレー流動床内で）、固体はアモルファス状態で得られる。この状態では、固体はしばしば吸湿性が高く、そして周囲条件下での開放した保管では、流動性能(ability to be poured)が短時間で失われる。その結果、スプレー粉の保管安定性を増す手段が、文献に記載されており、例えば、洗剤のための材料のコンパクション又は安息香酸を使用した後処理が特許文献１（ＵＳ３９３２３１６）に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＵＳ３９３２３１６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又は誘導体を含み、及び好ましくは加工と適用のために吸湿性が十分に低い固体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、好ましくは、例えば加工と適用のために十分な吸湿性を有する固体であって、以下の成分
ａ．グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又は誘導体（特に、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩）を含むコア、及び
ｂ．一般式Ｉ
【０００７】
【化１】
の化合物（又は２種以上の異なる化合物）を含む被覆物、
を含み、
ここで、式Ｉにおいて、
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル又はＣ２−〜Ｃ３０−アルケニルであって、追加的に置換基として５個以下のヒドロキシル基、ホルミル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、フェノキシ基又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有し、及び５個以下の非隣接酸素原子によって遮断されていても良いもの、式
−（ＣＨ２）ｋ−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｍ−（Ａ２Ｏ）ｎ−Ｙ
（但し、
Ａ１及びＡ２が、相互に独立して、２〜４個の炭素原子を有する１，２−アルキレン基であり、
Ｙが、水素、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキル、フェニル又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニルであり、及び
ｋが、１、２又は３の数であり、及び
ｍ及びｎが、それぞれ互いに独立して、０〜５０の数であり、そしてｍ＋ｎの合計が少なくとも４である）
のアルコキシレート基、アルキル内に１〜２０個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、窒素、酸素及び硫黄からの３個以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ−縮合が可能な、５−又は６−員の不飽和の又は飽和の複素環であり、
ここで、Ｒについての意味において特定される、全てのフェニル環及び複素環が、追加的に、置換基として、３個以下のＣ１−〜Ｃ４−アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基及び／又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有していても良く、又は
Ｒが、式
【０００８】
【化２】
【０００９】
（但し、
Ａが、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジ又は化学結合であり、及び
各Ｍが、相互に独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）（特に、各Ｍが、互いに独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アンモニウム、又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）
の基である、固体に関する。
【００１０】
本発明は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体（特にグルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩）を含む（又は、から成る）固体が種として最初に導入され、そして式Ｉの少なくとも１種の化合物と一緒にスプレー造粒又は（好ましくは、流動床装置内で）被覆することを特徴とする本発明に従う固体を製造する方法にも関する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
コア材料（該コア材料は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む）が粉として使用された場合、この粉は、スプレー造粒の間、上記粒子が被覆材料によって被覆される前に、好ましくは最初に、被覆材料（該被覆材料は一般式Ｉの化合物を含む）で塗りつけられて、より大きな粒子が形成される（造粒）。コア材料が最初に比較的大きい顆粒の状態で導入される場合、これらの顆粒は、スプレー造粒の間、好ましくは、被覆材料で直接的に被覆される（被覆）。
【００１２】
好ましくは、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又は塩は、式（ＩＩ）
Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム、又はアルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウム）及び／又は有機アミン（有機アミン塩）である）
の化合物である。特に好ましくは、そのＬ−フォームが好ましい。更に、ナトリウム塩が好ましい。
【００１３】
ＤＥ１９６４９６８１に記載されている式Ｉの化合物が特に好ましい。
【００１４】
本発明の方法のために、コア材料の粉及び／又は顆粒は、最初の投入（種）として、それ自体は通常の態様で、それ自体は公知の装置（好ましくは、流動床スプレー−造粒装置、例えばＧｌａｔｔからのＡＧＴ４００ｔｙｐｅのもの）に導入され、そして流動化される。ここで、３０μｍ〜３００μｍ（特に５０μｍ〜２００μｍ）の粒子径が、造粒のために好ましく、及び２００μｍ〜１０００μｍ（特に３００μｍ〜１０００μｍ）の粒子径が、被覆のために好ましい。
【００１５】
コア材料（ＧＬＤＡを含む材料）は乾燥した材料であることが好ましく、すなわち、特に、コア材料は、水分含有量が１０％未満（特に５％未満）であることが好ましい。
【００１６】
好ましくは、コア材料（ＧＬＤＡを含む材料）は、結晶化、スプレー乾燥、又は流動床造粒によって、それ自体は通常の態様で製造される。
【００１７】
種は、流動床中に浮遊状態（流動化）に保持され、そして（式Ｉの化合物を少なくとも１種含む）霧化された液滴の層状乾燥のための表面を形成する。このようにして形成された粒子は、製造の間、造粒を経て、（例えば、粒子径を自由に調整して、乾燥運転を中断することなく、フレキシブルな態様での分級排出を通って）乾燥空間から連続的に除去することができる。純粋な被覆を使用した製造の場合、バッチ運転が好ましい。
【００１８】
スプレー造粒法について、例えば、Ｈ．Ｕｈｌｅｍａｎｎ，Ｌ．Ｍｏｒｌ，“Ｗｉｒｂｅｌｓｃｈｉｃｈｔ−Ｓｐｒｕｈｇｒａｎｕｌａｔｉｏｎ［Ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ−ｂｅｄ−ｓｐｒａｙ−ｇｒａｎｕｌａｔｉｏｎ］”Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ２０００（ＩＳＢＮ３−５４０−６６９８５−Ｘ）が参照される。
【００１９】
本発明の方法では、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む固体が、種として最初に導入され、そして次に、それ自体は公知の方法で、式Ｉの少なくとも１種の化合物を使用したスプレー造粒／被覆が行われるもので、ここで式Ｉの少なくとも１種の化合物は、溶液中（特に水溶液、好ましくは約３５〜４３％濃度(strength)、特に好ましくは約３５〜４２％濃度、特に約４０％濃度）に存在することが好ましい。
【００２０】
好ましくは、以下のパラメーターを使用したスプレー−造粒／被覆が行われる：
好ましい導入空気温度：９０〜１６０℃、
好ましい生成物温度：５０〜１２０℃、
好ましい排出空気温度：４０〜１１０℃、
好ましい供給物温度：４０〜１００℃。
【００２１】
本発明に従う方法で、例えば液体原材料（例えば、３５〜４３％濃度、好ましくは３５〜４２％濃度、特に４０％濃度の、式Ｉの化合物の水溶液）が、熱い空気の流れ中で流動化している種（該種は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む）にスプレーされ、その結果乾燥され、そして種が被覆されるか、又は造粒されそして次に被覆される。
【００２２】
流動床装置は、好ましくは例えば、サイクロン及び／又はフィルター及び／又は洗浄装置を備えた流動床スプレー−造粒機である。
【００２３】
ここで、固体は、非−吸湿性と称されるか、又は吸湿性が十分に低いもので、そして標準周囲条件、例えば２５℃、及び相対大気湿度が７６％での開放された保管において、少なくとも１日、好ましくは１週間の期間にわたり、（好ましくは自由流の）粉又は顆粒として、その一貫性を保つものである。
【００２４】
本発明に従う固体のコアは、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体、好ましくは一般式（ＩＩ）：
Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム、有機アミン、又はアルカリ金属（好ましくはナトリウム）である）
の化合物を含む。特に好ましくは、コアは、Ｌ−グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸テトラナトリウム塩（Ｃ９Ｈ９ＮＯ８Ｎａ４、例えば、ＣＡＳ Ｎｏ．：５１９８１−２１−６）を含む。好ましくはコア材料は、Ａｋｚｏ ＮｏｂｅｌからのＤｉｓｓｏｌｖｉｎｅ（登録商標）ＧＬを含む。
【００２５】
コアは、任意に、アルカリ土類金属イオン及び／又は重金属イオンのための１種以上の更なる錯化剤、例えばポリマー、例えばポリアクリレート、又はスルホン化ポリマー（例えば、スルホン化されたマルチポリマー、例えば、Ｒｏｏｍ ａｎｄ Ｈａａｓ（Ｄｏｗ）からのＡｃｕｓｏｌ５８８）、又はエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ、例えばＡｋｚｏ ＮｏｂｅｌからのＤｉｓｓｏｌｖｉｎｅ ＮＡ）、特にテトラナトリウム塩を含むことができる。
【００２６】
コアは、特に好ましくは、ＧＬＤＡ顆粒、又は共顆粒（すなわち、ＧＬＤＡの造粒を単純化する助剤、例えばポリカルボキシレートを有する顆粒）を含む。
【００２７】
本発明において、ＧＬＤＡという記載は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸(glutamic acid-N,N-diacetic acid;グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸)、又はここに記載される塩の一種（例えばテトラナトリウム塩）を意味する。
【００２８】
本発明に従い製造される固体は、被覆物として、好ましくは基本的に、式Ｉの化合物を含む。ここで、式Ｉの化合物の製造からの、少量の出発材料及び／又は副生成物が、追加的に存在しても良い。使用する合成方法に依存して、化合物Ｉの通常の純度は、それぞれ固体含有量に対して、７０〜９９．９質量％、特に８０〜９９．５質量％である。
【００２９】
本発明のために、式Ｉの化合物（但し、Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２−〜Ｃ２０−アルケニル、又は以下の式
【００３０】
【化３】
の基である）が特に適切である。
【００３１】
式Ｉの化合物として、特に好ましくは、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（Ｒ＝ＣＨ３、ＭＧＤＡ）及びその塩を使用することが好ましい。例えば、そのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、及び置換されたアンモニウム塩を使用することが好ましい。
【００３２】
このような塩として適切なものは、主としてナトリウム、カリウム、及びアンモニウム塩、特に３ナトリウム、３カリウム、及び３アンモニウム塩、及び３級窒素原子(tertiary nitrogen atom)を有する有機３アミン塩である。有機アミン塩が基礎をなす適切な塩基は、特に、第３級アミン、例えばアルキル中に１〜４個の炭素原子を有するトリアルキルアミン、例えばトリメチル−及びトリエチルアミン、及びトリアルカノールアミンで、２又は３個の炭素原子をアルカノール基内に有するもの、好ましくはトリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、又はトリイソプロパノールアミンである。
【００３３】
使用されるアルカリ土類金属塩は、特にカルシウム及びマグネシウム塩である。
【００３４】
メチルの他に、直鎖状又は枝分かれしたアルキレン基(alk(en)yl radical)のために適切なものは、特に、Ｃ２−〜Ｃ１７−アルキル及び−アルケニルで、ここで特に、飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導される直鎖状基が適切である。
【００３５】
個々の基Ｒの例は：エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、セク−ブチル−、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、３−ヘプチル（２−エチルヘキサノン酸から誘導されるもの）、ｎ−オクチル、イソオクチル（イソノナン酸から誘導されるもの）、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、イソドデシル（イソトリデカノン酸から誘導されるもの）、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、及びｎ−ヘプタデセニル（オレイン酸から誘導されるもの）である。Ｒのために、混合物も可能であり、特に、天然由来の脂肪酸から誘導されるものと、合成して（例えばオキソ合成によって）製造される工業銘柄の酸から誘導されるものの混合物も可能である。
【００３６】
Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジＡは、特に、式（ＣＨ２）ｋ（ここでｋは、２〜１２の数、特に２〜８の数である）のポリメチレン基、すなわち１，２−エチレン、１,３−プロピレン、１,４−ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメレン、デカメチレン、ウンデカメチレン、及びドデカメチレンである。ここで、ヘキサメチレン、オクタメチレン、１，２−エチレン、及び１，４−ブチレンが特に好ましい。更に、しかしながら、枝分れしたＣ３−〜Ｃ１２−アルキレン基も可能であり、例えば−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−、又は−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−も可能である。
【００３７】
Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル及びＣ２−〜Ｃ３０−アルケニル基は、（特定のタイプの、及び５つ以下、特に３つ以下の非隣接の酸素原子で遮断された）５つ以下、特に３つ以下の追加的な置換基を有することができる。このような置換されたアルケニル基(alk(en)yl group)は、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨＯ、−ＣＨ２−ＯＰｈ、−ＣＨ２−ＣＯＯＣＨ３、又は−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯＣＨ３である。
【００３８】
適切なアルコキシ（レート）基は、特に、ｍ及びｎが、各場合において、互いに独立して、０〜３０の数、特に０〜１５の数のものである。Ａ１Ｏ及びＡ２Ｏは、好ましくは、ブチレンオキシドから誘導される基、及び特に、プロピレンオキシドから誘導される基、及びエチレンオキシドから誘導される基である。特に興味のあるものは、純粋なエトキシレート及び純粋なプロポキシレートであり、しかしエチレンオキシド−プロピレンオキシドブロック構造も考えられる。
【００３９】
適切な５員−又は６員の不飽和の、又は飽和した、窒素、酸素及び硫黄からの３つ以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ縮合されることが可能で、及び上記に指定した基で置換されることができる複素環は、例えば：テトラヒドロフラン、フラン、テトラヒドロチオフェン、チオフェン、２，５−ジメチルチオフェン、ピロリジン、ピロリン、ピロール、イソキサゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、イミダゾリン、イミダゾール、１，２，３−トリアゾリジン、１，２，３−及び１，２，４−トリアゾール、１，２，３−、１，２，４−及び１，２，５−オキサジアゾール、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、２Ｈ−及び４Ｈ−ピラン、ピペリジン、１，３−及び１，４−ジオキサン、モルホリン、ピラザン、ピリジン、α−、β−及びγ−ピコリン、α−及びγ−ピペリドン、ピペリジン、ピリダジン、ピラジン、１，２，５−オキサチアジン、１，３，５−、１，２，３−及び１，２，４−トリアジン、ベンゾフラン、チオネフテン、インドリン、インドール、イソインドリン、ベンゾキサゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、クロマン、イソクロマン、２Ｈ−及び４Ｈ−クロマン、キノリン、イソキノリン、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン及びベンゾ−１，２，３−トリアジンである。
【００４０】
特定の複素環中のＮ−Ｈ基は、例えば、Ｎ−アルキル基（例えば、１〜１２個の炭素原子を有する）として、可能な限り誘導された状態で存在するべきである。
【００４１】
フェニル環又は複素環上で置換する場合、好ましくは２つ（同一又は異なる）、又は特に１つの置換基が現れる。
【００４２】
Ｒについて、任意に置換されたフェニルアルキル基、及び複素環を有するアルキル基の例は、ベンジル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−ヒドロキシルベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−カルボキシルベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−スルホベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−メトキシ又は−エトキシカルボニルベンジル、２−フリルメチル、Ｎ−メチルピペリジン−４−イルメチル、又は２−，３−又は４−ピリジニルメチルである。
【００４３】
フェニル環及び複素環の置換のために、水溶化基、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、又はスルホ基を使用することが好ましい。特定のＣ１−〜Ｃ４−、Ｃ１−〜Ｃ１２−及びＣ１−〜Ｃ２０−アルキル基の例は、Ｒについて上述した対応する基を意味するとも理解される。
【００４４】
本発明に従う固体は、固体洗剤及びクリーナー処方物のための（特定の度合での）成分として適切である。そして、アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤として、本発明に従う固体を、この目的のために通常の量で含み、及びこのような処方物の他の通常の成分を含む固体洗剤及びクリーナー処方物も本発明によって提供される。このような固体洗剤及びクリーナー処方物の組成及び通常の成分は、この技術分野の当業者にとって公知であり、及び従って、更に詳細に説明する必要はないものである。
【００４５】
以下に実施例を使用して、本発明をより詳細に説明する。使用したグリシン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸誘導体Ｉは、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（メチルグリシン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸、“ＭＧＤＡ”）３ナトリウム塩であった。
【００４６】
実施例
サイクロン、フィルター及び洗浄装置を備えたパイロット流動床スプレー−造粒装置（Ｇｌａｔｔからのｍｏｄｅｌ ＡＧＴ４００）を使用して以下の工程を行った。
【００４７】
実施例１
ＧＬＤＡの顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液（ＢＡＳＦ）で被覆することが、この実験の目的の一つであった。目標とする顆粒サイズは、２００〜１０００μｍであった。
【００４８】
実験手順及び結果
Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液を９０〜９５℃に加熱し、そしてＧＬＤＡ顆粒の最初の投入物上にスプレーした。これにより、顆粒を、所望の粒子スペクトル中に得た。１０００μｍ篩の上で、オーバーサイズの部分を篩い除去した。
【００４９】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １４０℃
導入空気量：１４００ｍ３／ｈ
生成物温度 １００〜１０４℃
排出空気温度：９８〜１０１℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約３５０〜４５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９０℃
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【００５０】
次の１０００μｍ上での保護篩を使用して、１５．９ｋｇの顆粒を分離した。オーバーサイズ部分の量は、６．０ｋｇであった。
【００５１】
実施例２
この実験の目的は、ＧＬＤＡとポリマー（ホモポリマー Ｓｏｋａｌａｎ ＰＡ ３０ ＣＬ（ＢＡＳＦ））の共−顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液で被覆することであった。被覆された顆粒の目標とする顆粒サイズ：２００〜１０００μｍ。
【００５２】
１０ｋｇのＴｒｉｌｏｎ Ｍ液を、９０〜９５℃に加熱し、そして共−顆粒の初期投入（１５ｋｇ）にスプレーした。これにより、顆粒が所望の顆粒スペクトル内に得られた。オーバーサイズ部分を１０００μｍ篩上で篩分けした。
【００５３】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １３０〜１４０℃
導入空気量：１２００ｍ３／ｈ
生成物温度 １０４〜１０６℃
排出空気温度：１００〜１０２℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約１００〜１５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９５℃
以下の試料の量を準備した。
【００５４】
１７．０ｋｇの顆粒（１０００μｍ上で篩分）。オーバーサイズ部分は、５．１ｋｇであった。
【００５５】
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【００５６】
実施例３
この実験の目的は、ＧＬＤＡとポリマー（ホモポリマー Ｓｏｋａｌａｎ ＰＡ ３０ ＣＬ（ＢＡＳＦ））の共−顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液で被覆することであった。被覆された顆粒の目標とする顆粒サイズ：２００〜１０００μｍ。
【００５７】
２０ｋｇのＴｒｉｌｏｎ Ｍ液を、９０〜９５℃に加熱し、そして共−顆粒の初期投入（１５ｋｇ）にスプレーした。これにより、顆粒が所望の顆粒スペクトル内に得られた。オーバーサイズ部分を１０００μｍ篩上で篩分けした。
【００５８】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １３０〜１４０℃
導入空気量：１２００ｍ３／ｈ
生成物温度 １０４〜１０６℃
排出空気温度：１００〜１０２℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約１００〜１５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９５℃
【００５９】
以下の試料の量を準備した。
２０．３ｋｇの顆粒（１０００μｍ上で篩分）。オーバーサイズ部分は、５．２ｋｇであった。
【００６０】
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【背景技術】
【０００１】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及びその塩及び／又は誘導体は、アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤として、非常に広い用途の技術分野で非常に興味を有るものである。
【０００２】
（例えば洗剤及びクリーナーに使用される）アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤は、通常、水溶液内で合成される。所定の用途のために、これらは固体状態であることが要求される。
【０００３】
溶液から固体を製造するための所定の方法は、特に、結晶化及びスプレー乾燥法である。（例えば蒸発による又は冷却結晶化法の間に製造されるような）結晶性固体は、結晶化の水を含むことができ、そして環境の条件下に、最も多くの場合、アモルファス固体（非結晶質固体）よりも吸湿性が低く、そして保管安定性が良好であることが公知である。一方、スプレー乾燥法を使用して（例えば、スプレータワー内で、又はスプレー流動床内で）、固体はアモルファス状態で得られる。この状態では、固体はしばしば吸湿性が高く、そして周囲条件下での開放した保管では、流動性能(ability to be poured)が短時間で失われる。その結果、スプレー粉の保管安定性を増す手段が、文献に記載されており、例えば、洗剤のための材料のコンパクション又は安息香酸を使用した後処理が特許文献１（ＵＳ３９３２３１６）に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＵＳ３９３２３１６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又は誘導体を含み、及び好ましくは加工と適用のために吸湿性が十分に低い固体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、好ましくは、例えば加工と適用のために十分な吸湿性を有する固体であって、以下の成分
ａ．グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又は誘導体（特に、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩）を含むコア、及び
ｂ．一般式Ｉ
【０００７】
【化１】
の化合物（又は２種以上の異なる化合物）を含む被覆物、
を含み、
ここで、式Ｉにおいて、
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル又はＣ２−〜Ｃ３０−アルケニルであって、追加的に置換基として５個以下のヒドロキシル基、ホルミル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、フェノキシ基又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有し、及び５個以下の非隣接酸素原子によって遮断されていても良いもの、式
−（ＣＨ２）ｋ−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｍ−（Ａ２Ｏ）ｎ−Ｙ
（但し、
Ａ１及びＡ２が、相互に独立して、２〜４個の炭素原子を有する１，２−アルキレン基であり、
Ｙが、水素、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキル、フェニル又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニルであり、及び
ｋが、１、２又は３の数であり、及び
ｍ及びｎが、それぞれ互いに独立して、０〜５０の数であり、そしてｍ＋ｎの合計が少なくとも４である）
のアルコキシレート基、アルキル内に１〜２０個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、窒素、酸素及び硫黄からの３個以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ−縮合が可能な、５−又は６−員の不飽和の又は飽和の複素環であり、
ここで、Ｒについての意味において特定される、全てのフェニル環及び複素環が、追加的に、置換基として、３個以下のＣ１−〜Ｃ４−アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基及び／又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有していても良く、又は
Ｒが、式
【０００８】
【化２】
【０００９】
（但し、
Ａが、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジ又は化学結合であり、及び
各Ｍが、相互に独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）（特に、各Ｍが、互いに独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アンモニウム、又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）
の基である、固体に関する。
【００１０】
本発明は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体（特にグルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩）を含む（又は、から成る）固体が種として最初に導入され、そして式Ｉの少なくとも１種の化合物と一緒にスプレー造粒又は（好ましくは、流動床装置内で）被覆することを特徴とする本発明に従う固体を製造する方法にも関する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
コア材料（該コア材料は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む）が粉として使用された場合、この粉は、スプレー造粒の間、上記粒子が被覆材料によって被覆される前に、好ましくは最初に、被覆材料（該被覆材料は一般式Ｉの化合物を含む）で塗りつけられて、より大きな粒子が形成される（造粒）。コア材料が最初に比較的大きい顆粒の状態で導入される場合、これらの顆粒は、スプレー造粒の間、好ましくは、被覆材料で直接的に被覆される（被覆）。
【００１２】
好ましくは、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又は塩は、式（ＩＩ）
Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム、又はアルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウム）及び／又は有機アミン（有機アミン塩）である）
の化合物である。特に好ましくは、そのＬ−フォームが好ましい。更に、ナトリウム塩が好ましい。
【００１３】
ＤＥ１９６４９６８１に記載されている式Ｉの化合物が特に好ましい。
【００１４】
本発明の方法のために、コア材料の粉及び／又は顆粒は、最初の投入（種）として、それ自体は通常の態様で、それ自体は公知の装置（好ましくは、流動床スプレー−造粒装置、例えばＧｌａｔｔからのＡＧＴ４００ｔｙｐｅのもの）に導入され、そして流動化される。ここで、３０μｍ〜３００μｍ（特に５０μｍ〜２００μｍ）の粒子径が、造粒のために好ましく、及び２００μｍ〜１０００μｍ（特に３００μｍ〜１０００μｍ）の粒子径が、被覆のために好ましい。
【００１５】
コア材料（ＧＬＤＡを含む材料）は乾燥した材料であることが好ましく、すなわち、特に、コア材料は、水分含有量が１０％未満（特に５％未満）であることが好ましい。
【００１６】
好ましくは、コア材料（ＧＬＤＡを含む材料）は、結晶化、スプレー乾燥、又は流動床造粒によって、それ自体は通常の態様で製造される。
【００１７】
種は、流動床中に浮遊状態（流動化）に保持され、そして（式Ｉの化合物を少なくとも１種含む）霧化された液滴の層状乾燥のための表面を形成する。このようにして形成された粒子は、製造の間、造粒を経て、（例えば、粒子径を自由に調整して、乾燥運転を中断することなく、フレキシブルな態様での分級排出を通って）乾燥空間から連続的に除去することができる。純粋な被覆を使用した製造の場合、バッチ運転が好ましい。
【００１８】
スプレー造粒法について、例えば、Ｈ．Ｕｈｌｅｍａｎｎ，Ｌ．Ｍｏｒｌ，“Ｗｉｒｂｅｌｓｃｈｉｃｈｔ−Ｓｐｒｕｈｇｒａｎｕｌａｔｉｏｎ［Ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ−ｂｅｄ−ｓｐｒａｙ−ｇｒａｎｕｌａｔｉｏｎ］”Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ２０００（ＩＳＢＮ３−５４０−６６９８５−Ｘ）が参照される。
【００１９】
本発明の方法では、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む固体が、種として最初に導入され、そして次に、それ自体は公知の方法で、式Ｉの少なくとも１種の化合物を使用したスプレー造粒／被覆が行われるもので、ここで式Ｉの少なくとも１種の化合物は、溶液中（特に水溶液、好ましくは約３５〜４３％濃度(strength)、特に好ましくは約３５〜４２％濃度、特に約４０％濃度）に存在することが好ましい。
【００２０】
好ましくは、以下のパラメーターを使用したスプレー−造粒／被覆が行われる：
好ましい導入空気温度：９０〜１６０℃、
好ましい生成物温度：５０〜１２０℃、
好ましい排出空気温度：４０〜１１０℃、
好ましい供給物温度：４０〜１００℃。
【００２１】
本発明に従う方法で、例えば液体原材料（例えば、３５〜４３％濃度、好ましくは３５〜４２％濃度、特に４０％濃度の、式Ｉの化合物の水溶液）が、熱い空気の流れ中で流動化している種（該種は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体を含む）にスプレーされ、その結果乾燥され、そして種が被覆されるか、又は造粒されそして次に被覆される。
【００２２】
流動床装置は、好ましくは例えば、サイクロン及び／又はフィルター及び／又は洗浄装置を備えた流動床スプレー−造粒機である。
【００２３】
ここで、固体は、非−吸湿性と称されるか、又は吸湿性が十分に低いもので、そして標準周囲条件、例えば２５℃、及び相対大気湿度が７６％での開放された保管において、少なくとも１日、好ましくは１週間の期間にわたり、（好ましくは自由流の）粉又は顆粒として、その一貫性を保つものである。
【００２４】
本発明に従う固体のコアは、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその塩及び／又はその誘導体、好ましくは一般式（ＩＩ）：
Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム、有機アミン、又はアルカリ金属（好ましくはナトリウム）である）
の化合物を含む。特に好ましくは、コアは、Ｌ−グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸テトラナトリウム塩（Ｃ９Ｈ９ＮＯ８Ｎａ４、例えば、ＣＡＳ Ｎｏ．：５１９８１−２１−６）を含む。好ましくはコア材料は、Ａｋｚｏ ＮｏｂｅｌからのＤｉｓｓｏｌｖｉｎｅ（登録商標）ＧＬを含む。
【００２５】
コアは、任意に、アルカリ土類金属イオン及び／又は重金属イオンのための１種以上の更なる錯化剤、例えばポリマー、例えばポリアクリレート、又はスルホン化ポリマー（例えば、スルホン化されたマルチポリマー、例えば、Ｒｏｏｍ ａｎｄ Ｈａａｓ（Ｄｏｗ）からのＡｃｕｓｏｌ５８８）、又はエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ、例えばＡｋｚｏ ＮｏｂｅｌからのＤｉｓｓｏｌｖｉｎｅ ＮＡ）、特にテトラナトリウム塩を含むことができる。
【００２６】
コアは、特に好ましくは、ＧＬＤＡ顆粒、又は共顆粒（すなわち、ＧＬＤＡの造粒を単純化する助剤、例えばポリカルボキシレートを有する顆粒）を含む。
【００２７】
本発明において、ＧＬＤＡという記載は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸(glutamic acid-N,N-diacetic acid;グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸)、又はここに記載される塩の一種（例えばテトラナトリウム塩）を意味する。
【００２８】
本発明に従い製造される固体は、被覆物として、好ましくは基本的に、式Ｉの化合物を含む。ここで、式Ｉの化合物の製造からの、少量の出発材料及び／又は副生成物が、追加的に存在しても良い。使用する合成方法に依存して、化合物Ｉの通常の純度は、それぞれ固体含有量に対して、７０〜９９．９質量％、特に８０〜９９．５質量％である。
【００２９】
本発明のために、式Ｉの化合物（但し、Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２−〜Ｃ２０−アルケニル、又は以下の式
【００３０】
【化３】
の基である）が特に適切である。
【００３１】
式Ｉの化合物として、特に好ましくは、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（Ｒ＝ＣＨ３、ＭＧＤＡ）及びその塩を使用することが好ましい。例えば、そのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、及び置換されたアンモニウム塩を使用することが好ましい。
【００３２】
このような塩として適切なものは、主としてナトリウム、カリウム、及びアンモニウム塩、特に３ナトリウム、３カリウム、及び３アンモニウム塩、及び３級窒素原子(tertiary nitrogen atom)を有する有機３アミン塩である。有機アミン塩が基礎をなす適切な塩基は、特に、第３級アミン、例えばアルキル中に１〜４個の炭素原子を有するトリアルキルアミン、例えばトリメチル−及びトリエチルアミン、及びトリアルカノールアミンで、２又は３個の炭素原子をアルカノール基内に有するもの、好ましくはトリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、又はトリイソプロパノールアミンである。
【００３３】
使用されるアルカリ土類金属塩は、特にカルシウム及びマグネシウム塩である。
【００３４】
メチルの他に、直鎖状又は枝分かれしたアルキレン基(alk(en)yl radical)のために適切なものは、特に、Ｃ２−〜Ｃ１７−アルキル及び−アルケニルで、ここで特に、飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導される直鎖状基が適切である。
【００３５】
個々の基Ｒの例は：エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、セク−ブチル−、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、３−ヘプチル（２−エチルヘキサノン酸から誘導されるもの）、ｎ−オクチル、イソオクチル（イソノナン酸から誘導されるもの）、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、イソドデシル（イソトリデカノン酸から誘導されるもの）、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、及びｎ−ヘプタデセニル（オレイン酸から誘導されるもの）である。Ｒのために、混合物も可能であり、特に、天然由来の脂肪酸から誘導されるものと、合成して（例えばオキソ合成によって）製造される工業銘柄の酸から誘導されるものの混合物も可能である。
【００３６】
Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジＡは、特に、式（ＣＨ２）ｋ（ここでｋは、２〜１２の数、特に２〜８の数である）のポリメチレン基、すなわち１，２−エチレン、１,３−プロピレン、１,４−ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメレン、デカメチレン、ウンデカメチレン、及びドデカメチレンである。ここで、ヘキサメチレン、オクタメチレン、１，２−エチレン、及び１，４−ブチレンが特に好ましい。更に、しかしながら、枝分れしたＣ３−〜Ｃ１２−アルキレン基も可能であり、例えば−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−、又は−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−も可能である。
【００３７】
Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル及びＣ２−〜Ｃ３０−アルケニル基は、（特定のタイプの、及び５つ以下、特に３つ以下の非隣接の酸素原子で遮断された）５つ以下、特に３つ以下の追加的な置換基を有することができる。このような置換されたアルケニル基(alk(en)yl group)は、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨＯ、−ＣＨ２−ＯＰｈ、−ＣＨ２−ＣＯＯＣＨ３、又は−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯＣＨ３である。
【００３８】
適切なアルコキシ（レート）基は、特に、ｍ及びｎが、各場合において、互いに独立して、０〜３０の数、特に０〜１５の数のものである。Ａ１Ｏ及びＡ２Ｏは、好ましくは、ブチレンオキシドから誘導される基、及び特に、プロピレンオキシドから誘導される基、及びエチレンオキシドから誘導される基である。特に興味のあるものは、純粋なエトキシレート及び純粋なプロポキシレートであり、しかしエチレンオキシド−プロピレンオキシドブロック構造も考えられる。
【００３９】
適切な５員−又は６員の不飽和の、又は飽和した、窒素、酸素及び硫黄からの３つ以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ縮合されることが可能で、及び上記に指定した基で置換されることができる複素環は、例えば：テトラヒドロフラン、フラン、テトラヒドロチオフェン、チオフェン、２，５−ジメチルチオフェン、ピロリジン、ピロリン、ピロール、イソキサゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、イミダゾリン、イミダゾール、１，２，３−トリアゾリジン、１，２，３−及び１，２，４−トリアゾール、１，２，３−、１，２，４−及び１，２，５−オキサジアゾール、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、２Ｈ−及び４Ｈ−ピラン、ピペリジン、１，３−及び１，４−ジオキサン、モルホリン、ピラザン、ピリジン、α−、β−及びγ−ピコリン、α−及びγ−ピペリドン、ピペリジン、ピリダジン、ピラジン、１，２，５−オキサチアジン、１，３，５−、１，２，３−及び１，２，４−トリアジン、ベンゾフラン、チオネフテン、インドリン、インドール、イソインドリン、ベンゾキサゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、クロマン、イソクロマン、２Ｈ−及び４Ｈ−クロマン、キノリン、イソキノリン、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、フタラジン及びベンゾ−１，２，３−トリアジンである。
【００４０】
特定の複素環中のＮ−Ｈ基は、例えば、Ｎ−アルキル基（例えば、１〜１２個の炭素原子を有する）として、可能な限り誘導された状態で存在するべきである。
【００４１】
フェニル環又は複素環上で置換する場合、好ましくは２つ（同一又は異なる）、又は特に１つの置換基が現れる。
【００４２】
Ｒについて、任意に置換されたフェニルアルキル基、及び複素環を有するアルキル基の例は、ベンジル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−ヒドロキシルベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−カルボキシルベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−スルホベンジル、ｏ−、ｍ−、又はｐ−メトキシ又は−エトキシカルボニルベンジル、２−フリルメチル、Ｎ−メチルピペリジン−４−イルメチル、又は２−，３−又は４−ピリジニルメチルである。
【００４３】
フェニル環及び複素環の置換のために、水溶化基、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、又はスルホ基を使用することが好ましい。特定のＣ１−〜Ｃ４−、Ｃ１−〜Ｃ１２−及びＣ１−〜Ｃ２０−アルキル基の例は、Ｒについて上述した対応する基を意味するとも理解される。
【００４４】
本発明に従う固体は、固体洗剤及びクリーナー処方物のための（特定の度合での）成分として適切である。そして、アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンのための錯化剤として、本発明に従う固体を、この目的のために通常の量で含み、及びこのような処方物の他の通常の成分を含む固体洗剤及びクリーナー処方物も本発明によって提供される。このような固体洗剤及びクリーナー処方物の組成及び通常の成分は、この技術分野の当業者にとって公知であり、及び従って、更に詳細に説明する必要はないものである。
【００４５】
以下に実施例を使用して、本発明をより詳細に説明する。使用したグリシン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸誘導体Ｉは、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（メチルグリシン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸、“ＭＧＤＡ”）３ナトリウム塩であった。
【００４６】
実施例
サイクロン、フィルター及び洗浄装置を備えたパイロット流動床スプレー−造粒装置（Ｇｌａｔｔからのｍｏｄｅｌ ＡＧＴ４００）を使用して以下の工程を行った。
【００４７】
実施例１
ＧＬＤＡの顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液（ＢＡＳＦ）で被覆することが、この実験の目的の一つであった。目標とする顆粒サイズは、２００〜１０００μｍであった。
【００４８】
実験手順及び結果
Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液を９０〜９５℃に加熱し、そしてＧＬＤＡ顆粒の最初の投入物上にスプレーした。これにより、顆粒を、所望の粒子スペクトル中に得た。１０００μｍ篩の上で、オーバーサイズの部分を篩い除去した。
【００４９】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １４０℃
導入空気量：１４００ｍ３／ｈ
生成物温度 １００〜１０４℃
排出空気温度：９８〜１０１℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約３５０〜４５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９０℃
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【００５０】
次の１０００μｍ上での保護篩を使用して、１５．９ｋｇの顆粒を分離した。オーバーサイズ部分の量は、６．０ｋｇであった。
【００５１】
実施例２
この実験の目的は、ＧＬＤＡとポリマー（ホモポリマー Ｓｏｋａｌａｎ ＰＡ ３０ ＣＬ（ＢＡＳＦ））の共−顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液で被覆することであった。被覆された顆粒の目標とする顆粒サイズ：２００〜１０００μｍ。
【００５２】
１０ｋｇのＴｒｉｌｏｎ Ｍ液を、９０〜９５℃に加熱し、そして共−顆粒の初期投入（１５ｋｇ）にスプレーした。これにより、顆粒が所望の顆粒スペクトル内に得られた。オーバーサイズ部分を１０００μｍ篩上で篩分けした。
【００５３】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １３０〜１４０℃
導入空気量：１２００ｍ３／ｈ
生成物温度 １０４〜１０６℃
排出空気温度：１００〜１０２℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約１００〜１５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９５℃
以下の試料の量を準備した。
【００５４】
１７．０ｋｇの顆粒（１０００μｍ上で篩分）。オーバーサイズ部分は、５．１ｋｇであった。
【００５５】
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【００５６】
実施例３
この実験の目的は、ＧＬＤＡとポリマー（ホモポリマー Ｓｏｋａｌａｎ ＰＡ ３０ ＣＬ（ＢＡＳＦ））の共−顆粒を、Ｔｒｉｌｏｎ Ｍ液で被覆することであった。被覆された顆粒の目標とする顆粒サイズ：２００〜１０００μｍ。
【００５７】
２０ｋｇのＴｒｉｌｏｎ Ｍ液を、９０〜９５℃に加熱し、そして共−顆粒の初期投入（１５ｋｇ）にスプレーした。これにより、顆粒が所望の顆粒スペクトル内に得られた。オーバーサイズ部分を１０００μｍ篩上で篩分けした。
【００５８】
以下の処理パラメーターで、被覆を安定して行うことができた：
導入空気温度 １３０〜１４０℃
導入空気量：１２００ｍ３／ｈ
生成物温度 １０４〜１０６℃
排出空気温度：１００〜１０２℃
スプレー圧：２．０バール
スプレー速度：約１００〜１５０ｇ／ｍｉｎ
保管容器：９５℃
【００５９】
以下の試料の量を準備した。
２０．３ｋｇの顆粒（１０００μｍ上で篩分）。オーバーサイズ部分は、５．２ｋｇであった。
【００６０】
上述した処理パラメーターを確立した後、安定した処理を達成することができた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体であって、以下の成分、
ａ．グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸及び／又はその塩及び／又は誘導体を含むコア、及び
ｂ．一般式Ｉ
【化１】
の化合物を含む被覆物、
を含み、
ここで、一般式Ｉにおいて、
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル又はＣ２−〜Ｃ３０−アルケニルであって、追加的に置換基として５個以下のヒドロキシル基、ホルミル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、フェノキシ基、又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有し、及び５個以下の非隣接酸素原子によって遮断されていても良いもの、式
−（ＣＨ２）ｋ−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｍ−（Ａ２Ｏ）ｎ−Ｙ
（但し、
Ａ１及びＡ２が、相互に独立して、２〜４個の炭素原子を有する１，２−アルキレン基であり、
Ｙが、水素、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキル、フェニル又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニルであり、及び
ｋが、１、２又は３の数であり、及び
ｍ及びｎが、それぞれ互いに独立して、０〜５０の数であり、そしてｍ＋ｎの合計が少なくとも４である）
のアルコキシレート基、アルキル内に１〜２０個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、窒素、酸素及び硫黄からの３つ以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ−縮合が可能な、５−又は６−員の不飽和の又は飽和の複素環であり、
ここで、Ｒについての意味において特定される、全てのフェニル環及び複素環が、追加的に、置換基として、３つ以下のＣ１−〜Ｃ４−アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基及び／又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有していても良く、又は
Ｒが、式
【化２】
（但し、
Ａが、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジ又は化学結合であり、及び
各Ｍが、相互に独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）
の基である、ことを特徴とする固体。
【請求項２】
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルケニル、又は式
【化３】
の基であることを特徴とする請求項１に記載の固体。
【請求項３】
被覆物が、基本的に、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＭＧＤＡ）又はそのアルカリ性金属、アンモニウム又は置換されたアミン塩から成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の固体。
【請求項４】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又は塩又は誘導体が式（ＩＩ） Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム及び／又はアルカリ金属又は有機アミンである）
の化合物であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の固体。
【請求項５】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその誘導体及び／又はその塩を含む固体が種として最初に導入され、そして式Ｉの少なくとも１種の化合物と一緒にスプレー造粒することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の固体を製造する方法。
【請求項６】
式Ｉの化合物の水溶液が、スプレー造粒のために使用されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンの錯化剤としての、請求項１〜４の何れか１項に記載の固体を含む固体洗浄剤、又はクリーナー処方物。
【請求項１】
固体であって、以下の成分、
ａ．グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸及び／又はその塩及び／又は誘導体を含むコア、及び
ｂ．一般式Ｉ
【化１】
の化合物を含む被覆物、
を含み、
ここで、一般式Ｉにおいて、
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ３０−アルキル又はＣ２−〜Ｃ３０−アルケニルであって、追加的に置換基として５個以下のヒドロキシル基、ホルミル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、フェノキシ基、又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有し、及び５個以下の非隣接酸素原子によって遮断されていても良いもの、式
−（ＣＨ２）ｋ−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｍ−（Ａ２Ｏ）ｎ−Ｙ
（但し、
Ａ１及びＡ２が、相互に独立して、２〜４個の炭素原子を有する１，２−アルキレン基であり、
Ｙが、水素、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキル、フェニル又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニルであり、及び
ｋが、１、２又は３の数であり、及び
ｍ及びｎが、それぞれ互いに独立して、０〜５０の数であり、そしてｍ＋ｎの合計が少なくとも４である）
のアルコキシレート基、アルキル内に１〜２０個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、窒素、酸素及び硫黄からの３つ以下のヘテロ原子を有し、追加的にベンゾ−縮合が可能な、５−又は６−員の不飽和の又は飽和の複素環であり、
ここで、Ｒについての意味において特定される、全てのフェニル環及び複素環が、追加的に、置換基として、３つ以下のＣ１−〜Ｃ４−アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基及び／又はＣ１−〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基を有していても良く、又は
Ｒが、式
【化２】
（但し、
Ａが、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキレンブリッジ又は化学結合であり、及び
各Ｍが、相互に独立して、対応する化学量論量における、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は置換されたアンモニウム（例えば、有機アミン塩）である）
の基である、ことを特徴とする固体。
【請求項２】
Ｒが、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１−〜Ｃ２０−アルケニル、又は式
【化３】
の基であることを特徴とする請求項１に記載の固体。
【請求項３】
被覆物が、基本的に、α−アラニン−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＭＧＤＡ）又はそのアルカリ性金属、アンモニウム又は置換されたアミン塩から成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の固体。
【請求項４】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又は塩又は誘導体が式（ＩＩ） Ｍ１ＯＯＣ−（ＣＨ２）２−ＣＨ（ＣＯＯＭ１）−Ｎ（ＣＨ２ＣＯＯＭ１）２ （ＩＩ）
（但し、Ｍ１が、水素、アンモニウム及び／又はアルカリ金属又は有機アミンである）
の化合物であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の固体。
【請求項５】
グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸（ＧＬＤＡ）及び／又はその誘導体及び／又はその塩を含む固体が種として最初に導入され、そして式Ｉの少なくとも１種の化合物と一緒にスプレー造粒することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の固体を製造する方法。
【請求項６】
式Ｉの化合物の水溶液が、スプレー造粒のために使用されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
アルカリ土類金属イオン及び重金属イオンの錯化剤としての、請求項１〜４の何れか１項に記載の固体を含む固体洗浄剤、又はクリーナー処方物。
【公表番号】特表２０１３−５１６５０２（Ｐ２０１３−５１６５０２Ａ）
【公表日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５４６３８８（Ｐ２０１２−５４６３８８）
【出願日】平成２２年１２月２７日（２０１０．１２．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／００７９４６
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０７９９４０
【国際公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【出願人】（５０８０２０１５５）ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア (2,842)
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ ＳＥ
【住所又は居所原語表記】Ｄ−６７０５６ Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２７日（２０１０．１２．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／００７９４６
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０７９９４０
【国際公開日】平成２３年７月７日（２０１１．７．７）
【出願人】（５０８０２０１５５）ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア (2,842)
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ ＳＥ
【住所又は居所原語表記】Ｄ−６７０５６ Ｌｕｄｗｉｇｓｈａｆｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
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